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最新专利技术
  • 布线构件
    布线构件_株式会社自动网络技术研究所_202480016973.6
    本发明的目的是提供能降低布线构件的构件成本的技术。布线构件具备基体构件和排列配置在所述基体构件上的多根线状传输构件。所述多根线状传输构件包括至少一根带包覆层的线状传输构件和多根裸电线。在所述多根裸电线彼此之间配置有所述带包覆层的线状传输构件...
    2025-12-21
  • 具有回射和磷光性能的电力电缆
    具有回射和磷光性能的电力电缆_海乐麦克有限责任公司_202480028862.7
    一种电力电缆(1)，包括一个或多个导体(2)以及外护套(5)，一个或多个导体中各自配备有相应的包围的绝缘层(2a)，绝缘层用于将其相应的导体(2)与其余电缆(1)电绝缘，外护套至少包围一个或多个导体(5)。外护套(5)包括除了回射颗粒和磷光...
    2025-12-21
  • 21AWG延长距离POE网络电缆
    21AWG延长距离POE网络电缆_康普技术有限责任公司_202580002321.1
    一种网络电缆，具有四条双绞线。每条双绞线包括21AWG的第一绝缘导体和第二绝缘导体。每条双绞线包括位于绞合的第一和第二绝缘导体之间的平分带。21AWG导体允许更长距离的数据传输和PoE。21AWG导体的绝缘层的更薄的壁使网络电缆端接至行业标...
    2025-12-21
  • 聚合物包覆的氧化铁纳米棒、制备方法及其应用
    聚合物包覆的氧化铁纳米棒、制备方法及其应用_5M生物医学有限责任公司_202380097831.2
    本发明涉及含氧化铁核及围绕核的涂层的包覆氧化铁纳米棒(IONR)，以及含此类包覆IONR的药物组合物。包覆IONR的氧化铁核具有强磁性，即在室温下使用1T磁化场强诱导时，磁通密度至少为10emu/g。该包覆IONR的涂层可由聚合物(如两亲性...
    2025-12-21
  • 层叠电感器以及层叠电感器阵列
    层叠电感器以及层叠电感器阵列_株式会社村田制作所_202480029668.0
    提供在减小元件面积的同时，进一步提高直流重叠特性的层叠电感器以及层叠电感器阵列。本公开的层叠电感器具备：坯体(10)，层叠磁性层，且底面为四边形状；第一外部电极(E1)、第二外部电极(E2)、第三外部电极(E3)以及第四外部电极(E4)，设...
    2025-12-21
  • 电感线圈组件及其生产方法
    电感线圈组件及其生产方法_罗杰斯公司_202480029168.7
    一种生产电感线圈组件的方法包括：形成N(i)层，(i)为从1至M的整数，N(i)为第i层，并且N(M)为N(i)层的最大数目；每个N(i)层包括：键合至陶瓷的(i)实例的第一侧的具有厚度(x)T的第一导体的(i)实例；键合至陶瓷的(i)实例...
    2025-12-21
  • 具有导电碳电极的整体式金刚石电容器
    具有导电碳电极的整体式金刚石电容器_美敦力公司_202480023865.1
    提供了电容器及其制作方法。这些电容器可包括其中具有导电碳电极的整体式金刚石本体。这些导电碳电极可由该整体式金刚石本体的电介质金刚石层分开。这些电极可通过使用激光将该整体式金刚石本体的区域转化成导电碳来形成。
    2025-12-21
  • 层叠陶瓷电容器
    层叠陶瓷电容器_株式会社村田制作所_202480004824.8
    提供层叠陶瓷电容器。层叠陶瓷电容器(1)包括：层叠体(2)；第1外部电极(3A)，其设于层叠体(2)的第1端面(CA)，与内部电极(15)连接；以及第2外部电极(3B)，其设于层叠体(2)的第2端面(BB)，与内部电极连接。第1外部电极(3...
    2025-12-21
  • 层叠陶瓷电容器
    层叠陶瓷电容器_株式会社村田制作所_202480029716.6
    提供一种即使在高耐压规格的层叠陶瓷电容器中，也能够不增大层叠陶瓷电容器的尺寸而提高静电电容的层叠陶瓷电容器。在层叠陶瓷电容器(1)中，多个内部电极层包含第1内部电极层(31)、第2内部电极层(32)、和中间电极层(33)，中间电极层(33)...
    2025-12-21
  • 可变电容器、阻抗匹配装置和等离子体处理装置
    可变电容器、阻抗匹配装置和等离子体处理装置_东京毅力科创株式会社_202480029111.7
    可变电容器具有保持部、第1电极和第2电极。保持部构成为能够保持离子液体。第1电极在保持部设置至少一个，构成为施加正负中的任一方的直流电压。第2电极在向第1电极施加直流电压时在保持部的离子液体中形成双电层的部分设置至少两个，构成为能够介由保持...
