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最新专利技术
  • 含有蒽甲基硫酸根季铵盐光敏剂的感光树脂组合物及其应用
    含有蒽甲基硫酸根季铵盐光敏剂的感光树脂组合物及其应用_湖南初源新材料股份有限公司_202511393441.7
    本发明提供了含有蒽甲基硫酸根季铵盐光敏剂的感光树脂组合物及其应用，所述光敏剂为式(I)所示蒽‑9‑亚甲基硫酸季铵盐或式(II)所示的蒽‑9, 10‑二亚甲基硫酸二季铵盐。相比于市售的蒽类光敏剂，本发明使用的光敏剂可以有效避免因为p‑π共轭所...
    2026-02-05
  • 一种ArF光刻用底部抗反射涂层及其制备方法
    一种ArF光刻用底部抗反射涂层及其制备方法_上海新阳半导体材料股份有限公司_202410557299.4
    本发明公开了一种ArF光刻用底部抗反射涂层及其制备方法。本发明的底部抗反射涂层，其通过如下的制备方法制得，所述的制备方法包括下列步骤：将底部抗反射组合物浇铸在半导体基板上，焙烧，得到底部抗反射涂层；所述的底部抗反射组合物包括如下以重量份数计...
    2026-02-05
  • 一种193nm光刻用底部抗反射组合物
    一种193nm光刻用底部抗反射组合物_上海新阳半导体材料股份有限公司_202410557300.3
    本发明公开了一种193nm光刻用底部抗反射组合物。本发明的底部抗反射组合物包括如下重量份数计组分：50‑200份如式I所示的化合物、1‑100份交联剂、0.01‑50份光吸收剂、0.01‑50份光酸产生剂和溶剂。含有本发明的组合物制备得到的...
    2026-02-05
  • 一种193nm光刻用底部抗反射涂层的组合物及其制备方法和应用
    一种193nm光刻用底部抗反射涂层的组合物及其制备方法和应用_上海新阳半导体材料股份有限公司_202410557307.5
    本发明公开了一种193nm光刻用底部抗反射涂层的组合物及其制备方法和应用。本发明公开的组合物包括三元聚物、溶剂和光酸产生剂，所述三元聚物由下述的制备方法制得：在如式(L)所示的交联剂和引发剂存在下，将如式(A)所示的单体、单体B和如式(C)...
    2026-02-05
  • 一种193nm光刻用底部抗反射涂层及其制备方法和应用
    一种193nm光刻用底部抗反射涂层及其制备方法和应用_上海新阳半导体材料股份有限公司_202410557308.X
    本发明公开了一种193nm光刻用底部抗反射涂层及其制备方法和应用。本发明公开的底部抗反射涂层的制备方法包括下列步骤：将底部抗反射涂层组合物浇铸在半导体基板上，焙烧，得到底部抗反射涂层；其中，所述的底部抗反射涂层的组合物包括三元聚物、溶剂和光...
    2026-02-05
  • 一种193nm光刻用顶层涂层膜、其制备方法及应用
    一种193nm光刻用顶层涂层膜、其制备方法及应用_上海新阳半导体材料股份有限公司_202410557302.2
    本发明公开了一种193nm光刻用顶层涂层膜、其制备方法及应用。本发明的顶层涂层液，包括如下质量分数的组分：1‑5％聚合物和95‑99％有机溶剂；所述聚合物为通过如下的方法制得；所述聚合物的制备方法包括如下步骤：在引发剂存在下，将如式(A)所...
    2026-02-05
  • 一种形成光致抗蚀剂图案的方法
    一种形成光致抗蚀剂图案的方法_上海新阳半导体材料股份有限公司_202410557297.5
    本发明公开了一种形成光致抗蚀剂图案的方法。本发明的形成光致抗蚀剂图案的方法包括如下步骤：S1：将底部抗反射组合物浇铸在半导体基板上，焙烧，得到底部抗反射涂层；S2：在底部抗反射涂层上涂布光致抗蚀剂；S3：软焙烧；S4：曝光；S5：焙烧；S6...
    2026-02-05
  • 图形修正方法、存储介质和终端、半导体结构的形成方法
    图形修正方法、存储介质和终端、半导体结构的形成方法_中芯国际集成电路制造(北京)有限公司_202410558010.0
    一种图形修正方法、存储介质和终端、半导体结构的形成方法，图形修正方法包括：提供待修正版图；提供若干修正模型；对若干所述修正模型的修正能力进行验证，获取目标修正模型；根据所述目标修正模型，对所述待修正版图进行光学邻近效应修正，获取修正版图。所...
    2026-02-05
  • 基于神经网络的电子束曝光荷电效应修正方法、介质及系统
    基于神经网络的电子束曝光荷电效应修正方法、介质及系统_中国电子科技集团公司第四十八研究所_202511051878.2
    本发明公开了一种基于神经网络的电子束曝光荷电效应修正方法、介质及系统，方法包括步骤：S1、获取邻近效应修正后的剂量图及预计算的版图密度图，生成单位面积曝光剂量图；S2、将曝光版图划分曝光区域与非曝光区域；对曝光区域采用U‑Net网络架构建模...
