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五金工具产品及配附件制造技术
  • 一种用于细纹螺栓热浸锌的专用夹具
    一种用于细纹螺栓热浸锌的专用夹具_四川添腾科技有限公司_202520377785.8
    本实用新型涉及螺栓生产技术领域，具体公开了一种用于细纹螺栓热浸锌的专用夹具，包括底板、浸锌箱；所述底板的顶部固定有两块支撑板，所述驱动电机的输出端固定有螺纹杆，所述螺纹杆的外壁螺纹连接有连接块，所述连接块的一侧固定有连接架，所述连接架的底端...
    2026-03-08
  • 一种用于化学气相沉积炉多点进气的气体分配系统及方法
    一种用于化学气相沉积炉多点进气的气体分配系统及方法_湖南顶立科技股份有限公司_202511780300.0
    本发明公开了一种用于化学气相沉积炉多点进气的气体分配系统及方法。所述分配系统包括液相前驱体供给单元、蒸发混合单元和多级气体分配单元，首先通过压力控制闭环稳定液体流量控制器的工作压差，实现液相前驱体的精确蒸发与混合；然后利用二级分配模块将混合...
    2026-03-08
  • 一种复合集流体的真空镀膜设备
    一种复合集流体的真空镀膜设备_江苏英联复合集流体有限公司_202520495175.8
    本实用新型公开了一种复合集流体的真空镀膜设备，包括腔体外壳，腔体外壳形成蒸镀腔体，基膜在蒸镀腔体内镀膜形成复合集流体；抗氧化槽设置在腔体外壳的一侧，抗氧化槽能对复合集流体进行表面抗氧化处理；过渡通道设置在腔体外壳的一侧，过渡通道和蒸镀腔体连...
    2026-03-08
  • 一种碳化硅涂层石墨载盘生产用气相沉积炉
    一种碳化硅涂层石墨载盘生产用气相沉积炉_昊石新材料科技南通有限公司_202511671191.9
    本申请涉及一种碳化硅涂层石墨载盘生产用气相沉积炉，涉及气相沉积炉技术领域，其包括炉体，所述炉体内设置有安装架，所述安装架上设置有自转架，所述自转架上转动设置有夹具，所述夹具的转动轴线水平，所述夹具用于装载石墨载盘，所述自转架上设置有用于驱使...
    2026-03-08
  • 热基锌铝镁钢板及其制备方法
    热基锌铝镁钢板及其制备方法_首钢京唐钢铁联合有限责任公司_202310272209.2
    本发明公开了一种热基锌铝镁钢板及其制备方法，属于热镀锌涂镀技术领域。该制备方法包括：将带钢基材放入直燃炉内进行加热，控制所述直燃炉内的冷区氢含量在15‑25％之间，所述直燃炉内温度在1250‑1325℃之间，使所述带钢基材温度在660‑72...
    2026-03-08
  • 一种预热式钢丝加工用镀锌装置
    一种预热式钢丝加工用镀锌装置_洛阳市澳鑫金属制品有限公司_202610122544.8
    本发明涉及镀锌装置技术领域，具体涉及一种预热式钢丝加工用镀锌装置，包括机架、镀锌池、抹拭组件、预热组件、风冷组件和气源件。抹拭组件包括多个第一抹拭管道，预热组件包括多个预热管道，风冷组件包括多个风冷管道；第一抹拭管道、预热管道和风冷管道与钢...
    2026-03-08
  • 一种基板调整装置及蒸镀机
    一种基板调整装置及蒸镀机_季华实验室_202512003043.6
    本申请涉及蒸镀技术领域，本申请提供一种基板调整装置及蒸镀机，基板调整装置包括支撑组件、微动平台、升降机构和第二升降杆，支撑组件包括承托架和设于承托架上的承托板，承托板用于承托基板，微动平台用于微调基板的位置，升降机构包括第一升降杆与连杆机构...
    2026-03-08
  • 一种自修复涂层及其制备方法
    一种自修复涂层及其制备方法_杭州海康威视数字技术股份有限公司_202610100835.7
    本申请提供了一种自修复涂层及其制备方法，其制备方法包括以下步骤：将去离子水和硅烷偶联剂混合，得到硅烷溶液；在硅烷溶液中加入含铈化合物，得到混合溶液；将混合溶液加热至100℃~400℃，形成反应气体，采用原子层沉积法将反应气体沉积到金属材料表...
    2026-03-08
  • 一种用于蓝宝石镀膜原子气室的制备方法和系统
    一种用于蓝宝石镀膜原子气室的制备方法和系统_中国人民解放军国防科技大学_202511656463.8
    本发明涉及一种用于蓝宝石镀膜原子气室的制备方法和系统，其中，制备方法包括：S1.将清洗后的原子气室放置于反应室的加热基台上，向反应室充入置换气以排出其中的残留气体；S2.向反应室充入铝源气体，在原子气室的壁面发生化学吸附以形成第一膜层；S3...
    2026-03-08
  • 一种铝产品涂层前处理装置
    一种铝产品涂层前处理装置_重庆九海铝业有限公司_202520611978.5
    本实用新型涉及铝产品加工技术领域，尤其涉及一种铝产品涂层前处理装置，包括工作台，所述工作台上开设有多个用于承装不同处理液的承装腔体，分别用于清洗剂处理、水洗、铝成膜剂处理以及二次水洗，所述工作台上通过转动驱动件连接有伸缩件，所述伸缩件的活动...
