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最新专利技术
  • 根据计算机识别的排放等级实时控制工业炉
    根据计算机识别的排放等级实时控制工业炉_保尔沃特股份公司_202480033159.5
    计算机(200)为与炉(100)相关联并控制所述炉(100)内部的气体压力(p(t))的可编程控制器(170)获得压力设定点(p_set)。所述控制器(170)从压力传感器接收压力数据(p(t))并与压力阀交互。所述计算机(200)从位于所...
    2026-01-17
  • 用于选择机器系统的操作参数的值的计算机实现的方法、计算机程序产品和计算机实现的设备
    用于选择机器系统的操作参数的值的计算机实现的方法、计算机程序产品和计算机实现的设备_西门子股份公司_202480023088.0
    提出了一种用于由用户选择机器系统的操作参数的值的计算机实现的方法，该方法包括以下步骤：为每个操作参数定义相关性度量，以相关性度量的升序或降序对操作参数进行排序，创建至少一个用户定义的列表，该列表包括具有最高相关性度量的操作参数的子组，向用户...
    2026-01-17
  • 用于功率装置的控制装置、具有这样的控制装置的功率组件和用于运行功率装置的方法
    用于功率装置的控制装置、具有这样的控制装置的功率组件和用于运行功率装置的方法_罗尔斯·罗伊斯解决方案有限公司_202480039965.3
    本发明涉及一种用于功率装置(5)的控制装置(3)，其中，所述控制装置(3)设立成用于，确定包括有用于操控所述功率装置(5)的调整参量的操控调整参量矢量，所述控制装置具有：‑第一优化模块(7)，其设立成用于，借助于第一非进化算法确定第一最优调...
    2026-01-17
  • 用于确定进行活动的人从特定时刻起所经过的时间间隔的独立设备及相关方法
    用于确定进行活动的人从特定时刻起所经过的时间间隔的独立设备及相关方法_帕特莫斯有限公司_202380097132.8
    用于在无法直接访问手表时确定时间间隔的独立设备，包括再现音频内容的再现装置，拾取作为语音命令的音频信号的音频获取装置，与所述再现装置和音频获取装置通信的处理装置，其中所述处理装置检测正在由所述再现装置再现的所述至少一个音频内容，并且生成表示...
    2026-01-17
  • 包括刚柔结合印刷电路板的可穿戴电子装置
    包括刚柔结合印刷电路板的可穿戴电子装置_三星电子株式会社_202480040349.X
    提供了一种可穿戴电子装置。所述可穿戴电子装置包括：壳体，所述壳体包括金属框架；显示器，所述显示器位于所述壳体内；支架，所述支架位于所述壳体内，并且包括面向所述金属框架的内表面的侧表面；刚柔结合印刷电路板，所述刚柔结合印刷电路板包括位于所述金...
    2026-01-17
  • 具备自传及公转太阳系行星的钟表
    具备自传及公转太阳系行星的钟表_玄永根_202480035786.2
    本发明作为具备自传及公转太阳系行星的钟表，包括：太阳框架110，其提供太阳图像；地球框架120，其提供地球图像；月球框架130，其提供月球图像，并沿着所述地球框架120的圆周面，以分钟为单位进行公转；第一连杆140，其连接所述太阳框架110...
    2026-01-17
  • 具有装饰元件的表盘
    具有装饰元件的表盘_里奇蒙特国际股份有限公司_202480040262.2
    一种用于钟表或珠宝件的表盘(10)，该表盘包括：至少一个第一装饰元件(1a)，该至少一个第一装饰元件可在第一位置与第二位置之间移动，至少一个第二装饰元件(1b)，该至少一个第二装饰元件可在第三位置与第四位置之间移动，激活机构，该激活机构与至...
    2026-01-17
  • 光学测量标记
    光学测量标记_ASML荷兰有限公司_202480040661.9
    一种用于成像系统的光学测量标记，包括反射区和被配置为降低由成像系统形成的光学测量标记的图像的强度的亚结构。所述亚结构能够有效地降低在使用该光学测量标记进行测量时可能发生的碳污染速率。
    2026-01-17
  • 用于光刻应用的掩模版调节
    用于光刻应用的掩模版调节_ASML荷兰有限公司_202480040564.X
    一种用于调节掩模版的方法，包括确定所述掩模版在使用期间的目标操作温度。所述方法包括控制所述掩模版的温度以趋近于所述掩模版在使用期间的所述目标操作温度。所述方法包括将所述掩模版曝光于辐射以执行制造过程。
    2026-01-17
  • 半导体基板的制造方法及抗蚀剂底层膜形成用组合物
    半导体基板的制造方法及抗蚀剂底层膜形成用组合物_JSR株式会社_202480037802.1
    本发明提供一种能够形成图案矩形性优异的抗蚀剂底层膜的半导体基板的制造方法及抗蚀剂底层膜形成用组合物。一种半导体基板的制造方法，包括：在基板上直接或间接地涂敷抗蚀剂底层膜形成用组合物的工序；在通过所述抗蚀剂底层膜形成用组合物涂敷工序而形成的抗...
