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最新专利技术
  • 一种光学邻近效应修正优化方法
    一种光学邻近效应修正优化方法_合肥晶合集成电路股份有限公司_202511544772.6
    本发明提供一种光学邻近效应修正优化方法，包括以下步骤：提供一初始版图，将所述初始版图划分为若干个小区块，所述小区块包括主图形区域和围设在所述主图形区域的扩展区域，每个所述小区块均与相邻的所述小区块的扩展区域重叠；对每个所述小区块OPC修正和...
    2026-04-05
  • 一种用于芯片制造的新型超高分辨光刻工艺-原子引导光刻方法
    一种用于芯片制造的新型超高分辨光刻工艺-原子引导光刻方法_清华大学_202511240601.4
    本发明涉及一种用于芯片制造的新型超高分辨光刻工艺‑原子引导光刻方法。该方法包括：(A1)在基底的表面上构筑具有原子级周期结构的晶体层；(A2)在所述晶体层的表面上通过涂覆墨水A形成光刻胶层A，所述墨水A为包含光刻胶A的溶液，所述光刻胶A为嵌...
    2026-04-05
  • 驱动基板的制备方法、驱动基板、显示面板及显示终端
    驱动基板的制备方法、驱动基板、显示面板及显示终端_惠科股份有限公司_202511233817.8
    本申请公开了一种驱动基板的制备方法、驱动基板、显示面板及显示终端，涉及显示技术领域，该制备方法包括：利用半色调掩膜版对设有光阻层的像素电极层进行曝光，在像素电极层上形成无光阻区、半光阻区和全光阻区；半光阻区与像素电极层的保护区相对，全光阻区...
    2026-04-05
  • 一种Z轴驱动自对焦光刻装置
    一种Z轴驱动自对焦光刻装置_苏州天准科技股份有限公司_202511135188.5
    本发明提供了一种Z轴驱动自对焦光刻装置，属于光刻或曝光加工技术领域，包括Z轴驱动模组、曝光镜筒和测高激光器；曝光镜筒连接至Z轴驱动模组，测高激光器布置在曝光镜筒上游；Z轴驱动模组根据测高激光器检测的加工面高度调节曝光镜筒的高度，实现光刻加工...
    2026-04-05
  • 曝光装置、曝光方法和物品的制造方法
    曝光装置、曝光方法和物品的制造方法_佳能株式会社_202510694882.4
    本发明涉及一种曝光装置、曝光方法和物品的制造方法，提升光学单元的耐久性。一种曝光装置，将原版的图案的像曝光到基板，其中，所述曝光装置具有配置于来自光源的光通过的光路的光学元件、配置于所述光学元件的多个部位并使所述光学元件发生变形的多个驱动部...
    2026-04-05
  • 一种端面耦合器的制备方法、装置、设备及存储介质
    一种端面耦合器的制备方法、装置、设备及存储介质_张江国家实验室_202410713001.4
    本申请实施例提供了一种端面耦合器的制备方法、装置、设备及存储介质，涉及光电子技术领域，该方法为：通过电子束曝光技术制备端面耦合器的模板；模板的图形与端面耦合器的图形一致；基于模板，制备模板的多个子模，子模的图形与模板的图形相互契合；通过多个...
    2026-04-05
  • 具有可调节的表面性质的光致聚合的浮雕前体
    具有可调节的表面性质的光致聚合的浮雕前体_恩熙思德国有限公司_202511424652.2
    本申请涉及一种具有可调节的表面性质的光致聚合的浮雕前体。具体地，本发明涉及一种光致聚合的浮雕前体，包括(A)尺寸稳定的载体，(B)光致聚合的浮雕形成层，该光致聚合的浮雕形成层至少包含可交联的弹性体粘合剂、烯属不饱和单体、能够迁移的表面活性添...
    2026-04-05
  • 抗蚀剂组成物及图案形成方法
    抗蚀剂组成物及图案形成方法_信越化学工业株式会社_202510734569.9
    本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供高感度、高分辨率且边缘粗糙度、尺寸偏差小而曝光后的图案形状良好的抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明的解决手段为一种抗蚀剂组成物，其含有树脂(A)、下述式(b1)表示的光分解性淬灭剂及...
    2026-04-05
  • 抗蚀剂组成物及图案形成方法
    抗蚀剂组成物及图案形成方法_信越化学工业株式会社_202510734566.5
    本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中，感度、分辨度及LWR优良、稳定且操作也容易的抗蚀剂组成物，以及提供使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂组成物，含有：具有金属原子、...
