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五金工具产品及配附件制造技术
  • 用于腔室部件的金属氟氧化物涂层及其涂覆方法
    用于腔室部件的金属氟氧化物涂层及其涂覆方法_应用材料公司_202480006548.9
    本文描述了一种包括金属氟氧化物涂层的腔室部件，此金属氟氧化物涂层包括YF3、ZrF4或其组合以及由Y2O3及ZrO2组成的金属氧化...
    2025-08-13
  • 一种硼化锆致密涂层的制备工艺及等离子喷涂装置
    一种硼化锆致密涂层的制备工艺及等离子喷涂装置_北京金轮坤天特种机械有限公司_202411486633.8
    本发明提供一种硼化锆致密涂层的制备工艺及等离子喷涂装置，涉及涂层制备技术领域。该制备工艺包括以下步骤：悬浮液制备：将分散介质、ZrB2粉体、富含10B的B粉、粘结剂和分散剂混合均匀得到悬浮液；其中...
    2025-08-13
  • 一种冷轧沉没辊平稳运行装置
    一种冷轧沉没辊平稳运行装置_张家港扬子江冷轧板有限公司_202510648883.5
    本发明属于冷轧沉没辊运行技术领域，具体的说是一种冷轧沉没辊平稳运行装置，包括锌液箱，锌液箱一端固定连接有电机，锌液箱内部固定连接有两个轴承座，两个轴承座分别固定在锌液箱的两个内壁上，两个轴承座之间转动连接有沉浸辊，锌液箱内设置有防偏移组件，...
    2025-08-13
  • 一种金属零件表面发黑处理装置
    一种金属零件表面发黑处理装置_无锡高安科技有限公司_202510668090.X
    本发明涉及金属零件加工技术领域，尤其是一种金属零件表面发黑处理装置，包括限位箱，所述限位箱的内部放置有浸泡壳体，所述浸泡壳体的上方设置有活动臂，所述活动臂上转动连接有转动环，所述转动环的内部固定连接有密封管，所述密封管的表面沿周向固定连接有...
    2025-08-13
  • 一种铜铝结合钝化工艺方法
    一种铜铝结合钝化工艺方法_深圳市顺益丰实业有限公司_202510471001.2
    本发明公开了一种铜铝结合钝化工艺方法，涉及金属表面处理技术领域，包括预处理、抛光处理、施加抗氧化涂层、超声波清洗、钝化处理、脱水处理、干燥处理和最终检验与包装；通过硝酸进行预处理，以去除金属表面的氧化层、锈蚀和其他杂质，再使用抛光剂对金属表...
    2025-08-13
  • 一种制备超薄金刚石声学振膜的方法
    一种制备超薄金刚石声学振膜的方法_北京左文科技有限公司_202510670068.9
    本发明公开了一种制备超薄金刚石声学振膜的方法，属于金刚石应用领域。包括以下步骤：S1：对基底材料进行加工处理，形成声学振膜需要的三维形状；S2：在基底材料上沉积金刚石薄膜；S3：将金刚石薄膜从基底材料上剥离；S4：将剥离掉的金刚石材料通过静...
    2025-08-13
  • 制造金属氮化物薄膜的方法
    制造金属氮化物薄膜的方法_陈敏璋_202410171856.9
    一种制造金属氮化物薄膜的方法，通过至少一原子层沉积循环所执行。每一原子层沉积循环先执行关于金属元素的至少一个半循环，于每一个半循环中，先供应包含金属元素的前驱物至反应腔体内，再选择性地供应冲洗气体至该反应腔体内，其中元件置于反应腔体内。随后...
    2025-08-13
  • 一种通过异丙醇稀释提升DM-4000封孔剂对AT13陶瓷涂层封孔效果的方法
    一种通过异丙醇稀释提升DM-4000封孔剂对AT13陶瓷涂层封孔效果的方法_郑州大学_202510628647.7
    本发明公开了一种通过异丙醇稀释提升DM‑4000封孔剂对AT13陶瓷涂层封孔效果的方法。该方法通过使用异丙醇对DM‑4000(Dura‑Metal Sealer 4000)进行稀释(DM‑4000:异丙醇＝1:0‑1:1)来改善其流动性，提...
    2025-08-13
  • 一种掩膜基板及镀膜温度控制方法
    一种掩膜基板及镀膜温度控制方法_安徽禾臣新材料有限公司_202510913862.1
    本发明公开了一种掩膜基板及镀膜温度控制方法，属于半导体制造技术领域。本发明的一种掩膜基板，包括基板本体以及在基板本体表面依次形成的抗反射层、遮光层和保护层，其中，抗反射层为梯度复合膜，遮光层为纳米晶Cr，遮光层由HiPIMS溅射沉积，晶粒尺...
    2025-08-13
  • 使用衬垫的自下而上的间隙填充
    使用衬垫的自下而上的间隙填充_朗姆研究公司_202380087586.7
    所公开的示例涉及使用原子层沉积(ALD)以自下而上的方式实施部分间隙填充处理。一示例提供了一种在衬底中的间隙的部分填充方法。该方法包括：将硅氮化物次保形层沉积在间隙的第一部分中且不沉积在间隙的第二部分中。第一部分从间隙的顶部延伸至在间隙内的...