    2026-03-08
  • 裂解炉管涂层材料组合物和裂解炉管涂层及其制备方法
    裂解炉管涂层材料组合物和裂解炉管涂层及其制备方法_中国石油天然气股份有限公司_202311167418.7
    本发明提供了裂解炉管涂层材料组合物和裂解炉管涂层及其制备方法。该涂层材料组合物包括：第一涂层材料和第二涂层材料；第一涂层材料包括以下组分：催化活性组分、络合剂、缓冲剂以及分散剂；第二涂层材料为液态浆料或固态颗粒混合物。该涂层的制备方法包括：...
    2026-03-08
  • 一种生长凸面金刚石的生长方法
    一种生长凸面金刚石的生长方法_化合积电(厦门)半导体科技有限公司_202311416579.5
    本发明属于材料科学技术领域，尤其涉及一种生长凸面金刚石的钼台与生长方法，一方面，一种生长凸面金刚石的钼台，包括：碗状壳体；至少四层圆环；以及凹槽，所述凹槽设置在碗状壳体内侧的底部。另一方面，一种生长凸面金刚石的生长方法，包括：将衬底材料放入...
    2026-03-08
  • 一种复合陶瓷层结构及其制备方法与应用
    一种复合陶瓷层结构及其制备方法与应用_厦门金鹭特种合金有限公司_202511742948.9
    本发明涉及一种复合陶瓷层结构及其制备方法与应用，所述复合陶瓷层结构包括依次层叠设置的复合陶瓷层、复合过渡层与保护层；所述复合过渡层包括至少1层过渡层结构；所述过渡层结构包括层叠设置的第一过渡层与第二过渡层。复合陶瓷层结构通过硬度不同的第一过...
    2026-03-08
  • 一种分区式多功能金属双腔真空镀膜工艺及系统
    一种分区式多功能金属双腔真空镀膜工艺及系统_苏州研杰五金科技有限公司_202511767618.5
    本发明公开一种分区式多功能金属双腔真空镀膜工艺及系统，属于材料表面处理技术领域。工艺包括基材预处理、双腔准备、真空检查、第一腔底层沉积、真空转运、第二腔功能层沉积及降温步骤，双腔分别配置对应靶材，支持并行作业与真空无缝转运；系统包含双镀膜腔...
    2026-03-08
  • 一种空间活动件高温环境用“缓释型”耐磨润滑复合薄膜及其制备方法
    一种空间活动件高温环境用“缓释型”耐磨润滑复合薄膜及其制备方法_兰州空间技术物理研究所_202511634434.1
    本发明公开了一种空间活动件高温环境用“缓释型”耐磨润滑复合薄膜及其制备方法。所述薄膜底层为采用磁控溅射技术沉积在零件上的Ti层或Cr层，Ti层或Cr层之上为脉冲激光引弧电弧沉积/磁控溅射复合技术沉积的ta‑C/WS22/Ag润滑层，ta‑C...
    2026-03-08
  • 基于碳/氮原子取代的无定形态氧化硅材料及其制备方法与设备
    基于碳/氮原子取代的无定形态氧化硅材料及其制备方法与设备_上海创熠微材料科技有限公司_202511289437.6
    本发明提供一种基于碳/氮原子取代的无定形态氧化硅材料及其制备方法与设备，包括在低温条件下，利用ALD工艺制备由碳、氮原子部分取代的无定形态氧化硅，其化学式表示为：SiOxxCyyNzz，其中，xyz同时满足以下条件：x+y+z≤2, 1≤x...
    2026-03-08
  • 一种基于水分子极化效应的湿度传感器及其制备方法
    一种基于水分子极化效应的湿度传感器及其制备方法_延安大学_202610108637.5
    本申请涉及湿度探测领域，具体提供了一种基于水分子极化效应的湿度传感器及其制备方法。传感器包括基底、导电薄膜层、电极，导电薄膜层设置于基底上，电极设置于导电薄膜层上，且设置于导电薄膜层的两端，传感器还包括极化材料层，极化材料层设置于导电薄膜层...
    2026-03-08
  • 一种旋转氧化铌靶材及其制备方法和应用
    一种旋转氧化铌靶材及其制备方法和应用_广州市尤特新材料有限公司_202511052163.9
    本发明属于旋转氧化铌靶材技术领域，公开一种旋转氧化铌靶材，包括氧化铌主体层和内衬管，氧化铌主体层包括氧化铌工作表层和金属过渡底层，氧化铌主体层在氧化铌工作表层和金属过渡底层之间设有功能梯度中间层；该功能梯度中间层由Nb22O55和TiO22...
    2026-03-08
  • 一种用于刀具的复合自润滑涂层及其制备方法
    一种用于刀具的复合自润滑涂层及其制备方法_赣州澳克泰工具技术有限公司_202511655612.9
    本发明属于涂层刀具技术领域，具体涉及一种用于刀具的复合自润滑涂层及其制备方法，一种用于刀具的复合自润滑涂层包括：WS22界面适配层、WS22/MoS22缓冲过渡层、TiAlMoN主承载耐磨层、TiAlMoN/Ni润滑相复合层、W‑C‑N表界...
    2026-03-08
  • 用于消除LPCVD加工中硅片舟迹的方法
    用于消除LPCVD加工中硅片舟迹的方法_杭州中欣晶圆半导体股份有限公司_202511529816.8
    本发明涉及一种用于消除LPCVD加工中硅片舟迹的方法，所属半导体制造技术领域，包括如下操作步骤：第一步：在将硅片放置到硅舟上之前，对硅片表面进行等离子体清洗处理。第二步：在LPCVD工艺过程中，精确控制反应温度、压力和反应气体流量。第三步：...
    2026-03-08
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