    2026-04-05
  • 抗蚀剂底层组合物以及使用所述组合物形成图案的方法
    抗蚀剂底层组合物以及使用所述组合物形成图案的方法_三星SDI株式会社_202510731820.6
    公开一种抗蚀剂底层组合物以及使用所述抗蚀剂底层组合物形成图案的方法，所述抗蚀剂底层组合物包含聚合物及溶剂，所述聚合物包括由化学式1表示的结构单元、由化学式2表示的结构单元及由化学式3表示的结构单元。[化学式1][化学式2][化学式3]
    2026-04-05
  • 抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案的制造方法和镀敷造型物的制造方法
    抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案的制造方法和镀敷造型物的制造方法_住友化学株式会社_202510728859.2
    本发明的课题在于提供能够形成可以得到充分的分辨率和曝光宽容度的抗蚀剂图案的抗蚀剂组合物。另外，其课题还在于提供使用了该抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案的制造方法和镀敷造型物的制造方法。本发明涉及抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案的制造方法和镀敷造型物的制造方...
    2026-04-05
  • 掩模版的制作方法
    掩模版的制作方法_睿晶半导体(宁波)有限公司_202511613744.5
    本发明提供一种掩模版的制作方法，其属于集成电路制造领域。所述掩模版的制作方法在将版图转移到掩模基板上之前，检测原始版图，并对原始版图的斜边上存在的连续的多个最小尺寸小于设定值的小阶梯图形进行平滑化处理，使得修正后的版图中所有的图形的尺寸均大...
    2026-04-05
  • 亚分辨率辅助图形的设置方法
    亚分辨率辅助图形的设置方法_合肥晶合集成电路股份有限公司_202511613309.2
    本发明提供一种亚分辨率辅助图形的设置方法。所述设置方法包括：在将主图形的优化图形外侧能够用于设置辅助图形的区域确定为第一区域，第一区域划分为多个像素，第一区域内的所有像素的初始状态均设置为未写入状态；针对优化图形的关键边界在第一区域内设置初...
    2026-04-05
  • 光学修正模型及其获取方法、掩膜版图形修正方法
    光学修正模型及其获取方法、掩膜版图形修正方法_广州增芯科技有限公司_202511407332.6
    一种光学修正模型及其获取方法、掩膜版图形修正方法，掩膜版图形修正方法，包括：提供待修正版图，所述待修正版图包括第一待修正图形和第二待修正图形；提供光学修正模型；采用第一修正模型对所述第一待修正图形进行第一光学临近效应修正，获取第一修正图形；...
    2026-04-05
  • 一种可以从多个不同视角独立成像的光学设备
    一种可以从多个不同视角独立成像的光学设备_樊宸_202511205398.7
    在普通单镜头、单图像传感器的照相机、摄像机、内窥镜、显微镜的镜头和机身之间，加入一个光学系统，实现从进入原镜头的光线中分离出能分别的独立的完整的成像的多路光线，并让这多路光线在原机身内的图像传感器(CMOS或CCD)的不同区域上同时成多个不...
    2026-04-05
  • 一种双面切换的投影展示装置及其展示面切换方法
    一种双面切换的投影展示装置及其展示面切换方法_南通理工学院_202511167374.7
    本发明公开了一种双面切换的投影展示装置及其展示面切换方法，包括展示件和切换装置；展示件的一侧为展示方向，展示方向上有投影装置；展示件有正反两面；正面为投影面，投影面朝向展示方向时，能显示出投影装置所投射的画面；反面为绘制面，绘制面上有绘制内...
    2026-04-05
  • 投影屏幕及投影系统
    投影屏幕及投影系统_青岛海信激光显示股份有限公司_202410725326.4
    本申请提供一种投影屏幕及投影系统，投影屏幕包括：显示膜片，显示膜片具有投影受光面；屏幕框架，屏幕框架包括内框架，内框架包括第一边框和第二边框，第一边框和第二边框均为两个，且两个第一边框和第二边框交替设置，以围设在显示膜片的外周，其中，第二边...
    2026-04-05
  • 一种激光光源装置和投影设备
    一种激光光源装置和投影设备_青岛海信激光显示股份有限公司_202510724789.3
    本申请公开了一种激光光源装置和投影设备，包括：出射三基色激光的激光器和位于激光器出光侧的合光棱镜。合光棱镜包括合光表面和多个连接表面，激光器出射的红色激光、蓝色激光和绿色激光均入射至合光棱镜的合光表面，其中红色激光被合光表面直接反射，而蓝色...
    2026-04-05
  • 一种照明系统及偏振成像设备
    一种照明系统及偏振成像设备_鸿祈(深圳)科技有限公司_202410888866.4
    本发明涉及一种照明系统及偏振成像设备。照明系统的偏振照明装置包括第一光源、偏振棱镜、第一偏振转换器、第二光源和第二偏振转换器；偏振棱镜用于将第一光源的第一初始光束的部分偏振分量分离为第一偏振出射光束出射，并用于将另一部分偏振分量经第一偏振转...
    2026-04-05
  • 一种激光光源
    一种激光光源_青岛海信激光显示股份有限公司_202410726617.5
    本申请提供实施例属于激光显示技术，提供一种激光光源，所述激光光源包括：多个发光芯片和与多个发光芯片相对应的多个准直透镜；发光芯片包括多个发光点，发光点用于沿第三方向出射激光，激光在第一方向的扩散角小于第二方向的扩散角；准直透镜位于对应的发光...
    2026-04-05
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