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五金工具产品及配附件制造技术
  • 一种具有增强韧性和耐磨性的涂层及其制备方法与应用
    一种具有增强韧性和耐磨性的涂层及其制备方法与应用_中南大学_202211469832.9
    本发明涉及一种具有增强韧性和耐磨性的涂层及其制备方法与应用，包括含Co硬质基体和涂覆在基体上的硬质涂层；所述硬质涂层包含一层通过化学气相沉积方法制备的厚度＞1μm的超细、纳米晶Ti(CxxNyyOzz)涂层，其中，x+y+z＝1, 0.5≤...
    2026-03-02
  • 一种用于光学玻璃生产的表面防护膜镀膜装置
    一种用于光学玻璃生产的表面防护膜镀膜装置_湖南群策光电科技有限公司_202610082479.0
    本发明公开了一种用于光学玻璃生产的表面防护膜镀膜装置，涉及玻璃表面处理技术领域，包括两个对称转动连接在腔体两侧的密封门，还包括分设于两个密封门内的工件架，其包括转动连接于各密封门内的笼架，以环形阵列对应开设于笼架上下的两组圆孔，转动配合于各...
    2026-03-02
  • 一种晶面取向、元素含量差异的复合金属氮化物涂层及其制备方法
    一种晶面取向、元素含量差异的复合金属氮化物涂层及其制备方法_兰州空间技术物理研究所_202511754745.1
    本发明涉及一种晶面取向、元素含量差异的复合金属氮化物涂层及其制备方法，属于表面工程技术领域。包括依次附着在金属基体表面的金属过渡层、第一TiN层和第二TiN层；第一TiN层中，Ti与N的原子百分比≤1.2，以(111)晶面取向优势生长；第二...
    2026-03-02
  • 一种确定蒸发舟熔池尺寸的方法、设备及介质
    一种确定蒸发舟熔池尺寸的方法、设备及介质_安迈特科技(北京)有限公司_202511788282.0
    本发明公开了一种确定蒸发舟熔池尺寸的方法、设备及介质，涉及镀膜技术领域，该方法包括确定蒸发舟的干烧电压和干烧电流；获取蒸发舟的送丝参数，按照送丝参数向蒸发舟输送金属丝，送入蒸发舟的金属丝在蒸发舟产生的热量的作用下进入熔融状态，形成含熔池的蒸...
    2026-03-02
  • 一种MPCVD设备用气体均流装置
    一种MPCVD设备用气体均流装置_郑州势垒科技有限公司_202520420320.6
    本实用新型公开了一种MPCVD设备用气体均流装置，涉及MPCVD设备技术领域，包括注气桶和进气组件；注气桶：下端安装有导流组件，所述注气桶的内部安装有调节组件，所述导流组件与调节组件相连；进气组件：包含进气箱、折流板和连接环，所述注气桶上端...
    2026-03-02
  • 一种碳钢管路硅烷陶化处理装置
    一种碳钢管路硅烷陶化处理装置_新乡市瑞立新材料股份有限公司_202423306323.1
    本实用新型提供一种碳钢管路硅烷陶化处理装置，属于碳钢管路硅烷加工技术领域。包括：固定组件，所述固定组件置于恒温处理槽内部，所述固定组件包括固定在恒温处理槽顶部的固定板，所述固定板上开设有放置槽，所述放置槽内固定有固定环，所述固定环的顶部固定...
    2026-03-02
  • 基于电磁支架的连续多腔室激光脉冲沉积装置
    基于电磁支架的连续多腔室激光脉冲沉积装置_青岛科技大学_202411459298.2
    本发明公开了一种基于电磁支架的连续式多腔室激光脉冲沉积装置，适用于真空薄膜沉积领域，特别是激光脉冲沉积(PLD)工艺中的衬底转移和密封系统。该装置由五个腔室依次连接组成，包括常压放料室、预真空室、沉积室、增压室和取料室，各腔室之间通过法兰盘...
    2026-03-02
  • 喷淋头及薄膜沉积装置
    喷淋头及薄膜沉积装置_无锡金源半导体科技有限公司_202511748702.2
    本申请涉及半导体加工设备的技术领域，尤其是涉及一种喷淋头及薄膜沉积装置，其包括顶盖，顶盖上设置有进气孔；基座，基座上设置有水平的排气部，排气部上设置有若干第一排气孔；调节板，调节板上设置有若干第二排气孔，第一排气孔与第二排气孔一一对应设置；...
    2026-03-02
  • 一种原子层沉积设备输送晶圆装置
    一种原子层沉积设备输送晶圆装置_山东大学_202520396049.7
    本实用新型提出了一种原子层沉积设备输送晶圆装置，其涉及晶圆输送技术领域，包括：晶圆盒，其内部放置有整齐排列的晶圆；箱体，其内部开设有容纳腔，所述容纳腔内部设置有预处理装置，所述容纳腔内壁开设有反应气体输入口和排气口，所述反应气体输入口和排气...
    2026-03-02
  • 冷却装置及薄膜沉积设备
    冷却装置及薄膜沉积设备_拓荆科技(上海)有限公司_202520608788.8
    本实用新型公开了一种冷却装置及薄膜沉积设备，该薄膜沉积设备包括：冷却装置、匀气板、喷淋板、进气通道和加热环，冷却装置设于匀气板的上方，匀气板设于喷淋板的上方，进气通道穿过冷却装置的板体并与匀气板连接，加热环设置在匀气板的外周，冷却装置包括：...
