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电动工具
本申请公开了一种电动工具,包括机壳、电机、主轴和执行组件,执行组件包括转动件和输出件,转动件在与主轴连接时能够被主轴驱动绕第一轴线转动,输出件用于连接工作附件,输出件与转动件转动连接,输出件相对转动件绕第二轴线转动,第二轴线与第一轴线平行且...
电动工具
本申请公开了一种电动工具,该电动工具包括机壳、电机、主轴和传动组件,电机设置于电机壳体内,电机包括电机轴、定子和转子,电机轴能够绕电机轴线转动;主轴能相对机壳绕第一轴线转动;传动组件用于在电机轴与主轴之间传递动力;传动组件包括第一传动轮、第...
一种抛光机
本发明公开了一种抛光机,包括工作头、叶轮、电机、散热件和外壳组件,电机用于驱动所述工作头和所述叶轮旋转;散热件位于所述电机的壳体和所述叶轮之间,且环绕于所述电机的转轴的外部;所述电机和所述散热件均设于所述外壳组件内,所述外壳组件和所述壳体之...
一种低合金钢立柱底座抛光装置
本发明公开了一种低合金钢立柱底座抛光装置,包括加工台及其两侧配置的移动座与夹板构成的工件固定系统,加工台外侧通过电动杆连接顶板,顶板内嵌主控电路板,顶板下方设置由第三驱动电机驱动的竖向丝杠,其表面套设的竖滑块连接由第四驱动电机驱动的横向丝杠...
一种阀加工端口多向抛光修整装置及其辅抛机构
本发明公开了一种阀加工端口多向抛光修整装置及其辅抛机构,包括升降杆,所述升降杆的上端表面安装有横移杆,所述横移杆的右端滑动安装有吊装盘,所述吊装盘的右端安装有螺帽,通过升降杆的升降调节,可改变羊毛轮距离阀的垂直高度,根据不同阀的型号大小,进...
一种异形玻璃产品双面抛光装置
本发明涉及光学玻璃打磨技术领域,具体为一种异形玻璃产品双面抛光装置,包括工作台、夹台、用于将所述夹台上的椭圆反射镜夹住所采用的抛光夹具、设置于夹台后侧的打磨机构、以及用于驱动所述抛光夹具往返于打磨机构和夹台之间所采用的移动滑台,所述移动滑台...
一种汽车轮毂打磨设备
本申请提供了一种汽车轮毂打磨设备,属于汽车轮毂技术领域,该装置包括:底座、翻砂机构与夹持机构,其中,翻砂机构,设置在底座上,翻砂机构包括:磨料筒,与底座转动连接,磨料筒呈圆环状,两侧为开放式腔体,腔体的深度大于轮毂的高度,磨料筒转动对磨料翻...
一种金属零件抛光设备
本发明涉及抛光设备技术领域,具体说是一种金属零件抛光设备,包括抛光机构,所述抛光机构固定连接在用于更换磨料的换料机构的上方,所述抛光机构包括振动箱,所述振动箱内设有用于去除破碎磨料的筛分机构,所述振动箱内还设有用于分离金属零件和磨料的分离机...
一种精密零件高效抛光装置及其工艺
本发明属于抛光装置技术领域,且公开了一种精密零件高效抛光装置及其工艺,包括机体,机体的顶端设置有桶体,桶体的底部设置有排液组件,桶体的内部嵌入有置物框,置物框顶端的两侧皆固定连接有把手,排液组件包括嵌入在桶体底部的堵块,堵块的底端固定连接有...
一种双旋向螺杆驱动进给装置、其控制方法及清洗装置
本发明提供了一种双旋向螺杆驱动进给装置、其控制方法及清洗装置,进给装置包括驱动装置、圆筒状的壳体以及与壳体同轴活动设置的双旋向螺杆,双旋向螺杆包括左旋螺杆和右旋螺杆,左旋螺杆和右旋螺杆上均连接有滚珠螺母,滚珠螺母和壳体转动连接;双旋向螺杆的...
