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  • 本申请涉及用于制备多晶碳化硅的装置和方法、多晶碳化硅及其应用。该装置包括:坩埚;石墨基板, 设置于坩埚且位于坩埚的上部;气道结构, 设置于坩埚, 用于向坩埚内通气;挡板, 设置于坩埚内, 与石墨基板具有间隔且投影覆盖石墨基板, 挡板与坩埚的...
  • 本发明公开了一种重掺硼直拉硅外延片的内吸杂工艺, 包括步骤:1)将重掺硼直拉硅片在惰性气氛下进行高温预处理, 包括依次进行高温快速热处理和高温普通热处理;2)硅片进行抛光消除表面损伤层;3)沉积轻掺外延层或本征外延层制得所述外延片。所述外延...
  • 本发明公开了一种在非金属衬底上生长磷烯的方法, 采用分子束外延技术, 在高真空环境下以磷化铟为前驱体, 在外延生长的硅衬底上生长磷烯, 实现对磷烯生长过程的精确控制。步骤包括:在新鲜剥离的云母表面沉积金层并进行离子清洗和退火处理获得洁净的 ...
  • 本发明公开了一种多梯度电流与甲烷协同调控的单晶金刚石形核方法, 包括:将具有Ir薄膜的氧化物复合衬底置于形核试验用MPCVD设备的腔室内, 对Ir薄膜进行氢刻蚀清洗;向腔室内通入预设体积分数的甲烷气体, 并使甲烷气体与腔室内的气体充分混匀;...
  • 本发明公开一种半导体工艺腔室及半导体设备, 所公开的半导体工艺腔室包括腔室本体和设置于腔室本体内的基座、预热环和环形内衬, 腔室本体通过基座分为第一腔室和第二腔室;环形内衬环绕基座设置, 且与基座之间形成环形间隙;预热环与环形内衬连接, 且...
  • 本发明提供了一种寄生碳化硅的去除方法, 包括采用甲硅烷和含氢气和氟化氢气体的无氧清洁气体, 保持清洁腔室内的清洁温度不低于1300摄氏度, 清洁压力不低于100mbar下去除寄生碳化硅, 有利于提升清洁速率。利用氢气对氟化氢气体起到稀释作用...
  • 本申请公开了一种分子束外延系统的钼托组件, 涉及半导体技术, 包括:钼托本体, 材料为钼, 呈环状结构, 所述钼托本体内环设置有台面结构, 所属钼托结构底部配有氮化硼(PBN)环状结构, 所述钼托本体内环的台面结构的规格与晶圆结构的规格相适...
  • 本发明涉及碳化硅晶体加工技术领域, 更具体的公开了一种碳化硅晶体生长设备, 包括定位底座, 所述定位底座的顶部固定连接有加热炉体, 所述加热炉体的顶部安装有顶部密封盖, 所述定位底座的顶部安装有石墨坩埚组件;本发明将需要进加工的碳化硅原料放...
  • 本发明属于半导体材料制备技术领域, 本发明提供了一种碳化硅晶体及其生长装置与生长方法, 所述生长装置设置有主副坩埚;其中, 所述主坩埚的内部包括碳化硅原料区及第一气相传输区, 用于碳化硅的晶体生长反应;所述副坩埚的内部包括硅补充原料区及第二...
  • 本发明涉及硅单晶炉技术领域, 具体涉及一种连续加料装置及加料速度控制方法, 其中加料装置包括竖直安装在单晶炉上并延伸至坩埚上方的进料管, 以及滑动安装在单晶炉一侧设置的机架上的料仓, 料仓底部设置有竖直的出料管, 出料管的输出端与进料管的输...
  • 本申请涉及一种单晶炉、单晶硅棒的制备方法、硅片和太阳能电池, 单晶炉包括水冷屏, 水冷屏包括外筒体和内筒体, 外筒体设置于内筒体的外周, 内筒体包括本体、交替设置的第一散热体和第二散热体, 第一散热体和第二散热体均沿内筒体的径向相对本体凸起...
  • 本发明公开了一种特殊具有磁转变性质的高质量LaCoO3‑δ单晶制备方法, 包括La2O3粉末先进行除水烧结;将预处理的La2O3粉末和Co3O4粉末按照化合反应比置于研钵中, 进行研磨均匀;将粉末倒入定制的不锈钢模具中, 使用1.4T压力进...
  • 本申请公开一种材料制备方法、器件制备方法和热电器件。材料制备方法应用于制备热电腿的材料, 热电腿包括第一热电腿, 第一热电腿的材料包括N型Mg3Bi2晶体, 制备方法包括:称取第一原料装入第一反应容器, 并将第一反应容器放入第一加热装置中,...
  • 本发明提供一种利用熔盐法制备二氧化铀单晶的方法及得到的二氧化铀单晶, 以解决现有的助熔剂法制备二氧化铀单晶时无法控制不同晶面生长的问题。所述方法为:在还原剂和表面活性物质存在的条件下, 将U3O8粉末在熔盐中升温至保温温度, 保温, 然后降...
  • 本发明公开了一种外延生长100平方厘米级垂直排列介孔单晶二氧化钛薄膜及其制备方法, 涉及功能介孔材料制备领域。本发明旨在解决原子尺度单晶生长与介观尺度自组装的动力学不兼容问题。其方法是:采用一种基于溶液体系的外延生长策略, 利用预先形成的稳...
  • 本发明公开一种立方相HgSe晶体的固相制备方法, 属于无机材料制备领域。所述立方相HgSe晶体的固相制备方法为:将硫化汞和硒粉混合研磨均匀后压片放入石英管中, 然后借助高真空扩散泵机组将石英管抽真空, 使用氢氧焰将石英管密封;将石英管放入高...
  • 本发明属于钢管电解处理领域, 具体的说是一种半导体级EP管道电解抛光加工装置, 包括槽体和仓体, 所述仓体固接在槽体的顶部;所述槽体的内部开设有电解槽和清洗槽, 所述仓体的内部设有支架, 所述支架的底部滑动连接有移动架, 所述支架的侧面固接...
  • 本发明属于不锈钢电解抛光技术领域, 具体的说是一种全自动不锈钢管道内表面电解抛光设备, 包括处理箱, 所述处理箱内部依次开设有电解池和清洗池;所述处理箱中部固接有一对支撑板;所述支撑板侧壁固接有伺服电机;所述伺服电机输出端固接有圆杆;通过使...
  • 本申请公开了一种阴极杆辅助安装机构, 用于辅助电化学抛光装置中的阴极杆水平插入超导射频腔, 涉及超导射频腔技术领域。阴极杆辅助安装机构的阴极杆对接模组包括第一导轨、阴极杆固定组件和支撑组件;阴极杆辅助安装机构的硬质导杆对接模组包括第二导轨、...
  • 本发明公开了一种带钢电解清洗槽, 其涉及电解清洗领域, 所述带钢电解清洗槽包括:主槽体;至少一组电极板组, 所述电极板组设置在所述主槽体内部, 所述电极板组包括相对设置的第一电极板和第二电极板, 所述第一电极板和所述第二电极板之间用于通过待...
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