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  • 本申请涉及抛光的技术领域,具体为一种抛光装置和异形产品抛光方法,其中抛光装置包括:安装平台、移动组件、固定组件和抛光组件。移动组件设置在安装平台上。固定组件包括第一仿形治具和第二仿形治具,第一仿形治具和第二仿形治具均设置在移动组件上,第一仿...
  • 本发明的C型金属封严环激光焊接熔合面的抛光装置,适用于C型金属封严环切口的加工,包括L型结构设置的上壳体、下壳体、抛光轮和驱动组件,其中,所述上壳体以透明材料制成,其一端与下壳体顶面宽度方向一侧边铰接,另一端为自由端,能够绕下壳体转动;下壳...
  • 本发明涉及纺织机械技术领域,公开了一种高精度高一致性单面织针抛光装置及使用方法,装置包括操作台,所述操作台的上表面设置有外壳,所述外壳的顶端设置有电机一,所述电机一的输出端贯穿外壳固定设置有螺纹杆一,所述外壳的顶端一侧设置有冷却机构,所述螺...
  • 本发明公开了一种水龙头生产的弯弧抛光装置,包括工作台,工作台的顶部外壁固定有支板一,支板一的一侧外壁转动连接有连接板,连接板的一端固定有安装壳,安装壳的一侧外壁轴承连接有抛光轮一和抛光轮二,安装壳的一侧设置有用于抛光轮一和抛光轮二旋转的驱动...
  • 本发明公开了一种晶硅板材侧边抛光装置,涉及晶硅板加工技术领域,包括机架,机架顶部安装有主传送带以及用于对晶硅板侧壁抛光的抛光装置,机架上安装有链板输送机,链板输送机与抛光装置的位置对应,链板输送机上安装有用于对晶硅板底面吸附定位的吸附组件。...
  • 本发明公开了应用于抛光领域的一种异型曲面玻璃抛光装置,通过环状气囊对异型曲面玻璃进行柔性抛光,利用其转动离心力减少抛光区碎屑残留以提升表面质量,同时借助内设弧形通道与喷孔的喷淋罩将切削液均匀喷射至气囊外壁并引导流向抛光区域,从而提高润滑均匀...
  • 本发明公开了一种台球抛光清洁机,包括固定安装在机架顶端的物料供给组件上料滑道、上料口;环形槽组围绕抛光轮呈开口环形设置,环形槽组与抛光轮构成抛光作业通道; 偏转轮位于所述抛光作业通道中与控速叶轮固定连接,偏转轮围绕抛光轮转动,物料台球进入入...
  • 本发明公开了一种用于传动轴加工的多工位抛光设备及其使用方法,涉及传动轴抛光技术领域。本发明包括底架,还包括粒度调节组件,粒度调节组件包括滑轨,滑轨与底架之间固定连接,底架侧面固定连接有第一电机,滑轨内贯穿转动连接有丝杆,第一电机输出端与丝杆...
  • 本发明提供一种液压零件生产用底管抛光设备,涉及液压缸缸筒加工技术领域,包括:设备底座;所述缸筒支撑座外侧呈环形排列固定有三块定位支撑板,定位支撑板的一侧都滑动安装有一个滚筒支撑架,滚筒支撑架上都转动安装有一根缸筒定位滚筒;所述上支撑架上滑动...
  • 本发明涉及抛光机技术领域,尤其涉及一种多工位自动抛光机;其技术方案包括:加工架;固定连接在加工架上的加工筒;转动连接在加工筒内的内筒;设于加工筒与内筒之间的第一驱动组件;内筒的内壁上设有竖向刻槽;覆盖在加工筒顶部的筒盖;设于加工筒与筒盖之间...
  • 本发明提供一种零部件加工用抛光装置,涉及零部件抛光加工领域,包括:磁力抛光机;所述磁力抛光机顶部安装有支撑主架体,支撑主架体底部内安装有塑料抛光桶;所述磁力抛光机外侧安装有一号驱动电机,一号驱动电机外部连接有同步齿带。本发明通过活动输送件对...
  • 本发明提供一种用于化学机械抛光机台的掉钻检测装置,包括基座,设置于机台的腔室内;研磨垫,设置于基座上;修整器,设置于研磨垫上,用于修理研磨垫;激光散射传感器,设置于机台的研磨腔室内,配置为向研磨垫表面投射激光,并接收因修整器脱落颗粒而产生的...
  • 本发明公开了一种基于预氧化的碳化硅陶瓷高效低损伤研磨方法,包括如下步骤:1)采用热氧化方法在硅基底晶圆的表层形成二氧化硅层;2)对步骤1)中硅基底晶圆表层形成的二氧化硅层进行化学机械抛光,得到符合要求的硅基底晶圆。本发明通过对硅基底晶圆进行...
  • 本发明提供一种纳米研磨工艺的自适应调整方法及系统,通过获取力信号数据、声发射信号数据、温度信号数据以及振动信号数据并组成为研磨数据,对研磨数据进行特征提取,获取特征参数,并结合经验小波变换获取研磨状态,通过拓扑数据分析和隐马尔科夫模型对研磨...
  • 本发明涉及手机壳抛光打磨技术领域,且公开了一种金属手机壳抛光打磨设备,包括工作机台和连接板,所述连接板的下表面设置有随动涂抹机构。该金属手机壳抛光打磨设备,通过由驱动电机、传动轴、齿轮一、齿条一、连接弹簧及阀门等部件的主体部分,将抛光打磨轮...
  • 本发明涉及磁粒研磨技术领域,具体涉及一种兼具喷丸与抛光功能的磁粒研磨装置,主要解决现有技术中因喷丸和抛光功能无法集成导致的设备成本高、工作效率低等缺陷以及现有喷丸和抛光装置无法适用于较长管道的缺陷。本装置包括往复直线驱动副、磁场发生组件和行...
  • 本申请涉及一种抛光装置及控制方法、CMP设备,包括抛光头和控制组件。抛光头包括基座、多个主气囊、次气囊和保持环。多个主气囊设置于基座的基面,部分主气囊作为第一气囊,另一部分主气囊作为第二气囊,第二气囊上设置有与外界连通的吸附通道。保持环设置...
  • 本发明提供一种摆动式球面研磨装置及使用方法,包括支架,支架上固定有球面外壳,球面外壳内部套设有球面内壳,球面外壳内球面与球面内壳外球面通过球面转动配合;球面内壳内套设有用于夹紧工件的工装夹具;球面内壳与箱体连接,箱体内设有旋转驱动组件,旋转...
  • 本发明公开了提供一种改善双面抛光晶圆背面格布印缺陷的方法,适用于12英寸晶圆双面抛光。该方法包括以下步骤:(1)将数个游星轮置于双面抛光机下盘上,将晶圆置于各个游星轮内衬孔位中;(2)对晶圆进行双面抛光加工,该加工包括5个阶段,优化双面抛光...
  • 本发明提供一种研磨头及抛光设备,研磨头包括保持环和耐磨耐蚀结构,保持环用于将晶圆固定在内,保持环的轴向一端面为研磨面;多个耐磨耐蚀结构沿保持环的周向依次间隔地设置在研磨面上。当保持环夹持晶圆在抛光设备的抛光垫上研磨时,通过在保持环上依次设置...
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