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最新专利技术
  • 静电图像显影用色调剂、静电图像显影剂、色调剂盒、处理盒、图像形成装置及图像形成方法
    静电图像显影用色调剂、静电图像显影剂、色调剂盒、处理盒、图像形成装置及图像形成方法_富士胶片商业创新有限公司_202510071746.X
    一种静电图像显影用色调剂、静电图像显影剂、色调剂盒、处理盒、图像形成装置及图像形成方法， 所述静电图像显影用色调剂具有包含作为粘结树脂的非晶性树脂及结晶性树脂的色调剂粒子以及外添剂， 所述外添剂包含比重1.3以上且2.0以下的无机粒子， 在...
    2026-02-07
  • 一种测量LDI光刻机平台运动栅格误差的方法
    一种测量LDI光刻机平台运动栅格误差的方法_源卓微纳科技(苏州)股份有限公司_202410360970.6
    本发明公开了一种测量LDI光刻机平台运动栅格误差的方法， 通过平台重复步进并记录标记点位置向量、平台位置坐标的步骤， 完成标记板上Y方向或X方向标记点位置向量和平台位置坐标数据， 计算平台在每个位置相对上一位置对应的栅格误差变化量和相对于起...
    2026-02-07
  • 一种芯片制造中的光刻机装置及系统
    一种芯片制造中的光刻机装置及系统_深圳市百正科技有限公司_202511246050.2
    本发明涉及光刻机技术领域， 具体为一种芯片制造中的光刻机装置及系统， 其中一种芯片制造中的光刻机装置包括光刻机本体， 所述光刻机本体中固定设置有光刻承载台， 所述光刻承载台上放置有硅片密封承载组件， 通过硅片密封承载组件进行硅片转移时的密封...
    2026-02-07
  • 一种卡盘
    一种卡盘_深圳中科飞测科技股份有限公司_202511207356.7
    本发明涉及半导体检测技术领域， 尤其涉及一种卡盘， 包括：主体部， 主体部具有承载面和中心通孔， 承载面包括第一区域和围绕第一区域的第二区域；位于第一区域的凸台结构和位于第二区域的密封结构；其中， 凸台结构包括多个圆周凸台组和多个径向凸台组...
    2026-02-07
  • 一种卡盘
    一种卡盘_深圳中科飞测科技股份有限公司_202511207355.2
    本发明涉及半导体检测技术领域， 尤其涉及一种卡盘， 卡盘包括：主体部， 所述主体部具有承载面和沿厚度方向贯穿所述主体部的中心通孔， 所述承载面包括第一区域和围绕所述第一区域的第二区域， 所述第一区域围绕所述中心通孔；位于所述第一区域的凸台结...
    2026-02-07
  • 基于衍射的套刻标记测量装置、方法及测量系统
    基于衍射的套刻标记测量装置、方法及测量系统_上海芯上微装科技股份有限公司_202511171483.6
    提供一种基于衍射的套刻标记测量装置、方法及测量系统， 该装置包括光源、照明模块、工件台以及探测模块， 该照明模块包括照明光纤和照明单元， 照明光纤用于将光源导入照明单元， 照明单元用于生成入射光束；工件台用于承载晶圆及带动晶圆运动， 该晶圆...
    2026-02-07
  • 准分子激光器剩余使用寿命的预测方法、装置及电子设备
    准分子激光器剩余使用寿命的预测方法、装置及电子设备_新毅东(北京)科技有限公司_202511165155.5
    本发明提供一种准分子激光器剩余使用寿命的预测方法、装置及电子设备， 涉及半导体制造技术领域。所述方法包括获取目标复合特征， 所述目标复合特征包括脉冲能量复合特征、放电参数复合特征和气体参数复合特征；根据所述目标复合特征中各复合特征之间的互耦...
    2026-02-07
  • 扫描曝光装置、扫描曝光方法以及物品制造方法
    扫描曝光装置、扫描曝光方法以及物品制造方法_佳能株式会社_202511164139.4
    本公开涉及扫描曝光装置、扫描曝光方法以及物品制造方法。扫描曝光装置针对由照明光学系统照明的照明区域扫描原版， 并且一边与原版的扫描同步地扫描基板， 一边对基板进行扫描曝光。扫描曝光装置具备：第1调整机构， 在进行基板的第1区域的扫描曝光以及...
    2026-02-07
  • 一种使用灰度曝光制作通孔的实验方法
    一种使用灰度曝光制作通孔的实验方法_绍芯实验室_202510849806.6
    本申请涉及一种使用灰度曝光制作通孔的实验方法， 旨在通过光刻与刻蚀过程的协同设计， 实现具有特定倾角和深宽比的通孔结构。所述方法包括：确定通孔角度与深宽比、选择刻蚀条件、基于刻蚀速率选择比设计灰度掩模结构、实施灰度曝光获得掩模图形、刻蚀、去...
    2026-02-07
  • 曝光装置、曝光装置的控制方法和产品制造方法
    曝光装置、曝光装置的控制方法和产品制造方法_佳能株式会社_202510363245.9
    本发明提供了曝光装置、曝光装置的控制方法和产品制造方法。曝光装置包括：照明光学系统， 其包括改变来自光源的光的波段的多个光学元件， 并且被构造为用波段已被所述多个光学元件之一改变的光对被照射表面进行照射；以及控制单元， 其被构造为使用跟照度...
