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最新专利技术
  • 光敏纳米复合物、氧化硅精密成型件及其制备方法与应用
    光敏纳米复合物、氧化硅精密成型件及其制备方法与应用_香港理工大学_202410451325.5
    本申请涉及微纳米制造领域， 尤其涉及光敏纳米复合物、氧化硅精密成型件及其制备方法与应用。本申请光敏纳米复合物包括改性氧化硅颗粒和聚合物单体， 改性氧化硅颗粒包括氧化硅颗粒和改性基团， 改性基团与氧化硅颗粒结合， 聚合物单体与改性基团相溶。本...
    2025-12-25
  • 正型感光性树脂组合物、感光性膜、抗蚀剂膜、抗蚀剂下层膜及抗蚀剂永久膜
    正型感光性树脂组合物、感光性膜、抗蚀剂膜、抗蚀剂下层膜及抗蚀剂永久膜_DIC株式会社_202510354753.0
    本发明提供一种正型感光性树脂组合物、感光性膜、抗蚀剂膜、抗蚀剂下层膜及抗蚀剂永久膜。所述正型感光性树脂组合物含有下述的成分A～成分C。成分A：酚醛清漆型酚树脂， 包含衍生自间甲酚和/或邻甲酚的酚结构单元a1、衍生自水杨醛的醛结构单元a2、且...
    2025-12-25
  • 水性环保型LDI光刻胶及其制备工艺
    水性环保型LDI光刻胶及其制备工艺_深圳市德贝尔光电材料有限公司_202511118992.2
    本发明涉及光刻胶材料技术领域， 具体涉及一种水性环保型LDI光刻胶及其制备工艺， 包括交联剂合成、明胶改性、光刻胶配制与涂布。交联剂合成时， 胱胺与甲基丙烯酸缩水甘油酯反应制得胱胺二丙烯酸酯中间体， 胱胺二丙烯酸酯中间体经与4‑(2‑氨乙氧...
    2025-12-25
  • 平坦化方法、平坦化设备以及物品制造方法
    平坦化方法、平坦化设备以及物品制造方法_佳能株式会社_202510450479.7
    一种平坦化方法包括：通过使用第一平坦化构件来成型可固化的组合物而在基底上形成第一平坦化层；通过使用第二平坦化构件来成型可固化的组合物而在第一平坦化层上形成第二平坦化层；以及基于表示至少两个平坦化构件中的每一个平坦化构件的性能的信息， 确定要...
    2025-12-25
  • 曝光结构及曝光设备
    曝光结构及曝光设备_光科芯图(北京)科技有限公司_202410442323.X
    本发明涉及全息光刻技术领域， 具体涉及曝光结构及曝光设备。通过在曝光结构中限定曝光光束经过透明掩模基底在浸没液中完全成像时， 成像的理论距离大于所述透明掩模基底的厚度且小于浸没液滴的最大厚度与所述透明掩模基底的厚度之和， 保证曝光光束经过浸...
    2025-12-25
  • 一种包围结构的OPC修正方法、装置、设备及存储介质
    一种包围结构的OPC修正方法、装置、设备及存储介质_上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司_202410448473.1
    本发明涉及光刻修正领域， 特别是涉及一种包围结构的OPC修正方法、装置、设备及存储介质， 通过接收待处理版图；判断所述包围结构中是否存在间距小于预设的第一工艺参数阈值的上层结构与下层结构；当存在间距小于所述第一工艺参数阈值的第一上层结构与第...
    2025-12-25
  • 一种基于信息融合与智能调控的半导体光刻系统
    一种基于信息融合与智能调控的半导体光刻系统_天津恩佐科技发展有限公司_202510864631.6
    本发明属于信息技术领域， 涉及一种基于信息融合与智能调控的半导体光刻系统， 具体通过聚焦工业机器人半导体光刻系统， 多传感器融合与实时补偿技术将定位偏差大幅缩小， 成品率显著提升， 人工干预次数锐减。传统光刻图形转移技术图案偏差大、次品率高...
    2025-12-25
  • 照射源和相关的量测设备
    照射源和相关的量测设备_ASML荷兰有限公司_202510915505.9
    公开了一种照射源， 其包括具有气体喷嘴的气体递送系统。气体喷嘴包括在气体喷嘴的出口平面中的开口。所述气体递送系统被配置成从所述开口提供气流以用于在相互作用区域处产生所发射的辐射。该照射源被配置成接收具有传播方向的泵浦辐射并且在气流中提供该泵...
    2025-12-25
  • 一种红外低反射硫化锌人工微结构激光直写方法
    一种红外低反射硫化锌人工微结构激光直写方法_上海大学_202510958972.X
    本发明公开了一种红外低反射硫化锌人工微结构激光直写方法， 涉及红外光学表面技术领域。对比在表面蒸镀硫化锌薄膜的方法， 直接在具有稳定性质的硫化锌表面制备高反射结构的方法在极端环境下更为可靠， 制备步骤如下：(1)利用飞秒激光直写技术， 对硫...
    2025-12-25
  • 一种反射式双光束干涉曝光系统及其兼顾刻线密度和像差的装调方法
    一种反射式双光束干涉曝光系统及其兼顾刻线密度和像差的装调方法_中国科学院上海光学精密机械研究所_202511042766.0
    一种反射式双光束干涉曝光系统兼顾刻线密度和像差的装调方法， 包括：构建刻线密度标准模块， 生成用于调整曝光系统刻线密度的标准参考光束；搭建反射式双光束干涉曝光系统， 分别以±1级标准参考光束经离轴抛物面反射镜聚焦后的点， 作为双光束光路中各...
