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  • 本发明公开了一种光学镜片打磨控制方法及系统,涉及半导体技术领域,该方法包括:分别获取待打磨的光学镜片的全区域初始参数以及标准光学镜片的全区域标准参数,得到各区域的参数偏差分布矩阵;基于参数偏差分布矩阵,在多约束条件下按预设规则对镜片进行预划...
  • 一种掩模基板衬底抛光工艺的压力控制装置与方法及掩模基板衬底抛光系统,控制装置包括模块化气路集成单元与中央控制单元,气路单元集成了电气比例阀压力传感器及用于通路切换与精密排气泄压的阀组,构成可切换的正压施压与负压吸附通路;中央控制单元基于压力...
  • 本发明涉及薄壁件加工设备技术领域,具体为一种用于薄壁件磨加工的防颤振装置,包括用于放置薄壁件的安装板,所述安装板上与薄壁件接触的平面为安装面,所述安装板上设置用于推动薄壁件与安装板稳定接触且限制薄壁件远离安装面的第一固定组件、用于限制薄壁件...
  • 本发明公开了一种精密钨钢模具磨削加工的夹具交替移动装置,涉及精密钨钢模具加工技术领域,包括装置座构件和扩展组合构件,所述装置座构件的前后两端的侧边水平连接安装有两组扩展组合构件。该精密钨钢模具磨削加工的夹具交替移动装置,通过各结构协同工作,...
  • 本发明适用于检修辅助设备技术领域,阀盖旋转装置包括第一滚动支撑机构、第二滚动支撑机构以及驱动机构,第一滚动支撑机构包括升降组件及设置于升降组件上的第一滚轮组件,第一滚轮组件的第一滚轮用于滚动支撑阀盖的第一法兰;第二滚动支撑机构包括支撑组件、...
  • 本发明涉及硅片抛光技术领域,特别涉及一种改善硅片剥离后蜡痕异常的方法。本发明协同调控陶瓷盘进入贴付工位的目标温度T1、单枚硅片的涂蜡量V以及涂蜡转速S,通过将T1设定为显著高于贴付蜡软化温度和流动开始温度,并配合降低V和提高S,使蜡层在贴付...
  • 本发明属于风力发电设备制造加工技术领域,具体涉及一种风力发电机底座打磨用工装,包括安装座,用于提供稳定的安装基础;支架,通过紧固件可拆卸地安装于所述安装座上,用于支撑待打磨的风力发电机底座;限位支撑组件,设置于所述支架上,所述限位支撑组件包...
  • 本发明公开了一种磨床的工件自动上料定位装置,包括定位工装、传输设备和转运工装。定位工装装配于磨床进给部,用于夹持工件;传输设备布置于磨床外侧,用于输送工件;转运工装设于两者之间,负责工件转运。转运工装包含安装支架、升降组件、流转组件和夹持组...
  • 本发明公开了一种自动上下料及储料设备,布置于邻近磨床的位置上,其包括用以储放工件的储料装置、用以将工件在储料装置和磨床的加工轴两者间进行转移的送料装置;送料装置包括桁架式机械臂、配置于桁架式机械臂上的取料组件,并由桁架式机械臂带动取料组件横...
  • 本申请提供一种功能梯度抛光垫,其特征在于:包含一体成型且无间隙的抛光层与支撑层;抛光层具有从支撑面到接触面离散梯度减小的模量,或者,抛光层具有从中心到边缘离散或连续梯度减小的模量;支撑面或中心的模量范围为250~680 Mpa,所述接触面或...
  • 本发明涉及半导体抛光技术领域,具体为一种自调节研磨率的聚氨酯微孔抛光垫及其制造工艺。本发明旨在解决现有技术中聚氨酯微孔抛光垫自调节性能差导致抛光效率低的问题。本发明通过制备含纳米氮化硼及活性水层的改性微球,配合亲水性聚氨酯微粉制得功能化浆料...
  • 本发明公开一种晶圆研磨设备及取放多个晶圆片的方法,所述晶圆研磨设备,包括数个晶圆架、一驱动装置、一研磨装置、一前置台、一后置台、一移载装置及一控制单元,其中各晶圆架分别间隔贯穿数个用于定位晶圆片的定位孔,各晶圆架分别形成用于区别辨识各晶圆架...
  • 本申请提供一种平坦化导电插塞的方法,首先对金属材料层进行主研磨处理,然后对研磨垫、第一半导体结构分别进行过渡冲洗,接着对层间介质层进行精细研磨处理,随后采用去离子水对研磨垫进行冲洗,接着采用酸性研磨液对第二半导体结构进行冲洗,以在导电金属表...
  • 本发明公开了一种用于钢珠的循环研磨光球机,涉及光球机技术领域。本发明包括:底座,所述底座上固定连接有支撑面板,所述支撑面板上固定连接有承接座;上研磨盘,所述底座上固定连接有液压升降机,所述上研磨盘连接在液压升降机的活动端;下研磨盘,所述承接...
  • 本申请提供了一种光学终点检测方法以及装置,属于半导体集成电路芯片制造的设备领域。抛光设备包括抛光头和抛光平台,抛光头设置有保持环和反射镜片,抛光平台还包括光学单元,光学单元用于发射光束至抛光头,该方法包括:在对晶圆进行抛光的过程中晶圆设置在...
  • 本发明提供一种晶圆处理设备、空气洁净度控制方法和空气清洁系统,设备包括:第一模块至第四模块,各个模块依次相连且各自的清洁度要求顺序降低;分别安装于各个模块的内部空间的传感器,实时检测对应模块的颗粒物浓度;分别安装于各个模块顶部的风扇单元,在...
  • 本公开提供了一种改善晶圆平坦度的方法、装置、设备、系统及存储介质,该方法可以包括:获取经双面抛光后的晶圆的厚度分布数据;基于厚度分布数据,确定第一形貌斜率;基于当前工具状态参数,确定最终抛光设备的第二形貌斜率;根据第一形貌斜率与第二形貌斜率...
  • 一种磁场辅助线驱动式柔性电极的电解机械复合抛光装置及方法,包括:电极主体、永磁体导向球头、热缩管、电源、线性电磁模块组以及磁场控制系统,所述电极主体和所述永磁体导向球头均设于所述导电管路上,所述电极主体包括金属导电部、柔性绝缘层以及磨粒层,...
  • 本发明提供了一种钢琴板抛光装置,属于钢琴板加工技术领域,包括限制筒、第一抽送组件、抛光组件、过滤组件、第二抽送组件以及升降机构,所述限制筒上下呈敞口设置,所述抛光组件安装在所述限制筒内部,用于对钢琴板表面进行抛光处理,所述第一抽送组件设置在...
  • 本发明属于不锈钢件抛光装置技术领域,具体地说是一种具有自动贴合功能的不锈钢件内腔抛光装置。在医疗、电子及精密机械等高端制造领域,不锈钢管作为核心零部件,其内腔表面质量直接影响产品的密封性能、使用寿命及运行安全性。例如,医疗器械中的输液导管若...
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