    2026-02-05
  • 用于高透光率产品的监控图案及其使用方法
    用于高透光率产品的监控图案及其使用方法_上海华力集成电路制造有限公司_202511195874.1
    本发明提供一种用于高透光率产品的监控图案及其使用方法。本发明提供的监控图案，其特征在于形状为圆孔状。相应的监控方法包括：通过附加相位层‑光刻工艺，使用包含该圆孔状监控图案的光刻掩模版，在晶圆上形成对应的光刻胶图案；然后基于光刻胶图案进行刻蚀...
    2026-02-05
  • 一种基于动态子图特征融合的光刻热点检测方法和装置
    一种基于动态子图特征融合的光刻热点检测方法和装置_广东工业大学_202511229819.X
    本发明公开了一种基于动态子图特征融合的光刻热点检测方法和装置，涉及集成电路技术领域，包括：将待测光刻版图切片样本中的多边形正交切割为矩形，以各个矩形的中心点作为节点，结合各节点关联的嵌入特征构建待测图结构数据；根据待测光刻版图切片样本关联的...
    2026-02-05
  • 一种掩膜版位置精度补偿方法
    一种掩膜版位置精度补偿方法_合肥清溢光电有限公司_202511274483.9
    本发明涉及掩膜版制造，具体涉及一种掩膜版位置精度补偿方法，根据掩膜版尺寸限定标准版的测量范围，并利用标准版生成光刻机位置精度的标准文件；将标准文件导入光刻机，在光刻机台上对掩膜版进行光刻；在测量机台上测量掩膜版的位置精度，并生成对应的位置精...
    2026-02-05
  • 一种基于数据处理的曝光机故障诊断方法及系统
    一种基于数据处理的曝光机故障诊断方法及系统_苏州汇影光学技术有限公司_202511416555.9
    本发明涉及数据处理领域，具体涉及一种基于数据处理的曝光机故障诊断方法及系统。包括：获取灰度曝光图像以及振动数据；对灰度曝光图像进行Hough曲线检测，得到每个灰度曝光图像中的曲线数量值和每个曲线数量值对应的投票数；计算灰度曝光图像的视觉曝光...
    2026-02-05
  • 一种温湿度控制分流装置及涂胶显影机
    一种温湿度控制分流装置及涂胶显影机_西安稳能微电子科技有限公司_202511455584.6
    本发明公开了一种温湿度控制分流装置及涂胶显影机，涉及晶圆加工技术领域，本发明通过将主管道与THC设备的一个出风口连接，使得供入分流盒内的气体温度、湿度相同，而借助四个均匀分布的分流管道分流，以及相同长度、规格管路的输送，将同源的恒温、恒湿气...
    2026-02-05
  • 一种适用于等离子体处理后干膜的退膜液及其使用方法
    一种适用于等离子体处理后干膜的退膜液及其使用方法_昆山市板明电子科技有限公司_202511431648.9
    本发明公开了一种适用于等离子体处理后干膜的退膜液，其包括以下质量百分含量的组分：1‑3%无机碱、5‑20%有机碱、2‑6%有机溶剂、3.6‑6%复合渗透剂和余量的水；其中，复合渗透剂为2‑氨基‑2‑甲基‑1‑丙醇、含多胺基双子磺酸盐表面活性...
    2026-02-05
  • 确定最佳焦点的方法
    确定最佳焦点的方法_华虹半导体制造(无锡)有限公司_202511231882.7
    本发明提供一种确定最佳焦点的方法，该方法包括：提供在不同焦点设置下进行光刻处理的晶圆；对晶圆上的光刻胶图形进行光学关键尺寸量测，以获取与不同焦点设置分别对应的多个侧壁角值；基于多个侧壁角值和不同焦点设置，建立侧壁角与焦点的关系；根据该关系，...
    2026-02-05
  • 光刻机的FIA传感器和基准单元的双向标定方法
    光刻机的FIA传感器和基准单元的双向标定方法_上海新毅东半导体科技有限公司_202511316835.2
    提供了一种光刻机的FIA传感器和基准单元的双向标定方法，包括：通过将工作台的中心移动到物镜投影中心的正下方，基于用于工作台的基准单元的中心标记、左侧标记和右侧标记的中心坐标以及左侧FIA传感器和右侧FIA传感器的中心坐标标定所述基准单元的同...
    2026-02-05
  • 打印制剂转印组件
    打印制剂转印组件_惠普印迪格公司_202511381762.5
    提供了一种打印制剂转印组件。在示例中，打印制剂转印组件包括打印制剂转印元件来接收打印制剂的第一层和打印制剂的第二层，并且包括能量源。能量源可以以第一预先确定的强度水平向第一层提供能量并且以不同的第二预先确定的强度水平向第二层提供能量。
    2026-02-05
  • 图像形成装置
    图像形成装置_佳能株式会社_202510528344.8
    公开了图像形成装置。本发明旨在减少用于使磁体相对于显影剂移动的移动构件。一种图像形成装置包括：显影单元，所述显影单元包括容纳部分、显影构件和磁体单元，所述磁体单元位于容纳部分的内部并且被支撑为在移动方向上相对于容纳部分可移动；旋转式装置；以...
    2026-02-05
  • 图像形成装置
    图像形成装置_佳能株式会社_202510550470.3
    本公开涉及一种图像形成装置，其包括：感光鼓；构造成能够围绕轴向方向旋转的旋转件；调色剂盒，所述调色剂盒构造成由旋转件支撑并且具有排出调色剂的排出口；以及显影单元，所述显影单元构造成由旋转件支撑，在显影位置处使形成在感光鼓上的静电潜像显影，并...
    2026-02-05
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