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  • 本发明涉及光刻树脂的循环供应技术领域,尤其涉及一种光刻树脂的循环供应设备,包括供应柜体,所述供应柜体具有安装腔与装设于安装腔内的泵液模块、过滤模块、重量检测模块与中间罐模块,泵液模块包括一级泵液组件与二级泵液组件;过滤模块包括一级过滤组件与...
  • 本发明涉及一种LDI曝光设备的自动调焦方法,在光学镜头组件曝光前,控制位置传感器采集基材样本区域的样本高度数据,依据样本高度数据线性拟合样本曲线;在光学镜头组件曝光时,控制位置传感器采集基材当前位置的表面高度数据,同时计算当前位置在待曝光方...
  • 本发明一种照明光型的曝光机结构,其包括 : 光源部分别发散数道光线;各光线朝向第一透镜进行照射,各光线穿过该第一透镜后分别汇聚形成第一聚光束;第一聚光束朝向相对应的透镜阵列部进行照射,透镜阵列部包含数个相互并排组合的数个透镜柱,第一聚光束穿...
  • 本申请属于半导体制造技术领域,提供一种光刻胶涂覆方法,包括以下步骤:对基片表面进行预处理,以降低表面接触角,提升表面能,使光刻胶能够更好的涂覆;将基片置于工作腔室内,并将工作腔室内的环境调整为微环境状态,减少环境因素对光刻胶涂覆质量的影响;...
  • 本申请提供了一种正型感光性树脂组合物、固化膜和图案加工方法,涉及有机EL显示技术领域。该正型感光性树脂组合物包括(a)碱溶性树脂;(b)光产酸剂;(c)第一热交联剂;(d)第二热交联剂,(e)有机溶剂。其中,第二热交联剂具有结构式(1)所表...
  • 本申请提供一种着色感光性树脂组合物、负性光刻胶及其制备方法和滤光片,涉及液晶显示领域。本申请提供一种着色感光性树脂组合物,以所述着色感光性树脂组合物的总质量为100%计算,包括:聚合物树脂5‑15%、光引发剂1‑3%、丙烯酸酯单体5‑10%...
  • 本发明公开了一种低收缩和低真空放气的透明组合物光刻胶,包括以下质量百分比的原料:1~5%的改性笼型聚倍半硅氧烷(POSS)、1~5%的膨胀单体、1~5%改性丙烯酸树脂、1~5%环氧树脂、1~5%的硫醇类交联剂、1~5%的引发剂、0.1~3%...
  • 本发明公开了一种超声波辅助水雾软化的卷对卷纳米压印装置及脆性薄膜压印方法,属于卷对卷纳米压印技术领域。所述装置包括放卷辊、传动基带、超声水雾软化组件、测量标记组件、模具辊、压力辊、超声波辅助压印组件和收卷辊。超声水雾软化组件通过超声雾化产生...
  • 本发明涉及纳米压印技术领域,具体为一种桌面式纳米压印装置,包括:桌面可收纳调节夹持固定结构、支撑固定座、纳米压印结构以及抚平按压结构,桌面可收纳调节夹持固定结构安装在支撑固定座上,纳米压印结构设置在支撑固定座上,抚平按压结构设置在支撑固定座...
  • 本发明涉及纳米压印技术领域,具体为一种真空式气压纳米压印装置,包括:双层缓冲真空密封罩盖、支撑固定座、纳米压印结构以及密封罩盖升降驱动结构,双层缓冲真空密封罩盖、纳米压印结构以及密封罩盖升降驱动结构均设置在支撑固定座上,纳米压印结构位于双层...
  • 一种基于法向力控制的大范围纳米结构表面压印装置,属于纳米结构表面加工技术领域。X向定位台滑块上有旋转工作台,旋转工作台上有XY二维调平台;Y向定位台安在龙门架上,滑块与Z向微米定位台固定端连接,Z向微米定位台滑块上有转接板,转接板上有微力加...
  • 本发明提供了一种光罩排版数据的检查方法,在确定初始光罩排版后,获取定版主芯片版图,并根据定版主芯片版图以及初始光罩排版生成制版文件,然后根据制版文件生成第二光罩排版,并将第二光罩排版与初始光罩排版进行对比,得到对比结果,从而基于对比结果判断...
  • 一种版图拆分方法,包括:获取切断版图,切断版图包括若干切断图形,若干切断图形包括若干第一切断图形和若干第二切断图形;基于不同的合并图形所对应的光刻工艺窗口,获取对应所述切断版图的若干图形特征类型的难度评价值,不同的所述图形特征类型对应不同的...
  • 本发明公开一种具有通过基底板的保持特征的光罩盒,其包含:内部部分,其包含盖及基底板;及外部部分,其包含盒圆顶及盒门。所述盒门包含闩锁,及可经驱动以在操作所述闩锁时移动的一或多个可移动柱。所述基底板包含可被所述可移动柱接触的可移动光罩接触件。...
  • 本申请实施例提供了一种掩膜版组及其制造方法、掩膜版成像偏差校正方法及系统,该掩膜版组包括:多个掩膜版;在对多个掩膜版进行光学成像的过程中,多个掩膜版上的掩膜图案的理论最佳聚焦值相同;其中,多个掩膜版上的掩膜图案包括相同的监控图案;监控图案用...
  • 本申请公开了一种SRAF添加方法、装置、存储介质及电子设备,其中,该SRAF添加方法包括获取目标层版图、原始SRAF及工艺设计规则;从目标层版图中提取目标特征,并从工艺设计规则中提取最小安全间距;按照最小安全间距对目标特征和原始SRAF进行...
  • 一种光学临近修正方法、掩膜版以及半导体结构的形成方法,其中光学临近修正方法包括:获取参考版图,所述参考版图包括:若干第一金属线图形、若干第二金属线图形和若干切断图形;在若干所述切断图形中获取待修正图形,所述待修正图形包括第一待修正图形和第二...
  • 本发明涉及表面等离子体光刻领域,特别涉及一种表面等离子体光刻掩模版及其制备方法。包括掩模版本体,所述掩模版本体包括第一表面和设置于所述第一表面相对侧的第二表面,所述第一表面上设置有凸台,所述第二表面上设置有凹槽,所述凸台顶面与所述第一表面之...
  • 本发明公开了一种投影屏幕和投影系统,投影屏幕包括微结构层和反射层。微结构层的一侧表面具有多个沿垂直方向延伸的条状凸起结构,相邻的两个条状凸起结构之间相距设定距离。通过在微结构层的表面设置多个间隔排列的条状凸起结构,可以将投影屏幕反射出来的光...
  • 本发明涉及一种用于车辆的投影系统以及包括投影系统的车辆。投影系统包括:一个投影装置(1);在投影装置下游设置的一个透镜组件(10),其包括并排的多个透镜;在透镜组件下游的反射面组件(20),其包括相互邻接的并排的多个反射面(2、3、4、5)...
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