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  • 本发明提供了一种基于侧壁半包覆的互锁胶带、制造及干法剥离方法,互锁胶带按质量百分比组份包括:40%‑70%的N,N‑二甲基丙烯酰胺,30%‑60%的丙烯酸4‑羟基丁酯,0.5%‑2%的聚乙二醇二丙烯酸酯,0.5%‑2%的光引发剂。干法剥离方...
  • 本发明属于轻质太阳能电池组件技术领域,具体涉及一种无卤阻燃透明复合玻璃布及其应用。其包括玻璃布和涂布在玻璃布表面的胶黏剂,所述胶黏剂包括丙烯酸树脂、低分子量聚丙烯酸、低温固化聚酯树脂、固化剂、含磷丙烯酸树脂阻燃剂和硅烷偶联剂,所述含磷丙烯酸...
  • 本发明提供一种封装胶膜及其制备方法和应用,所述封装胶膜包括层叠设置的疏水阻隔层和增韧层;所述疏水阻隔层包括至少两层疏水阻隔子层;所述疏水阻隔子层的制备原料各自独立地包括第一EVA、第一交联剂和疏水改性的无机填料的组合;以所述疏水阻隔层指向所...
  • 本发明属于复合材料领域,提供了一种硅‑丙烯酸酯胶与棉质和膜材复合材料。本发明采用了A面硅胶层、无溶剂固化隔离阻隔层、复合载体层与B面丙烯酸酯胶层的四层复合结构设计,通过硅氧缩合网络与硅烷侧基丙烯酸酯共聚物的协同作用,实现了高固含低黏度涂布窗...
  • 本发明提供一种耐高温遮蔽胶带及其制备方法,涉及高分子材料工程技术领域。该一种耐高温遮蔽胶带及其制备方法,包括S1:基于聚酰亚胺树脂,采用挤出流延工艺形成基材薄膜,并通过高温亚胺化处理,生成初始聚酰亚胺基材薄膜;S2:对基材薄膜单侧表面进行低...
  • 本申请涉及胶粘材料技术领域,公开了一种高粘结性无残胶防水绝缘复合布基胶带及其制备方法。本申请的高粘结性无残胶防水绝缘复合布基胶带包括依次叠层设置的布基层和胶粘层;其中,布基层为经单面电晕处理的聚乙烯膜以其非电晕面与纱布进行热压复合形成的复合...
  • 本发明公开一种适用于嵌入式封装临时键合和 QFN 封装框架背板保护的抗静电胶膜及其应用,包括基膜层,基膜层表面设置有抗静电涂层,抗静电涂层通过等离子处理后的基膜表面涂布含NCO封闭型单体、光引发剂和抗静电材料的浆料,经60‑80‑120℃烘...
  • 本发明涉及加强膜、带有加强膜的器件及其制造方法。加强膜(10)具备粘固层叠于膜基材(1)的一个主面上的粘合剂层(2)。粘合剂层由光固化性组合物形成,所述光固化性组合物包含具有交联结构的丙烯酸系基础聚合物、光固化剂以及光聚合引发剂。就丙烯酸系...
  • 本发明属于高分子组合物领域,涉及一种纤维网增强的单组分聚氨酯胶泥,为三明治复合结构,依次是上聚氨酯胶泥层,改性纤维网中间层,下聚氨酯胶泥层;聚氨酯胶泥层包括以下质量份的原料:50‑70份聚氨酯预聚体,4‑6质量份液体萜烯树脂,1.6‑2.3...
  • 本发明提供一种改性聚乙烯与芳纶复合粘接材料的制备方法,属于高性能聚合物复合材料领域。包括以下步骤:基材A制备:制得马来酸酐接枝改性聚乙烯;基材B制备:对芳纶纤维依次进行清洗、干燥处理,再将干燥后的芳纶纤维浸入氢氧化钠溶液中进行表面活化后制得...
  • 本发明涉及高分子材料与胶粘剂技术领域,特别涉及一种UV光固化低表面能胶粘剂及其制备的胶带。所述UV光固化低表面能胶粘剂,包括软段预聚物、硬段预聚物、活性稀释剂、增粘树脂和光引发剂;所述软段预聚物和硬段预聚物的末端均为丙烯酸酯双键;所述软段预...
  • 本发明公开了一种基于动态共价键增强的UV固化丙烯酸酯压敏胶,按重量份计,包括丙烯酸树脂60~70份、丙烯酸异冰片酯10~15份、功能单体8‑13份、交联单体2~4份、增粘树脂10~15份、双重光引发剂0.8~1.7份;所述功能单体包括呋喃基...
  • 本发明涉及内衣加工辅助材料技术领域,公开一种用于内衣的可降解无痕点胶及其制备方法,按照重量份数计算,无痕点胶的原料包括淀粉50‑60份、辛烯基琥珀酸酐1.5~3份、聚丁二酸‑己二酸丁二醇酯20‑30份、马来酸酐接枝聚丁二酸‑己二酸丁二醇酯2...
  • 针对现有的胶粘剂不能满足低极性基材的表面润湿,以及粘接强度低、不耐高温高湿、表干慢影响施工效率的问题,本申请提供一种柔性基材表面器件保护用高韧性UV胶及其制备方法和应用。所述高韧性UV胶包括高韧高强光敏树脂、丙烯酸酯类活性稀释剂和自由基型光...
  • 本发明属于黏合剂技术领域,涉及一种耐老化瞬间胶及其制备方法。本发明提供了一种耐老化瞬间胶,以质量份计,其由以下原料构成:α‑氰基丙烯酸酯 90~95份;双酚A丙三醇双甲基丙烯酸酯 1~3份;对苯二酚 0.01~0.05份;均苯三甲酸 0.1...
  • 本发明涉及高分子材料技术领域,具体公开了一种高强度聚氨酯胶粘剂及其制备方法和应用。该胶粘剂由端双键聚氨酯预聚体单体和多巯基交联剂复配得到。预聚体单体由4, 4‑二异氰酸酯二环己基甲烷与(甲基)丙烯酸羟乙酯按摩尔比1 : 2反应合成。多巯基交...
  • 本发明提供一种PMMA与TAC粘接用光固化粘合剂及其制备方法,属于高分子材料技术领域。所述粘合剂按重量份计,包括:含羟基的丙烯酸酯10~30份、官能度≥3的丙烯酸酯10~30份、反应型活性稀释剂20~40份、光引发剂1~2份及助剂0.2~0...
  • 本发明涉及研磨和抛光技术领域,特别是涉及一种用于晶圆表面氧化层的抛光液及其制备方法和应用。所述抛光液包括如下质量分数的各组分:90wt%~99wt%的硅溶胶、0.01wt%~1wt%的表面活性剂、0.001wt%~1wt%的分散剂、0.01...
  • 本发明涉及研磨和抛光技术领域,特别是涉及一种化学机械抛光液及其制备方法和应用。所述化学机械抛光液包括如下质量分数的组分:5‑7wt%的硅溶胶、0.1‑1wt%的表面活性剂、0.1‑1wt%的络合剂、0.01‑1wt%的缓蚀剂,0.02‑2w...
  • 本申请提供一种用于抛光碳化硅衬底的化学机械抛光组合物及其抛光方法。在该化学机械抛光组合物中,包括:磨粒;氧化剂;以及分散剂,所述分散剂包括硅酸锂。硅酸锂在水溶液中可解离出Li+和硅酸根离子(SiO32‑)。硅酸根离子(SiO32‑)能通过静...
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