    2026-02-07
  • 套刻偏差处理方法、装置、设备、介质及系统
    套刻偏差处理方法、装置、设备、介质及系统_中芯国际集成电路制造(上海)有限公司_202410382266.0
    本申请涉及半导体技术领域， 尤其涉及一种套刻偏差处理方法、装置、设备、介质及系统， 该方法包括：获取与当前层关联的前后道工艺参数特征和偏差补偿模型， 并输入至偏差补偿模型进行偏差补偿处理， 得到前后道工艺参数特征对应的预测偏差补偿数据；在前...
    2026-02-07
  • 一种制备三维无应力金属导电结构的曲面光刻方法
    一种制备三维无应力金属导电结构的曲面光刻方法_中国科学院力学研究所_202510843362.5
    本发明公开了微结构制备领域的一种用于制备三维薄膜型无应力金属微结构的曲面光刻方法， 包括以下步骤：在薄膜基底的正反双面均涂覆光刻胶， 并通过光刻方法将光刻胶进行图案化， 所得凹槽图案形状与欲制备金属微结构展平后的形状一致；将上述带有图案化光...
    2026-02-07
  • 正型感光性树脂组合物、硬化膜、附硬化膜的基板的制造方法及层叠体的制造方法
    正型感光性树脂组合物、硬化膜、附硬化膜的基板的制造方法及层叠体的制造方法_日铁化学材料株式会社_202510372476.6
    本发明涉及一种正型感光性树脂组合物， 其在形成图案状硬化膜时， 可使形状保持性、残膜率、耐热性及接着强度皆为高水平。本发明的正型感光性树脂组合物包含：(A)含有不饱和基的碱可溶性树脂；(B)聚合性化合物；(C)光聚合引发剂；(F)感光材；及...
    2026-02-07
  • 一种正性感光树脂组合物
    一种正性感光树脂组合物_万华化学集团股份有限公司_202410354883.X
    本发明公开一种正性感光树脂组合物。包含以下组成：(A)碱溶性树脂、(B)感光性化合物、(C)有机溶剂、(D)助剂、(E)上述包含(E)组成的树脂组合物， 可以在OLED器件中作为平坦化层、绝缘层中应用， 并在曝光显影过程中显著降低非曝光区膜...
    2026-02-07
  • 着色固化性树脂组合物、滤色器、包含该滤色器的显示装置以及上述滤色器的制造方法
    着色固化性树脂组合物、滤色器、包含该滤色器的显示装置以及上述滤色器的制造方法_住友化学株式会社_202510363763.0
    本发明可以提供一种即使在低温下进行加热也能够形成图案形状良好的滤色器的着色固化性树脂组合物。所述着色固化性树脂组合物包含粘合剂成分、聚合引发剂和着色剂， 粘合剂成分由树脂和聚合性化合物构成， 树脂包含具有环氧基的碱溶性树脂， 聚合性化合物包...
    2026-02-07
  • 树脂组合物、树脂膜、附树脂膜的基板、有机EL显示装置、附树脂膜的基板的制造方法
    树脂组合物、树脂膜、附树脂膜的基板、有机EL显示装置、附树脂膜的基板的制造方法_日铁化学材料株式会社_202510375345.3
    本发明汲及一种感光性树脂组合物， 其可形成具有适当遮光性且在可见光区域中的穿透率变化幅度小的树脂膜。本发明的感光性树脂组合物， 其包含(A)含有碳黑和/或钛黑的黑色颜料、(B)含有不饱和基的碱可溶性树脂、(C)具有两个以上的乙烯性不饱和基的...
    2026-02-07
  • 光阻组合物、微影方法及极紫外微影方法
    光阻组合物、微影方法及极紫外微影方法_台湾积体电路制造股份有限公司_202510735217.5
    本揭露是关于一种光阻组合物、微影方法及极紫外微影方法， 该光阻组合物包括一第一光阻。该第一光阻具有一化学式(a1)或一化学式(a2)：(R1Sn)6(OH)mO4+y 化学式(a1)；及(R1Sn)6‑x(R2Sn)x(OH)mO4+y 化...
    2026-02-07
  • 感光性树脂层叠体及其制造方法
    感光性树脂层叠体及其制造方法_旭化成株式会社_202510372084.X
    一种感光性树脂层叠体及其制造方法， 所述感光性树脂层叠体能够实现满足抗蚀图案近年来特别要求的特性的该抗蚀图案， 且能够确保经时性的品质稳定性。一种感光性树脂层叠体， 其包含：临时支承层、包含感光性树脂组合物的感光性树脂层和保护层， 前述感光...
    2026-02-07
  • 图案形成方法及抗蚀剂材料
    图案形成方法及抗蚀剂材料_信越化学工业株式会社_202510363627.1
    本发明涉及图案形成方法及抗蚀剂材料。本发明的课题是提供可形成高深宽比且微细的图案而不发生图案崩塌的图案形成方法。该课题的解决手段为一种图案形成方法， 其特征为包含下列步骤：准备含有具有含硅的酸不稳定基团的聚合物的抗蚀剂材料， 使用前述抗蚀剂...
    2026-02-07
  • 膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、单体、及聚合物
    膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、单体、及聚合物_信越化学工业株式会社_202510363626.7
    本发明涉及膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、单体、及聚合物。本发明的课题：本发明以提供环境负荷少、且对于基板的涂布性为优良的膜形成用组成物为目的。本发明的解决手段：一种膜形成用组成物， 其特征在于， 该膜形成用组成物含有具有具五...
    2026-02-07
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