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最新专利技术
  • 基于伺服电机控制流量阀液压控制系统的砂轮自动修正装置
    基于伺服电机控制流量阀液压控制系统的砂轮自动修正装置_浙江仲全数控科技有限公司_202311840359.5
    本申请公开了一种基于伺服电机控制流量阀液压控制系统的砂轮自动修正装置，其属于砂轮修正用的驱动装置领域。包括：移动台；修正组件，用于对砂轮进行修正以使砂轮可具有初始状态和修正状态；其中，所述基于伺服电机控制流量阀液压控制系统用于使所述移动台移...
    2026-03-13
  • 一种刷板机的磨刷快拆结构
    一种刷板机的磨刷快拆结构_东莞市卓越研磨材料有限公司_202610075842.6
    本发明涉及刷板机技术领域，具体为一种刷板机的磨刷快拆结构，该刷板机的磨刷快拆结构包括机架以及运行于机架上的磨刷机构，磨刷机构上设置有对其进行锁紧的快拆机构，磨刷机构包括磨刷轴以及固定套设于磨刷轴上的磨刷，磨刷轴上同轴连接有磨刷固定套，磨刷固...
    2026-03-13
  • 一种导向叶片燕尾槽的磨削夹持装置
    一种导向叶片燕尾槽的磨削夹持装置_贵阳航发精密铸造有限公司_202610088112.X
    本发明涉及一种导向叶片燕尾槽的磨削夹持装置，属于航空发动机工装设计领域。包括：随形压紧机构、叶身支撑机构、侧向压紧机构和垫板，所述叶身支撑机构固定安装在所述垫板的顶端，所述随形压紧机构的一端固定安装在所述垫板的顶端，其另一端设置在所述叶身支...
    2026-03-13
  • 一种多边形物件磨抛装夹装置
    一种多边形物件磨抛装夹装置_惠州工程职业学院_202511791257.8
    本发明涉及珠宝抛磨领域，具体公开了一种多边形物件磨抛装夹装置，包括外侧固定有燕尾槽的治具机构和排针旋转驱动机构；所述治具机构包括治具架组件，所述治具架组件的内部安装有一组排针架组件，所述治具架组件的外侧安装有从动组件；所述治具机构通过燕尾槽...
    2026-03-13
  • 一种抛光磨头装置
    一种抛光磨头装置_北京启望精密光学科技有限公司_202610073154.6
    本发明公开了一种抛光磨头装置，涉及抛光技术领域。抛光磨头装置包括：抛光头主体；端盖，可轴向滑动地连接于抛光头主体；抛光组件，可拆卸固定连接于端盖，在轴向上，抛光头主体、抛光组件设于端盖的两侧；弹性组件，连接于端盖和抛光头主体之间，用于使抛光...
    2026-03-13
  • 打磨装置
    打磨装置_奇瑞汽车股份有限公司_202610036025.X
    本发明公开了一种打磨装置，涉及打磨技术领域。包括：驱动机构，驱动机构包括：驱动本体、驱动轴，驱动本体与驱动轴连接；磨盘组件，磨盘组件包括：打磨罩、多个打磨盘，打磨罩限定出收容空间，沿驱动轴的轴向，收容空间背离驱动本体的一端敞开，多个打磨盘均...
    2026-03-13
  • 一种金刚砂磨片安装基座
    一种金刚砂磨片安装基座_江苏锋菱超硬工具有限公司_202511810112.8
    本申请涉及磨片夹持的技术领域，尤其是涉及一种金刚砂磨片安装基座，包括驱动机构；固定座设置在所述驱动机构的一端；移动座设置在所述驱动机构远离所述固定座的一端并与所述固定座相对设置，所述驱动机构能够驱动所述移动座靠近或远离所述固定座；第一定心机...
    2026-03-13
  • 一种用于硅晶圆双面研磨机自动上下料的装置及方法
    一种用于硅晶圆双面研磨机自动上下料的装置及方法_山东有研半导体材料有限公司_202511926268.2
    本发明公开了一种用于硅晶圆双面研磨机自动上下料的装置及方法。该装置主要包括：上料模块、缓存定位盘、视觉定位模块、取放机械臂及下料模块，其中，上料模块用于逐片供应硅晶圆；缓存定位盘上设有与双面研磨机游星轮的孔位布局相匹配的多个缓存限位孔，用于...
    2026-03-13
  • 一种基于梯形沟槽单元的化学机械抛光垫及其制备方法
    一种基于梯形沟槽单元的化学机械抛光垫及其制备方法_安徽微芯长江半导体材料有限公司_202610014762.X
    本发明属于半导体制造技术领域，具体而言，涉及一种基于梯形沟槽单元的化学机械抛光垫及其制备方法。本申请公开了一种基于梯形沟槽单元的化学机械抛光垫及其制备方法，旨在解决硬脆半导体材料抛光中抛光液分布不均、碎屑排出不畅及表面缺陷率高的问题。该抛光...
    2026-03-13
  • 一种各向异性的无纺布抛光垫及其制备工艺
    一种各向异性的无纺布抛光垫及其制备工艺_东莞励治研磨科技有限公司_202511981149.7
    本发明涉及抛光材料技术领域，具体公开了一种各向异性的无纺布抛光垫及其制备工艺，制备工艺包括将聚氨酯溶剂均匀喷涂在模具上形成纤维层；采用针刺工艺交错铺放直线型和螺旋型纤维，形成具有各向异性回弹特性的纤维网络；将带有纤维网络的模具放入烘箱中进行...