一种大长径比珩磨杆的精密修整工具及修整方法
本发明公开了一种大长径比珩磨杆的精密修整工具及修整方法,修整工具包括珩磨杆修整单元和推力调控单元,通过旋转推力调控单元中推力调节旋钮推动推片座带动推片沿珩磨杆修整单元中修整器芯轴套的导向槽向轴向移动,使得推片沿修整器芯轴套的径向方向移动施加...
一种微结构工件的全自动切割方法
本发明涉及材料加工,具体涉及一种微结构工件的全自动切割方法,将工件放置于工作盘上,并使用夹具将工件固定于工作盘上;工作盘带动工件旋转至第一切割通道对应的指定角度位置,确定第一通道切割起始点,并进行切割;工作盘带动工件旋转至第二切割通道对应的...
全自动LCD研磨盘清洗方法、装置及电子设备
本发明公开了一种全自动LCD研磨盘清洗方法、装置及电子设备,属于LCD技术领域,包括通过中央控制系统控制入料对位模块接收LCD面板,且将定位后的所述LCD面板输送至前毛刷清洁模块;通过前毛刷清洁模块对所述LCD面板进行粗清洁;通过中央控制系...
阀瓣加工设备
本申请属于阀瓣加工技术领域,尤其涉及一种阀瓣加工设备,阀瓣加工设备包括机架、承载件、磨削机构、移动机构、三维扫描机构和控制装置;承载件连接于机架,承载件用于承载阀瓣;磨削机构连接于机架;移动机构连接于机架;移动机构与承载件和磨削机构连接,移...
一种晶圆化学机械平坦化控制系统及晶圆化学机械平坦化控制方法
本发明公开了一种晶圆化学机械平坦化控制系统,其特征在于,包括:化学机械平坦化系统,用于对晶圆抛光处理;一体化检测系统,用于获取晶圆平坦度信息;APC数据分析系统,用于获取一体化检测系统的晶圆平坦度信息,及控制系统的晶圆抛光工艺参数,并生成晶...
化学机械抛光磨粒轨迹优化方法
本发明公开了一种化学机械抛光磨粒轨迹优化方法,涉及化学机械抛光技术领域,解决现有技术中规律磨粒轨迹导致光学元件性能降低的问题。该方法通过构建磨粒轨迹模型,采用元件/主轴转速比为1 : 2的大比例转速比进行模拟研究,分别模拟不同主轴摆动速度大...
研磨控制方法、装置和化学机械研磨设备
本申请涉及一种研磨控制方法、装置和化学机械研磨设备。所述方法包括对目标晶圆进行第一研磨阶段的化学机械研磨操作,在检测到目标晶圆的表面厚度达到目标终点厚度时,停止第一研磨阶段的化学机械研磨操作,对目标晶圆进行第二研磨阶段的化学机械研磨操作,其...
一种具有自清洁功能的双面研磨机
本发明公开了一种具有自清洁功能的双面研磨机,采用了行星轮系复合运动模式,通过驱动盘上的第一齿圈与固定环形护板上的第二齿圈同时与清洁齿盘啮合,迫使清洁齿盘在驱动盘带动下进行自转的同时,环绕驱动盘进行公转,使得单个或多个清洁齿盘能够高效、均匀地...
一种单模多通道MT裸插芯端面研磨处理装置
本发明公开了一种单模多通道MT裸插芯端面研磨处理装置,包括加工机体,所述加工机体上设置有升降机构,所述升降机构下方设置有自动伸缩杆,所述自动伸缩杆的底端固定连接有用于固定MT裸插芯的置物盘;轮换组件,所述轮换组件设置于所述加工机体上并与所述...
研磨抛光垫及其制备方法和应用
本发明提供了一种研磨抛光垫及其制备方法和应用。所述研磨抛光垫包括复合研磨层,每一研磨层由单一尺寸磨料和紫外光固化树脂结合剂均匀混合组成,所述复合研磨层至少包括大粒度研磨层、中粒度研磨层和小粒度研磨层,且所述大粒度研磨层、中粒度研磨层和小粒度...
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