    2026-01-17
  • 固化性组合物、像素的制造方法、膜、滤光器、固体摄像元件及图像显示装置
    固化性组合物、像素的制造方法、膜、滤光器、固体摄像元件及图像显示装置_富士胶片株式会社_202480026223.7
    本发明提供一种固化性组合物，其含有光聚合引发剂及自由基聚合性化合物，其中，光聚合引发剂含有由式(1)表示的化合物的E体和由式(1)表示的化合物的Z体，相对于E体和Z体的合计质量的E体的含量为80～99.9质量%。本发明提供一种使用固化性组合...
    2026-01-17
  • 光敏性组合物、固化膜的制造方法、隔板、发光元件及显示装置
    光敏性组合物、固化膜的制造方法、隔板、发光元件及显示装置_中央硝子株式会社_202480040339.6
    本发明提供一种光敏性组合物，其包含：具有烯属碳碳双键的化合物(A)、选自由硫醇及硫醇前驱体组成的组中的1种或2种以上的硫醇系化合物(B)、光自由基引发剂(C)及二硫化合物(D)。
    2026-01-17
  • 预测电磁系统对照射电磁辐射的响应的方法
    预测电磁系统对照射电磁辐射的响应的方法_ASML荷兰有限公司_202480040454.3
    一种预测电磁系统对来自照射配置的电磁辐射的响应的计算机实现的方法。系统包括位于辐射路径中的像差元件和辐射路径上的物体平面处的与电磁辐射相互作用的物体，像差元件引起对沿着辐射路径透射的电磁辐射的、由像差函数描述的像差。方法包括各种步骤。
    2026-01-17
  • 辨识激光系统中的气体泄漏
    辨识激光系统中的气体泄漏_通快激光系统半导体制造股份公司_202480018707.7
    本发明涉及一种用于检测激光系统(10)的气体管线(24)中的气体泄漏的方法(30)。在此，在激光射束(14)被引导穿过用气体填充的过程腔(20)之后，用探测器来确定激光射束特性。在不同的时间点(Pi)更换所述过程腔(20)的气体，其中，所述...
    2026-01-17
  • 用于最小化热应变的掩模版设计
    用于最小化热应变的掩模版设计_ASML荷兰有限公司_202480040563.5
    一种用于减小掩模版中的热应变的方法，包括：确定掩模版在所述掩模版的使用期间的目标操作温度；基于所述掩模版的所述目标操作温度来调整所述掩模版的热膨胀(TE)性质；以及将所述掩模版曝光于辐射以执行制造过程。
    2026-01-17
  • 包括光学模块的电子装置
    包括光学模块的电子装置_三星电子株式会社_202480037437.4
    一种电子装置可包括相机模块和光学模块。所述光学模块可包括：基板；多个发光元件，设置在所述基板上；以及第一光接收元件，设置在所述基板上并被配置为独立于所述多个发光元件操作。
    2026-01-17
  • 外部反射调谐层
    外部反射调谐层_唯景操作公司_202480039704.1
    本文中说明具有一层或多层反射调谐层的窗结构。
    2026-01-17
  • 雾度调制液晶盒及显示装置
    雾度调制液晶盒及显示装置_京东方科技集团股份有限公司_202480000912.0
    一种雾度调制液晶盒(2)及显示装置。雾度调制液晶盒(2)包括：第一基板(201)，第二基板(202)以及流体液晶层(203)。其中，第一基板(201)包括：第一衬底基板(2011)，位于第一衬底基板(2011)背离显示面板(1)一侧的第一透...
    2026-01-17
  • 液晶取向剂、液晶取向膜、液晶显示元件
    液晶取向剂、液晶取向膜、液晶显示元件_日产化学株式会社_202480040481.0
    提供一种液晶取向剂、由该液晶取向剂得到的液晶取向膜以及液晶显示元件，所述液晶取向剂在室温保存时的液晶取向性的劣化得到抑制，含有两种以上聚酰胺酸。一种液晶取向剂，其特征在于，含有下述的聚合物(A)和聚合物(B)。聚合物(A)：具有源自四羧酸衍...
    2026-01-17
  • 具有可切换光滤波器的屏幕
    具有可切换光滤波器的屏幕_矽光学有限公司_202480040549.5
    本发明涉及一种屏幕，其具有成像器(2)，该成像器包括具有像素(PBildBild)的第一栅格(Ra)，该屏幕还包括可切换光滤波器(5)，该可切换光滤波器具有：第一光学元件(1)，其包括多个吸光跃迁偶极矩(DP1、DP2)，其中，这些跃迁偶极...
    2026-01-17
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