    2026-03-13
  • 衬底处理刷以及包括该衬底处理刷的衬底处理装置
    衬底处理刷以及包括该衬底处理刷的衬底处理装置_细美事有限公司_202510625937.6
    提供了根据本公开的一些实施例的衬底处理刷。该衬底处理刷包括：支架；衬底处理垫，可拆卸地设置在支架中，并处理衬底；以及衬底处理清扫器，连接到支架，并与衬底处理垫一起处理衬底，其中，衬底处理垫的第一部分设置在支架内部，并且衬底处理垫的第二部分通...
    2026-03-13
  • 一种光辅助催化金刚石化学机械抛光装置
    一种光辅助催化金刚石化学机械抛光装置_河南工业大学_202511797753.4
    本发明涉及半导体制造技术领域，特别是指一种光辅助催化金刚石化学机械抛光装置，解决了现有技术中光催化效率低、加工效率低的问题，包括支架，支架上设有旋转平台和用于装载金刚石晶片的工作转台，旋转平台的外侧设有环形挡板，旋转平台与环形挡板配合形成容...
    2026-03-13
  • 一种化学机械抛光装置、抛光设备和抛光方法
    一种化学机械抛光装置、抛光设备和抛光方法_华海清科股份有限公司_202511680481.X
    本发明公开了一种化学机械抛光装置、抛光设备和抛光方法，属于半导体制造技术领域。该化学机械抛光装置包括：抛光盘，用于安装抛光垫；承载头，设置于抛光盘上方，以装载待抛光的晶圆；供液部，设置于抛光盘上方，以朝向晶圆与抛光垫之间供给抛光液；被构造成...
    2026-03-13
  • 一种圆柱形注塑件研磨装置
    一种圆柱形注塑件研磨装置_道县三湘源电子科技有限公司_202610064965.X
    本发明涉及研磨装置技术领域，尤其涉及一种圆柱形注塑件研磨装置，包括研磨平台以及安装在其顶部的下磨盘，下磨盘顶部安装有上磨盘，研磨平台顶部设置有清洁结构，下磨盘顶部安装有对工件进行支撑的多个定位板，本发明通过采用可滑动加可转动的清洁筒与外周清...
    2026-03-13
  • 抛光方法、电子设备及存储介质
    抛光方法、电子设备及存储介质_华海清科股份有限公司_202610009656.2
    本申请提供一种抛光方法、电子设备和存储介质。抛光方法包括：设置工艺模式；基于工艺模式及与三个承载头对应的三个限位件的位置进行晶圆抛光，包括：在工艺模式为双盘抛光且第一抛光盘抛光时长大于第二抛光盘时，逆时针移动三个承载头，使第一承载头依次在第...
    2026-03-13
  • 一种自动调压式磨球机
    一种自动调压式磨球机_浙江葆普阀门制造有限公司_202610044717.9
    本发明公开了一种自动调压式磨球机，包括基座、固定座、第一研磨机构、第二研磨机构以及调节机构，所述基座设置在固定座端部一侧，所述第一研磨机构设置在基座上，在基座上设置有钢球放置架，在固定座上设置有第二研磨机构，第一研磨机构和第二研磨机构转动方...
    2026-03-13
  • 一种半球阀、旋球阀用硬密封阀门阀瓣研磨工装
    一种半球阀、旋球阀用硬密封阀门阀瓣研磨工装_远大阀门集团有限公司_202610046823.0
    本发明涉及阀门加工技术领域，一种半球阀、旋球阀用硬密封阀门阀瓣研磨工装。包括平台架，磨具装置，磨具动力装置，工件动力装置，辅助装置；平台架固定在底座板上；磨具装置位于平台架上侧，磨具动力装置位于磨具装置上侧，工件动力装置位于平台架的平台下侧...
    2026-03-13
  • 基于压力、热膨胀实时补偿式胶体研磨设备及工艺
    基于压力、热膨胀实时补偿式胶体研磨设备及工艺_中建材苏州防水研究院有限公司_202511816117.1
    本发明公开了基于压力、热膨胀实时补偿式胶体研磨设备及工艺，其设备包括动磨盘、静磨盘、动力单元。本发明一方面基于工程补偿模型，根据实际工作环境的压力、温度来动态调整目标间隙，自动计算并补偿因热变形引起的齿隙变化，而且基于实际间隙和目标间隙之间...
    2026-03-13
  • 研磨装置以及研磨方法
    研磨装置以及研磨方法_株式会社荏原制作所_202511944820.0
    提供一种研磨装置、研磨方法以及计算机可读取记录介质。在将顶环保持于摆动臂的端部的研磨方式中，能够提高研磨终点检测的精度。通过研磨台保持研磨垫。通过第一电动机旋转驱动研磨台。通过顶环用电机旋转驱动顶环，该顶环用于保持半导体晶片并且将半导体晶片...
    2026-03-13
  • 一种具有恒定研磨压力的研磨装置
    一种具有恒定研磨压力的研磨装置_上海傲世控制科技股份有限公司_202512011285.X
    本发明属于工件端面研磨技术领域，提供一种具有恒定研磨压力的研磨装置，主要包括研磨底座，具有第一腔体；研磨杆，活动穿设于研磨底座上，在研磨杆位于第一腔体内一侧设有固定支架；位置传感器，用于检测固定支架相对研磨底座的移动距离；第一套筒，活动套设...
    2026-03-13
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