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最新专利技术
  • 掩模标记及生成方法、光刻方法、套刻误差的测量方法
    掩模标记及生成方法、光刻方法、套刻误差的测量方法_合肥晶合集成电路股份有限公司_202610282910.6
    本发明提供一种掩模标记及生成方法、光刻方法、套刻误差的测量方法。其中，所述掩模标记中的第一图案可用于实现不同掩模板之间的位置对准，以避免放置误差影响套刻误差的检测精准度，避免系统性套刻误差。且通过获取不同掩模板中相同位置处的所述第一图案之间...
    2026-05-02
  • 确定用于光刻相关图案的圆化轮廓
    确定用于光刻相关图案的圆化轮廓_ASML荷兰有限公司_202610147242.6
    本文中描述了用于确定目标轮廓的圆化轮廓、或用于掩模设计的其它的光刻有关轮廓的方法和系统。所述方法包括将轮廓表示转换成(i)在第一维度(例如，x)中的第一组轮廓点位置和(ii)在第二维度(例如，y)中的第二组轮廓点位置。基于所述第一组轮廓点位...
    2026-05-02
  • 类光刻的飞秒激光图案化钙钛矿量子点的方法
    类光刻的飞秒激光图案化钙钛矿量子点的方法_上海理工大学_202511895164.X
    本申请公开了一种类光刻的飞秒激光图案化钙钛矿量子点的方法，其包括以下步骤：形成CsPb(I/Br)3量子点溶液；旋涂CsPb(I/Br)3量子点溶液于玻璃基片上，形成钙钛矿量子点薄膜；使用飞秒激光图案化钙钛矿量子点薄膜；冲洗并浸泡钙钛矿量子...
    2026-05-02
  • 一种超表面结构的制备方法
    一种超表面结构的制备方法_杭州纳境科技有限公司_202411124458.8
    本申请涉及一种超表面结构的制备方法，属于制备工艺技术领域，包括如下步骤：提供干净的衬底；在衬底上生长非晶硅薄膜；在非晶硅薄膜上生长金属层，并放入等离子清洗机进行plasma处理；进行HMDS预处理；进行涂胶工艺；进行曝光和显影工艺；进行Cr...
    2026-05-02
  • 压印校正系统及方法
    压印校正系统及方法_新竣科技有限公司_202411393149.0
    本发明公开了一种压印校正系统及方法，包含有一压印设备、一量测单元、一演算单元、三高度调整装置及一控制单元，该压印设备包含相对的一载板与一模板，该载板供承载一压合物，该压合物包含一基板及涂布于基板表面的一高分子材料层，该模板可移动地设置于载板...
    2026-05-02
  • 全息材料、体全息光栅及制备方法、体全息光波导及设备
    全息材料、体全息光栅及制备方法、体全息光波导及设备_珠海莫界科技有限公司_202411400612.X
    本申请公开了一种全息材料、体全息光栅的制备方法、体全息光栅、体全息光波导及全息设备，该制备方法包括：提供全息材料，所述全息材料是上述所述的全息材料；将所述全息材料均匀分布在基板的表面；利用光束对均匀分布有所述全息材料的基板的表面进行照射，使...
    2026-05-02
  • 一种基于三元嵌段共聚物的极紫外光刻胶及其制备方法和应用
    一种基于三元嵌段共聚物的极紫外光刻胶及其制备方法和应用_河北凯诺中星科技有限公司_202511856614.4
    本申请涉及极紫外光刻胶技术领域，具体公开了一种基于三元嵌段共聚物的极紫外光刻胶及其制备方法和应用。一种基于三元嵌段共聚物的极紫外光刻胶，其包括如下原料：成膜树脂、光致产酸剂、交联剂、流平剂、抗氧剂、混合溶剂；成膜树脂为环氧乙烷‑四氢呋喃‑γ...
    2026-05-02
  • 一种红色光刻胶用颜料及其制备和应用
    一种红色光刻胶用颜料及其制备和应用_沈阳化工研究院有限公司_202511963218.1
    本发明属于液晶显示领域，具体涉及一种红色光刻胶用颜料及其制备和应用。包含红色有机颜料和分散剂；其中红色有机颜料为P.R.149，P.R.177，P.R.179，P.R.242，P.R.244，P.R.254，P.R.264，P.R.291中...
    2026-05-02
  • 感光型绝缘组合物及其制备方法、应用方法及印刷电路板
    感光型绝缘组合物及其制备方法、应用方法及印刷电路板_湖南凯睿思微电子材料科技有限公司_202512060250.5
    本发明公开了一种感光型绝缘组合物、制备方法及其应用。该感光型绝缘组合物包含高分子树脂、固化组分、填料及溶剂；其中，高分子树脂包括感光树脂、结构树脂、增韧树脂和阻镀树脂，该感光树脂包含具有碱溶性基团和光聚合性不饱和双键的聚合物；该结构树脂包含...
    2026-05-02
  • 感光性着色树脂组成物、彩色滤光片及其制造方法及液晶显示器
    感光性着色树脂组成物、彩色滤光片及其制造方法及液晶显示器_奇美实业股份有限公司_202610009988.0
    本发明涉及一种感光性着色树脂组成物、彩色滤光片及其制造方法及液晶显示器。感光性着色树脂组成物包含着色剂(A)、碱可溶性树脂(B)、光聚合性化合物(C)、光起始剂(D)及溶剂(E)。感光性着色树脂组成物中的镍含量范围为1ppm至100ppm，...
