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  • 本发明涉及胶粘剂技术领域,尤其是涉及一种粘合片。该种粘合片,包括基材和设置于所述基材上的胶粘剂层,所述基材为PVC膜,所述胶粘剂层包括丙烯酸酯共聚物;以所述丙烯酸酯共聚物中单体组分总重量为100 wt%计,含有50~80 wt%软单体、10...
  • 本申请涉及新能源领域,提供一种封装胶膜及其制备方法、光伏组件。本申请实施例的封装胶膜包括成核剂和基体树脂,所述成核剂包括改性山梨糖醇衍生物,所述改性山梨糖醇衍生物由山梨糖醇衍生物经γ‑甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷接枝改性得到。通过成核剂和...
  • 本发明公开了一种低介电光学透明胶粘膜及其制备方法,涉及胶粘膜领域。本发明在制备低介电光学透明胶粘膜时,将纳米二氧化硅依次与2‑(4‑氯磺酰苯基)乙基三甲氧基硅烷和2, 2', 4, 4'‑四羟基二苯甲酮反应,制得改性二氧化硅;将改性二氧化硅...
  • 本发明公开了一种太阳能电池封装膜及其制备方法。太阳能电池封装膜由乙烯‑醋酸乙烯共聚物、安息香双甲醚、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯和添加剂混合后热压成膜制得,所述添加剂包含邻苯二甲酸酯、受阻酚类抗氧剂和环氧亚麻油丙烯酸酯。制备步骤包括将乙烯‑醋...
  • 本发明涉及粘合片。本发明提供一种粘合片,其为在电子部件转移载置工序中使用的粘合片,其中,所述粘合片通过规定波长的激光照射而表现出剥离性,并且能够防止剥离时的胶糊残留。1.本发明的实施方式的粘合片具备粘合剂层,该粘合剂层的波长248nm的光的...
  • 本公开涉及带粘合层的被粘物、带粘合层的卷状被粘物和结构体。带粘合层的被粘物包括:由金属材料或树脂材料构成的被粘物;和层合在被粘物的表面上并由室温下呈固态的未固化的可固化树脂组合物形成的粘合层。可固化树脂组合物包含(A)熔点为90℃或更高的环...
  • 本发明涉及胶带技术领域,公开了一种具有低气味低VOC耐高温性能泡绵胶带制备方法,自上而下依次包括透明PET离型膜层、UV固化丙烯酸压敏胶层及泡绵基材;所述UV固化丙烯酸压敏胶层由丙烯酸预聚体、增粘树脂、光引发剂及反应性稀释单体组成。该具有低...
  • 本发明公开了一种防潮增韧地板保护胶带,包括PLA/竹纤维复合基材、电晕处理、表面纳米疏水层和动态交联胶层,PLA为基材主体,且具有生物降解特性,复合竹纤维可提高胶带的韧性,通过电晕处理技术和热压技术将纳米二氧化硅嵌入基材,得到强黏附力的疏水...
  • 本发明提供了一种无纺布双面胶带的制备方法,属于双面胶带技术领域,包括以下步骤:S1:基材预处理,对无纺布基层和聚合物保护膜进行表面能提升处理;S2:功能层构建,在经预处理的无纺布基层上,依次涂覆并固化防水层、耐热层;S3:生物基三元共聚压敏...
  • 本发明涉及硅橡胶表面处理剂技术领域,尤其涉及一种硅胶与聚氨酯粘接处理剂及其制备方法和应用。本申请提供一种硅胶与聚氨酯粘接处理剂,按重量百分比计,包括:复合偶联剂3.0‑8.0%、疏水二氧化硅0.5‑1.5%、高分子分散剂0.3‑1.0%,功...
  • 本发明公开了一种高强度透明热固绝缘胶,按重量份计包括以下组分:基体100份~120份,基体为三元乙丙橡胶或环氧树脂,动态交联剂15~30份、共交联剂2~6份、透明增粘树脂20~40份、绝缘增强填料5~15份、光热双固化助剂0.5~3份,三元...
  • 本发明公开了一种高模量高粘性OCA光学胶、胶膜及其在曲面屏手机中的应用,该光学胶包括按重量份计的以下原料组分:丙烯酸酯聚合物100份、丙烯酸酯低聚物0.1‑15份、热固化剂0.01‑0.2份、光引发剂0.1‑1份、光交联剂0.5‑2份。本发...
  • 本发明属于丙烯酸胶黏剂领域,具体的涉及一种高浸润性丙烯酸树脂胶膜及其制备方法。本发明中高浸润性丙烯酸树脂胶膜的制备原料按质量份数计,包括10‑20份丙烯酸共聚物树脂、0.3‑1份环氧树脂、0.01‑0.1份固化剂、0.1‑1份异氰酸酯、0....
  • 本申请涉及建筑施工技术领域,特别涉及一种装配式混凝土结构外墙抗裂防渗施工方法及无机密封材料,所述无机密封材料包括内部嵌缝胶和表面密封胶,所述内部嵌缝胶粉料由1重量份的磷酸盐基粉料A、2‑3重量份的氧化镁基粉料B、0.1‑0.15重量份的复合...
  • 本发明涉及钢球加工技术领域,公开了一种不锈钢钢球研磨液及其制备方法和应用。按质量百分比计,所述不锈钢钢球研磨液包括以下组分:极压润滑剂20%‑30%;硼酸酯类极压剂5%‑15%;渗透剂5%‑10%;金属屑沉降剂1%‑3%;耦合剂5%‑10%...
  • 本发明公开了一种具有高稳定去除效率的超光滑磁流变抛光液及制备方法,涉及磁流变抛光液技术领域;包括:纳米氧化铈磨粒10wt %~20wt %、小分子分散剂1.2wt %~2wt %、润湿剂1wt %~5wt %、抗氧化剂1wt %~5wt %...
  • 本申请属于半导体材料抛光技术领域,提供了一种含氧化剂抛光液及其制备方法,通过改性分散剂中酰胺基、高分子主链上的醚键与改性磨料表面含有的酰胺基与羧基形成密集的氢键网络,吸附至改性磨料表面,同时改性磨料表本身以及吸附其上的分散剂分子链如聚丙烯酰...
  • 本发明涉及抛光技术领域,具体为一种抛光超高硬度氧化铝陶瓷的抛光液,包括以下重量份数的组分:水1500‑2500份、洗洁精2‑8份、洗衣粉10‑15份、金刚石粉10‑20份、石墨粉5‑20份,本发明抛光液可用于抛光氧化铝陶瓷材料,具有优异的抛...
  • 本发明涉及一种氧化铈磨料的制备及用于硅片抛光的CMP方法。采用全氟烷基磺酰氟试剂与有机硅氧烷试剂对CeO2表面功能化:磺酰氟在碱性条件下发生SuFEx型醇解,与表面–OH生成稳定的Ce‑O‑SO2‑Rf层(Rf为不同链长的全氟烷基);硅氧烷...
  • 本发明涉及表面处理技术领域,具体公开一种纯水性纳米抛光蜡及其制备方法与抛光系统。所述抛光蜡由15‑25%莫氏硬度≥8的纳米金刚石或立方氮化硼、1‑5%水溶性乳化剂(聚醚改性聚硅氧烷/吐温80复配)、2‑8%蜡乳液、0.3‑1%增稠剂、5‑1...
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