    2025-12-21
  • 具有少量颗粒的PEDOT分散体
    具有少量颗粒的PEDOT分散体_贺利氏电子化学材料有限公司_202480028553.X
    本发明涉及一种分散体，该分散体包含i)分散剂；ii)分散在该分散剂i)中的至少一种聚噻吩；其中该分散体包含每毫升小于10, 000个颗粒，该颗粒的粒度为1.5µm或更大；并且其中由该分散体制备的导电层的电导率大于10S/cm，如通过本文所公...
    2025-12-21
  • 断路器
    断路器_日立能源有限公司_202380097743.2
    一种断路器，包括壳体。壳体包括主体、环形管(208)和破裂装置(210)。主体包括附接到主体的端部的端盖。环形管(208)在端盖的外侧从端盖延伸。环形管(208)包括干燥剂保持件(214)，干燥剂保持件(214)配置成容纳干燥剂，干燥剂配置...
    2025-12-21
  • 带磁锁存的微机电系统(MEMS)致动器及其制造与使用方法
    带磁锁存的微机电系统(MEMS)致动器及其制造与使用方法_奥托米克机器公司_202480026788.5
    本申请提供了一种机电致动器，其包括：定子组件，具有沿中心纵向轴线部分限定地贯穿定子组件的腔室；以及柱塞组件，设置在腔室中，并且在操作中沿中心纵向轴线在不同位置之间运动。定子组件可包括一对其间具有开口的触点和三个一组的其间设置有线圈的铁磁层。...
    2025-12-21
  • 二次辐射减轻装置
    二次辐射减轻装置_伊克斯拉姆公司_202480023178.X
    公开了一种X射线源，包括：电子源，该电子源被配置为提供电子束；孔径，该孔径被配置为限制电子束的角分布，其中，电子束引起从孔径周围的区域发射二次X射线辐射；二次辐射限制孔径，该二次辐射限制孔径被配置为限制二次X射线辐射的角分布，其中，二次辐射...
    2025-12-21
  • 校正栅格失真
    校正栅格失真_ASML荷兰有限公司_202480029396.4
    一种用于操作带电粒子光学装置的方法，该方法包括：利用带电粒子光学装置用带电粒子束扫描包括一系列位置的样品，以便生成扫描数据；从位置到位置改变带电粒子光学装置的至少一个带电粒子光学参数的设置，其中该至少一个带电粒子光学参数影响扫描数据的带电粒...
    2025-12-21
  • 用于在检查系统中优化样品扫描的系统和方法
    用于在检查系统中优化样品扫描的系统和方法_ASML荷兰有限公司_202480030136.9
    用于优化样品扫描的系统和方法。系统和方法可以包括提供用于扫描第一样品的多个带电粒子束；标识所述多个带电粒子束中的一个或多个失效带电粒子束；标识所述多个带电粒子束中的扫描所述第一样品的一个或多个有效带电粒子束；基于所述标识的一个或多个失效带电...
    2025-12-21
  • 通过对局部充电失真建模的精确和准确临界尺寸测量
    通过对局部充电失真建模的精确和准确临界尺寸测量_ASML荷兰有限公司_202480030241.2
    一种用于表征和预测晶片临界尺寸测量中的局部充电效应的系统和方法。所述系统和方法可以包括临界尺寸模型，所述临界尺寸模型包括被检查晶片上的每一类特征的充电系数。充电系数可以基于维度建模。所述模型还可以包括初始充电状态和描述作为时间或给定区域中的...
    2025-12-21
  • 采用对称或不对称的力应用于离子源温度控制的系统以及方法
    采用对称或不对称的力应用于离子源温度控制的系统以及方法_应用材料股份有限公司_202480025336.5
    一种离子源，在离子源中，施加至提取孔口的两侧上的面板的压缩力可独立地改变。对面板与电弧腔室之间的压缩力进行修改可通过修改两个组件之间的接触热阻而能够对离子源进行温度控制。此可使得能够对面板的温度进行更多的控制，且更具体而言可因沿着面板长度对...
    2025-12-21
  • 使用多信道传感器数据的等离子体产生质量监控
    使用多信道传感器数据的等离子体产生质量监控_应用材料公司_202480027476.6
    方法包括通过处理装置获得工艺腔室的经校准的反馈控制装置的测量值。方法进一步包括通过处理装置基于经校准的反馈控制装置的测量值来确定工艺腔室的等离子体产生设备的第一性能指示。方法进一步包括自工艺腔室的第一传感器获得等离子体产生设备的第二性能指示...
    2025-12-21
  • 用于等离子体处理供应系统和等离子处理系统的用于耦合RF信号的功率合成器
    用于等离子体处理供应系统和等离子处理系统的用于耦合RF信号的功率合成器_通快霍廷格两合公司_202480029252.9
    本发明涉及用于耦合RF信号的功率合成器(1)，该功率合成器特别地被设计成用于等离子体处理供应系统和等离子处理系统，该功率合成器(1)被设计成用于频率在2 MHz至200 MHz的范围内特别地在10 MHz至50 MHz的范围内的预定义的工作...
    2025-12-21
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