    2025-12-25
  • 用于目标图案的基于规则的重靶向的方法
    用于目标图案的基于规则的重靶向的方法_ASML荷兰有限公司_202511118245.9
    本文描述一种用于产生用于待印刷于衬底上的目标图案的重靶向图案的方法。该方法包括：获得(i)包括至少一个特征的目标图案， 该至少一个特征具有包括第一维度和第二维度的几何形状；以及(ii)多个偏差规则， 该多个偏差规则被定义为第一维度、第二维度...
    2025-12-25
  • 一种不规则晶圆的背面套刻方法
    一种不规则晶圆的背面套刻方法_武汉光谷量子技术有限公司_202511176743.9
    本申请涉及一种不规则晶圆的背面套刻方法， 其包括以下步骤：使用划片机在完成正面工艺制作且背面减薄后的不规则晶圆上切割出具有特定形状的定位边；对不规则晶圆的定位边进行成像并提取关键特征点和轮廓信息；在不规则晶圆的背面涂布光刻胶；将不规则晶圆放...
    2025-12-25
  • 用于确定光刻设备的控制数据的方法和设备
    用于确定光刻设备的控制数据的方法和设备_ASML荷兰有限公司_202511239225.7
    一种用于确定输入的方法， 该输入被输入至透镜模型， 以在对衬底的多个场中的至少一个场进行寻址时， 确定针对光刻设备的透镜的操纵的设定值， 所述方法包括：接收针对至少一个场的参数数据， 该参数数据与衬底的在至少一个场内的一个或多个参数有关， ...
    2025-12-25
  • 基于光刻胶胶厚测量的曝光剂量自适应调整光刻方法
    基于光刻胶胶厚测量的曝光剂量自适应调整光刻方法_合肥清溢光电有限公司_202511274619.6
    本发明涉及半导体光刻， 具体涉及基于光刻胶胶厚测量的曝光剂量自适应调整光刻方法， 在光刻机上加装胶厚测量装置， 将掩膜版原材放入光刻机， 并对胶厚测量装置的入射光位置进行调节；通过胶厚测量装置对掩膜版原材上的光刻区域进行胶厚测量；根据胶厚测...
    2025-12-25
  • 基片处理方法、基片处理装置和计算机存储介质
    基片处理方法、基片处理装置和计算机存储介质_东京毅力科创株式会社_202510417084.7
    本发明提供能够得到含金属抗蚀剂的良好的图案的基片处理方法、基片处理装置和计算机存储介质。基片处理方法包括对形成有含金属抗蚀剂的覆膜且实施了曝光处理和上述曝光处理后的加热处理的基片进行显影的步骤， 上述显影的步骤包括一边对上述基片进行加热一边...
    2025-12-25
  • 一种高分辨率碳粉的制备方法
    一种高分辨率碳粉的制备方法_珠海泽鹏打印耗材有限公司_202511171561.2
    本发明通过复合颜料配比、核壳结构设计、导电聚合物包覆、未交联三氟乙基甲基丙烯酸酯聚合物包覆及三级二氧化硅修饰， 协同解决了碳粉电荷稳定性、抗擦除性、耐候性与流动性的矛盾， 降低了雾化度， 提高了碳粉分辨率。
    2025-12-25
  • 图像形成装置和信息处理设备
    图像形成装置和信息处理设备_佳能株式会社_202510428746.0
    本公开涉及图像形成装置和信息处理设备。图像形成装置包括：选择部件， 所述选择部件被配置为选择用于在第一记录材料上形成图像的第一模式， 所述第一记录材料包括闭合的第一边、闭合的第二边、打开的第三边、以及打开的第四边；放置部分， 所述第一记录材...
    2025-12-25
  • 图像形成装置和信息处理设备
    图像形成装置和信息处理设备_佳能株式会社_202510428807.3
    公开了图像形成装置和信息处理设备。一种图像形成装置包括：选择器， 被配置为选择用于在第一记录材料上形成图像的第一模式， 第一记录材料包括闭合的第一边、闭合的第二边、打开的第三边和打开的第四边；托盘， 第一记录材料要被放置在该托盘上；图像形成...
    2025-12-25
  • 感光构件单元、盒和电子照相成像设备
    感光构件单元、盒和电子照相成像设备_佳能株式会社_202510990684.2
    本公开提供了一种感光构件单元， 成像设备包括能够同轴旋转的第一主组件侧斜齿轮部分和第二主组件侧斜齿轮部分， 感光构件单元包括：能够围绕其旋转轴线旋转的感光构件；第一单元侧斜齿轮部分；以及第二单元侧斜齿轮部分， 第二单元侧斜齿轮部分的齿的扭转...
    2025-12-25
  • 打印装置
    打印装置_武汉华星光电技术有限公司_202511099846.X
    本申请实施例提供一种打印装置。打印装置包括光源组件及感光鼓。光源组件包括调光面板以及背光源。调光面板位于背光源的出光侧且具有多个调光区。背光源被配置为发出背光至调光面板的内部。调光面板被配置为基于图像数据控制背光在各调光区的透过率， 以形成...
    2025-12-25
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