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  • 本发明公开了半导体扩散设备中CKD阀门精密清洗与氦质谱检漏协同工艺,涉及半导体设备阀门洁净清洗技术领域;先拆解阀门,将需清洗的波纹管、盖板、三通腔体转清洗工段,不可清洗的电机等配件转测试工段;接着依次经碱液浸泡漂洗、汽水枪冲洗、热水去碱、打...
  • 本申请涉及管道清洗技术领域,尤其是涉及一种去除波纹管彩色氧化层和沉积物的清洗装置及方法,包括氢氧化钾漂洗槽、纯水冲洗槽、硝氟酸浸泡槽、纯水漂洗槽、纯水清洗槽、吹扫槽以及波纹管放置机构,波纹管放置机构包括放置架,以及分别设置在放置架内部的波纹...
  • 本发明涉及除尘设备技术领域,具体为一种多模块集成电磁阀金属零部件加工用除尘设备,包括:除尘池;至少一个支撑堵座,螺栓固定在所述除尘池的内腔底部,用于放置不锈钢电磁水阀并堵住其底部出口;注水堵座,一一对应设置在所述支撑堵座的上方,用于下压固定...
  • 本发明公开了一种双阳极中缝电解质甩链清理装置,包括机架,清理组件,清理驱动组件,横向驱动组件,纵向驱动组件,横向驱动组件包括横向驱动缸,横向滑轨,清理驱动组件包括清理转轴,清理转头,清理链;利用设置的机架作为承载基体,在其上侧设置可控制清理...
  • 本发明涉及激光清洗技术领域,具体是涉及一种金属除锈用激光清洗装置,包括清洗箱、调节限位架、轴心激光清洗装置和外侧清洗装置;轴心激光清洗装置固定安装在清洗箱的轴心位置;调节限位架设有两个,且安装在轴心激光清洗装置的外侧,调节限位架上设有多个穿...
  • 本发明涉及管道内壁加工技术领域,并公开了一种带环形激光头结构的换热器管道内壁加工设备,包括工作台,所述工作台顶部固定连接有基座,且该基座通过设置在其靠近管道一侧的轴杆固定连接有用于清洗管道内壁的激光发射组件,所述轴杆内部开设有烟尘通道,所述...
  • 本申请公开一种复合光斑的激光清洗装置及方法,涉及激光清洗技术领域,能够解决激光清洗过程中清洗表面残留物导致清洗质量降低的问题。方案包括:第一激光源产生清洗激光;第二激光源产生辅助激光;合束镜,用于将清洗激光和辅助激光合束至同一光轴,得到合束...
  • 本发明涉及电动汽车充电设备清洗技术领域,具体为电动汽车充电设备带电绝缘清洗维护终端,包括运输车和防溅弹性膜,所述运输车的顶端固定连接有箱体,所述运输车的一端安装有机械臂,所述箱体的顶端开设有第一储液仓,所述箱体的另一端开设有第二储液仓,所述...
  • 本发明公开了一种射频器件生产的一体化工装,包括工作台,工作台的顶部设置有电木,电木的顶部外壁固定有定块,定块的一侧设置有动块,动块和定块之间设置有射频器件本体,电木的顶部外壁固定有气缸,气缸的输出端与动块固定。本发明通过气缸带动动块进行运动...
  • 本申请实施例提供了一种用于模具的清洗方法,该清洗方法包括:预处理工序:采用压缩空气吹扫待清洗模具的表面;清洗工序:将预处理后的模具浸入清洗液中,并进行超声清洗;清理工序:使用喷砂机清理清洗后的模具;后处理工序:对清理后的模具进行活化和防锈处...
  • 本发明提供了一种表带双面除尘装置和表带双面除尘方法,属于3C零部件的除尘领域,本申请的双面除尘装置包括安装在除尘台架处依次布置的A面除尘模组、中转模组和B面除尘模组;A面除尘模组用于对表带的变距、A面吹气除尘和集尘,中转模组用于表带的搬运、...
  • 一种自动化表面处理防静电除尘装置及方法,本发明涉及金属表面喷漆生产线技术领域,它包含机架、电离发生单元,所述的电离发生单元固定设置在机架的左侧板上,鼓风机构设置在机架上,导气机构设置在鼓风机构上,自清洁机构设置在鼓风机构上;其通过直线导气结...
  • 本发明公开了一种光伏逆变器,涉及光伏逆变器技术领域,包括光伏逆变器壳体,所述光伏逆变器壳体一侧的内部设置有若干个散热风扇,本发明的有益效果为:通过除尘机构的设置,可以对进入光伏逆变器壳体内部并附着在半导体电器件外侧的灰尘进行除尘,通过开启第...
  • 本发明公开了一种封闭式电脑主机除尘装置,包括:除尘操作箱,气泵,喷气单元和吸尘组件,所述除尘操作箱为封闭式且设有箱门,气泵的输出端与喷气单元连通,所述吸尘组件与除尘操作箱连通,所述除尘操作箱内设有旋转盘和电机Ⅰ,所述电机Ⅰ带动旋转盘进行旋转...
  • 本发明公开了一种印刷晒版机的多级静电除尘与自清洁方法,动态预除尘,借太赫兹光谱分析材料特性,仿生鱼鳞状导流片造湍流;梯度静电吸附,经多级电场极化、荷电、吸附颗粒,集尘极板传感监测,脉冲反吹与极性切换自清灰;等离子体活化,双频发生器产射频与微...
  • 本发明公开了一种齿轮轴齿面超声清洗与强化一体化加工设备,属于齿轮加工技术领域,该齿轮轴齿面超声清洗与强化一体化加工设备,包括清洗槽机构、齿轮翻转机构、齿轮解锁机构、喷砂管机构和强化喷涂机构,所述清洗槽机构的外部焊接固定有支撑架机构。本发明通...
  • 本申请公开了一种带蜡碳化硅晶片的清洗方法,包括:将碳化硅晶片依次放入去蜡槽、第一热水超声槽、第一纯水槽、稀酸槽、第二热水超声槽、第二纯水槽中进行浸泡清洗,干燥与氮气吹扫干燥晶片;所述去蜡槽、第一热水超声槽、第一纯水槽、稀酸槽、第二热水超声槽...
  • 本发明属于微电子器件制备技术领域,具体涉及一种快速无损伤清洗Micro‑OLED掩膜版的装置及方法,其中清洗装置中设置有药液槽,药液槽中设置有槽体支撑组件、超声波振板及温度控制单元,所述槽体支撑组件由电机驱动并具备90°的旋转功能,在清洗过...
  • 本发明涉及超声波清洗线技术领域,尤其为一种PCBN刀具的超声波自动清洗线及其控制方法,包括传送带、超声波清洗池,传送带外侧通过连接板固定连接有多个用于对中间开设有圆形安装孔的PCBN刀具进行定位的固定单元多组,传送带下端安装有超声波清洗池,...
  • 本发明涉及超声波清洗设备领域,公开了一种超声波清洗机的水槽结构,包括水槽本体,所述水槽本体的下表面向下凸出形成有与所述水槽本体一体成型的凸台;所述凸台的中心与所述水槽本体的中心重合。通过在水槽的底部向下延伸形成凸台,利用凸台的结构实现压电陶...
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