    2026-03-02
  • 一种用于不锈钢基体热浸镀锡的助镀剂及其制备方法
    一种用于不锈钢基体热浸镀锡的助镀剂及其制备方法_河南省科学院材料研究所_202511886573.3
    本发明属于金属表面处理技术领域，具体涉及一种用于不锈钢基体热浸镀锡的助镀剂及其制备方法。本发明提供的的助镀剂，以质量百分含量计，包括盐酸5~10%，辅助酸0.5~2%，表面活性剂0.2~0.8%，缓蚀剂0.1~0.5%及余量去离子水；所述表...
    2026-03-02
  • 包覆切削工具的涂层及其制备方法
    包覆切削工具的涂层及其制备方法_深圳市金洲精工科技股份有限公司_202511611301.2
    本申请涉及包覆切削工具的涂层及其制备方法，包覆切削工具的涂层，沿远离切削工具的方向包括依次层叠设置的第一膜层、第二膜层及第三膜层；第一膜层包括多层交替层叠设置的A1层和A2层，A1层包括Al1‑a1‑aCraaN，0.3≤a≤0.5，A2层...
    2026-03-02
  • 一种用于石墨制品表面形成碳化硅涂层的设备
    一种用于石墨制品表面形成碳化硅涂层的设备_江苏协鑫特种材料科技有限公司_202511741019.6
    本申请涉及化学气相沉积技术领域，且公开了一种用于石墨制品表面形成碳化硅涂层的设备，包括送气组件，且送气组件包括外壳体，所述外壳体的内部同轴套接有内壳体，所述外壳体上设置有两个保护组件，且两个保护组件的一端均与外壳体和内壳体之间的空间连通，所...
    2026-03-02
  • 一种采用微波等离子沉积的偏置电压样品台
    一种采用微波等离子沉积的偏置电压样品台_超晶科技(黑龙江)有限公司_202520605042.1
    本实用新型公开了一种采用微波等离子沉积的偏置电压样品台，属于金刚石制备技术领域，该种采用微波等离子沉积的偏置电压样品台，包括微波等离子体化学气相沉积设备反应腔室、水冷沉积台、偏压电极升降台、石英圆筒和钨制环形偏压电极，所述微波等离子体化学气...
    2026-03-02
  • 一种强(200)织构的耐高温高熵氮化物涂层及其制备方法
    一种强(200)织构的耐高温高熵氮化物涂层及其制备方法_安徽工程大学_202511824797.1
    一种强(200)织构的耐高温高熵氮化物涂层及其制备方法，其特征在于，所述涂层由以下原子百分比含量的成分组成：Ti 8％～10％，Zr 8％～10％，Nb8％～10％，Ta 8％～10％，Mo 8％～10％，Al 0％～6％，N 40％～50...
    2026-03-02
  • 一种氢气响应的复合多层镁基薄膜表面自褶皱图案的制备方法
    一种氢气响应的复合多层镁基薄膜表面自褶皱图案的制备方法_上海交通大学_202511730501.X
    本发明公开了一种氢气响应的复合多层镁基薄膜表面自褶皱图案的制备方法，包括以下步骤：A. 在支撑基底表面制备聚合物弹性层；B. 在所述聚合物弹性层上采用磁控溅射法沉积多层金属基薄膜；C. 将所制备样品暴露于含氢气氛中，常温下通过氢化反应在表面...
    2026-03-02
  • 一种钻针制作装置及其使用方法
    一种钻针制作装置及其使用方法_深圳市金洲精工科技股份有限公司_202511729137.5
    本申请公开了一种钻针制作装置及其使用方法，包括带电粒子生成装置和磁场生成装置。其中，带电粒子生成装置的输出端朝向钻针设置，以将带电粒子生成装置产生的带电粒子喷射至钻针。磁场生成装置用于产生磁场，磁场的磁感线与钻针的轴向平行，磁感线方向由钻针...
    2026-03-02
  • 一种环保的锌基防腐镀层及其制备方法
    一种环保的锌基防腐镀层及其制备方法_辽宁工程技术大学_202511778001.3
    本发明属于材料表面工程领域，公开了一种环保的锌基防腐镀层及其制备方法。通过采用Zn‑Al靶材并结合离子镀工艺原位引入氮气，成功制备出高性能的ZnAlN复合镀层。Zn的牺牲阳极保护作用与AlN的高稳定性相结合，防腐能力和力学性能明显高于现有的...
    2026-03-02
  • 一种用于MCrAlY涂层的金属-陶瓷-MAX相三元协同扩散阻挡结构及其制备方法
    一种用于MCrAlY涂层的金属-陶瓷-MAX相三元协同扩散阻挡结构及其制备方法_中国科学院宁波材料技术与工程研究所_202511752051.4
    本发明公开了一种用于MCrAlY涂层的金属‑陶瓷‑MAX相三元协同扩散阻挡结构及其制备方法。该扩散阻挡结构包括在其厚度方向上依次层叠的金属层、陶瓷层和MAX相层，MCrAlY层叠设于金属‑陶瓷‑MAX相三元协同扩散阻挡结构的顶端，M包括Ni...
    2026-03-02
  • 一种抗氧化涂层表面结构改性控制氧化膜生长的方法
    一种抗氧化涂层表面结构改性控制氧化膜生长的方法_中国航发沈阳黎明航空发动机有限责任公司_202511588410.7
    本发明公开了一种抗氧化涂层表面结构改性控制氧化膜生长的方法，该方法首先对高温合金基体进行预处理，随后采用真空电弧镀、热喷涂或化学气相沉积工艺制备厚度为10~40μm的抗氧化涂层，并进行真空扩散热处理。核心步骤在于采用特定参数的喷丸处理对涂层...
    2026-03-02
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