    2026-05-02
  • 一种光刻胶烘烤固化尾气排放装置及光刻胶烘烤固化方法
    一种光刻胶烘烤固化尾气排放装置及光刻胶烘烤固化方法_中国电子科技集团公司第四十八研究所_202511840095.2
    本发明公开了一种光刻胶烘烤固化尾气排放装置及光刻胶烘烤固化方法，包括连接至反应室下端法兰的尾气排放管道，所述尾气排放管道上设有微氧含量检测器和冷阱，所述微氧含量检测器用于检测反应室外排尾气中的氧浓度，所述冷阱用于实现尾气冷却，并收集反应室产...
    2026-05-02
  • 一种光刻胶除泡装置
    一种光刻胶除泡装置_潍坊科技学院_202610277208.0
    本发明涉及半导体制造技术领域，具体公开了一种光刻胶除泡装置，包括除泡机构，除泡机构包括支管，支管具有第一管口和第二管口，支管外套设有套管，套管靠近第一管口的位置和支管外周侧固定连接，支管外周侧和套管内壁之间设有容纳腔，套管上开设有连通容纳腔...
    2026-05-02
  • 一种用于调控曝光机灯源温度的水冷却机构
    一种用于调控曝光机灯源温度的水冷却机构_江西华创触控科技有限公司_202311711564.1
    本发明公开了一种用于调控曝光机灯源温度的水冷却机构，包括装置本体，装置本体包括底基座，底基座包括第一冷却辅助装置和第二冷却辅助装置，且第一冷却辅助装置与第二冷却辅助装置之间设有竖向隔板一，装置本体的底部上设有橡胶支撑垫，第一冷却辅助装置与第...
    2026-05-02
  • 一种基于晶格弹簧模型的负显影光刻胶收缩效应建模方法
    一种基于晶格弹簧模型的负显影光刻胶收缩效应建模方法_中国科学院微电子研究所_202411410754.4
    本发明涉及一种基于晶格弹簧模型的负显影光刻胶收缩效应建模方法，属于光刻技术领域，解决了现有技术中负显影存在严重的光刻胶收缩效应的问题。具体步骤包括：基于曝光烘烤得到未考虑收缩效应的光刻胶离散晶格的保护位点浓度分布；基于晶格弹簧理论分别计算每...
    2026-05-02
  • 深紫外光刻机的激光光束测量系统及光刻机
    深紫外光刻机的激光光束测量系统及光刻机_新毅东(北京)科技有限公司_202610041690.8
    本发明提供一种深紫外光刻机的激光光束测量系统及光刻机，属于光刻机技术领域，系统包括：第一分光部件，将入射的深紫外激光束分成光刻光束和测量光束；第二分光部件，将测量光束分成第一测量支路光束和第二测量支路光束；光束位置测量支路，接收第一测量支路...
    2026-05-02
  • 一种新型集成电路曝光方法
    一种新型集成电路曝光方法_日月新先进技术研究(昆山)有限公司_202610071306.9
    本发明公开了一种新型集成电路曝光方法，本发明属于半导体制造领域，包括步骤一：根据晶圆目标曝光区域的大小设定机台步进移动量，设定晶圆目标曝光区域X方向大小为M，Y方向大小为N；步骤二：将所述晶圆目标曝光区域拆分为若干组曝光单元，所述曝光单元的...
    2026-05-02
  • 具有穿过光罩隔室壁的保持部的光罩盒
    具有穿过光罩隔室壁的保持部的光罩盒_恩特格里斯公司_202610246051.5
    本申请涉及一种具有穿过光罩隔室壁的保持部的光罩盒。所述光罩盒包含外部分及内部分，所述外部分包含盒门及盒圆顶，所述内部分包含底板及盖。所述底板或所述盖中的一者包含朝向所述底板或所述盖中的另一者延伸的光罩隔室壁。所述光罩隔室壁包含一或多个保持特...
    2026-05-02
  • 一种多级双锥形多气口式动态气体锁装置
    一种多级双锥形多气口式动态气体锁装置_广东海洋大学_202610264919.4
    一种多级双锥形多气口式动态气体锁装置，采用多级双锥形管道构型，光孔通道截面形状为多级双锥形并由若干双锥形管道节串联而成，每一级双锥形管道节均分为对流段和抑制段，对流段的大口端朝向投影物镜腔室，对流段的小口端与抑制段的小口端相接形成窄喉口，抑...
    2026-05-02
  • 一种多级单锥形多气口式动态气体锁装置
    一种多级单锥形多气口式动态气体锁装置_广东海洋大学_202610264921.1
    一种多级单锥形多气口式动态气体锁装置，采用多级单锥形管道构型，管道中心的光孔通道的截面形状为多级单锥形，并由若干单锥形管道节串联而成，在单锥形管道节的管道壁上设有进气口和吸气口；沿光孔通道的中轴线方向形成逐级扩展的连续重复流道形态，对污染物...
    2026-05-02
  • 用于曝光浮雕前体的设备和方法
    用于曝光浮雕前体的设备和方法_阿合斯印前有限公司_202610303193.0
    公开了一种用于曝光浮雕前体(P)的设备，该浮雕前体(P)包括基板层和至少一个光敏层，所述设备包括：第一光源(1)，其包括LED阵列，所述LED阵列被配置成照射所述浮雕前体的第一侧；第二光源(2)，其被配置成照射所述浮雕前体的与所述第一侧相对...
    2026-05-02
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