    2025-08-13
  • 一种通过温度控制与超声辅助提升DM-4000封孔剂对AT13陶瓷涂层封孔效果的方法
    一种通过温度控制与超声辅助提升DM-4000封孔剂对AT13陶瓷涂层封孔效果的方法_郑州大学_202510628657.0
    本发明公开了一种通过温度控制与超声辅助提升DM‑4000封孔剂对AT13陶瓷涂层封孔效果的方法。该方法通过在封孔过程中控制环境温度为40‑60℃，同时使用超声辅助法，提高了DM‑4000(Dura‑Metal Sealer 4000)对AT...
    2025-08-13
  • 沉积系统
    沉积系统_江苏微导纳米科技股份有限公司_202510600612.2
    本申请公开了沉积系统。沉积系统包括沉积设备。沉积设备包括设备主体、工艺通道、清洗通道和沉积射频模组。设备主体具有工艺腔体，工艺腔体用于容置载板，且可供载板出入。工艺通道与工艺腔体连通，用于通入工艺气体。多个清洗通道围绕工艺通道，清洗通道分别...
    2025-08-13
  • 蒸发机构
    蒸发机构_重庆金美新材料科技有限公司_202422362336.4
    本实用新型公开了一种蒸发机构，蒸发机构包括蒸发主体以及第二蒸发容器，蒸发主体包括发热体和第一蒸发容器，发热体内设置有蒸发槽，第一蒸发容器设置于蒸发槽内；第二蒸发容器安装于蒸发主体上并位于第一蒸发容器一侧。本实用新型解决了不同熔点材料分离式蒸...
    2025-08-13
  • 双腔室镀膜设备以及镀膜方法
    双腔室镀膜设备以及镀膜方法_中国科学院微电子研究所_202410171976.9
    本申请公开一种双腔室镀膜设备以及镀膜方法，其中双腔室镀膜设备包括ALD腔、与ALD腔内部连通的第一泵以及设置于ALD腔内的第一承载台和第一加热装置，第一承载台用于承载基体；PVD腔、与PVD腔内部连通的第二泵以及设置于PVD腔内的第二承载台...
    2025-08-13
  • 一种锌锅挡渣装置
    一种锌锅挡渣装置_天津大森金属制品有限公司_202422136864.8
    本实用新型公开了一种锌锅挡渣装置，包括外框架、矩形挡渣板和内延伸挡条，所述外框架的两端通过安装座安装有伺服电机且伺服电机的输出轴连接丝杆，所述丝杆上套设有丝块，所述丝块内通过连接块连接有矩形挡渣板且矩形挡渣板的顶端内侧焊接有内延伸挡条，所述...
    2025-08-13
  • 一种避免石英管内壁镀膜的等离子体原子层沉积设备
    一种避免石英管内壁镀膜的等离子体原子层沉积设备_江苏迈纳德微纳技术有限公司_202422503290.3
    本实用新型提供了一种避免石英管内壁前驱体源沉积的等离子体原子层沉积设备，包括等离子体发生器，真空腔体，插板阀和真空泵，其中，插板阀设置于等离子体发生器和真空腔体之间，通过在真空腔体和等离子体发生器中间增加大尺寸插板阀，杜绝了真空腔体中的前驱...
    2025-08-13
  • 一种基于耐腐蚀性合金靶材的金属管道溅射涂层方法
    一种基于耐腐蚀性合金靶材的金属管道溅射涂层方法_湖南旺坤管业有限公司_202510940406.6
    本发明涉及金属管道表面处理技术领域，公开一种基于耐腐蚀性合金靶材的金属管道溅射涂层方法，包括：向合金靶材施加第一脉冲序列溅射金属原子，向金属管道施加第二脉冲序列，并严格同步两序列使负电压脉冲仅在靶材功率低谷期施加，利用溅射产生的金属离子轰击...
    2025-08-13
  • 一种铜线镀锡装置
    一种铜线镀锡装置_江西理工大学_202510635405.0
    本发明涉及铜线镀锡技术领域，公开了一种铜线镀锡装置，包括：架体、铜线收放组件、锡液喷发组件和预热组件；预热组件使得铜线在热镀之前进行预热处理，一方面可以增加锡液的润湿性和附着力，同时可以去除铜线表面杂质和水分，以保证锡镀层的质量，锡液喷发组...
    2025-08-13
  • 一种在金刚石热沉上制备高质量金属碳化物薄膜的方法
    一种在金刚石热沉上制备高质量金属碳化物薄膜的方法_西北有色金属研究院_202510608742.0
    本发明公开了一种在金刚石热沉上制备高质量金属碳化物薄膜的方法，该方法包括：一、对单晶金刚石片的表面进行研磨、抛光和清洗及烘烤预处理；二、采用磁控溅射法在预处理后的单晶金刚石片上镀覆纳米级厚度的碳化钛薄膜；三、将镀覆碳化钛薄膜的单晶金刚石片进...
    2025-08-13
  • 一种反应腔室及薄膜沉积设备
    一种反应腔室及薄膜沉积设备_拓荆科技(上海)有限公司_202510694697.5
    本发明公开了一种反应腔室及薄膜沉积设备，该反应腔室包括：传输通道，所述传输通道开设有缺口；调节组件，所述调节组件包括与所述缺口相契合且活动设置的调节板。本发明通过调节板的活动控制，使传输通道在封闭与开放两种状态下切换，实现对于反应腔室的体积...
    2025-08-13
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