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一种热镀锌智能温度自适应调控装置
本发明涉及温度调控技术领域,特别是涉及一种热镀锌智能温度自适应调控装置,用于解决现有镀锌装置不易根据镀件自动适配温度的问题;该装置包括炉体机构,炉体机构的上部设置有第一输送机构和第二输送机构,第二输送机构包括两种输送状态,在第一输送状态下,...
锌管在锌锅上的引上磁辊
本申请提供一种锌管在锌锅上的引上磁辊,包括机架,包括入料端和出料端,在出料端设有锌液回收槽,在锌液回收槽上设有移动辊;磁力辊传送机构,设置在机架上并临近入料端设置,包括安装架和设置在安装架上的多排磁力辊和风机,风机的出风口朝向磁力辊设置;抓...
一种微半球镀膜治具
本实用新型公开了一种微半球镀膜治具,包括定位器、夹具,以及与夹具相连的驱动组件,定位器顶面开设有用于容置微半球的沉台孔,沉台孔内具有与微半球的唇沿面配合的掩膜腔,微半球表面无需镀膜的部分伸入掩膜腔以进行掩膜,夹具包括顶锥部,顶锥部从所述定位...
一种加工电子连接线用的镀锡装置
本实用新型涉及电子连接线加工领域,具体涉及一种加工电子连接线用的镀锡装置,包括:加热装置和设置在其顶部的熔锡腔,加热装置的两侧分别连接有矩形框体,熔锡腔的上方设有可旋转的U形安装板组件,U形安装板组件包括U形安装板体,U形安装板体内腔的底部...
一种堆叠式舟载具及管式PECVD设备
本实用新型公开了一种堆叠式舟载具及管式PECVD设备,包括:绝缘连接座、第一舟载具和第二舟载具;所述绝缘连接座分别设置在第一舟载具和第二舟载具的两端,以用于实现第一舟载具和第二舟载具沿竖直方向堆叠连接;所述第一舟载具和第二舟载具均采用碳纤维...
一种避免阀杆氮化变形结构
本发明涉及阀杆的氮化领域,尤其涉及一种避免阀杆氮化变形结构。所述避免阀杆氮化变形结构包括氮化炉、钢丝绳、连接结构和调节结构,氮化炉内部安装有阀杆,阀杆顶端开设有通孔,氮化炉内壁顶端固定连接有横梁,钢丝绳一端安装在横梁中部,另一端安装在阀杆的...
限位装置、输送设备及磁控溅射传动装置
本申请涉及到加工设备技术领域,尤其涉及一种限位装置、输送设备及磁控溅射传动装置。该限位装置包括:第一限位圈和第二限位圈,第一限位圈和第二限位圈用于套设在传动杆上并分别设置于传动轮的两侧,传动轮用于固定套设于传动杆上;第一限位圈面向传动轮的一...
磁控溅射镀膜装置
根据本实用新型实施例的磁控溅射镀膜装置,包括:机架;真空罩,设在机架上,真空罩内限定有真空腔;内溅射阴极,外表面覆盖有靶材,当磁控溅射镀膜装置位于第一状态时,内溅射阴极与真空罩相连以用于深入待镀工件的腔体内并通过磁控溅射对待镀工件的内壁面镀...
一种金属板材及其制备方法与应用
本发明公开了一种金属板材及其制备方法与应用,属于钢板技术领域。该金属板材包括金属基板以及设置于金属基板表面的复合纳米结构层;复合纳米结构层中同时含有纳米级的定型结构和纳米级的无定型结构,以原子百分比计,复合纳米结构层中含有10at%~75a...
用于控制膜轮廓的循环式蚀刻和沉积
公开的示例涉及控制于衬底的特征上沉积的含硅膜的生长轮廓。一示例提供了一种执行循环式化学气相沉积(CVD)/蚀刻处理以控制在包含间隔结构的衬底上沉积的含硅膜的轮廓的方法。每个间隔结构包含顶部场区(top field)和一个或更多个侧壁。该方法...
一种布气装置及镀膜设备
本实用新型属于磁控溅射技术领域,公开了一种布气装置及镀膜设备。本实用新型提出一种布气装置及镀膜设备,其中,布气装置包括气排组件,气排组件包括至少两个气排段,气排段上设置有多个出气孔,气体从出气孔输出并朝向靶材,采用分段式布气能够避免气体集中...
一种真空镀膜连续生产线
本实用新型公开了一种真空镀膜连续生产线,属于镀膜设备领域,包括真空镀膜室,真空镀膜室内设有固定筒和传输底座,固定筒设于真空镀膜室顶部,传输底座设于真空镀膜室底部,真空镀膜室底部还设有顶升旋转部件,顶升旋转部件与固定筒位置对应,公自转工件架通...
一种真空镀膜设备
本实用新型涉及镀膜设备技术领域,且公开了一种真空镀膜设备,包括蒸发机构,蒸发机构顶端设置有镀膜机构与镀膜辅助机构,蒸发机构包括一个电控箱,电控箱顶端设置有加工台,加工台内设置有镀膜材料传输水路,加工台对应传输水路上方设置有蒸发口,且蒸发口内...
一种真空镀用治具模具结构
一种真空镀用治具模具结构,包括一上盖(100)、一下盖(200)以及设置于所述上盖(100)与所述下盖(200)之间的至少一个中盖(300),所述上盖(100)朝向所述中盖(300)的一侧设置有与所述中盖(300)上部分相配合的第一承载槽(...
一种真空镀膜旋转装置
本实用新型公开了一种真空镀膜旋转装置,涉及真空镀膜技术领域。本实用新型包括底座,还包括:所述底座的顶部设置有台体,所述台体的顶部设置有真空镀膜机主体,所述真空镀膜机主体的前端设置有盖体,所述真空镀膜机主体顶部的一侧设置有真空泵,所述真空泵的...
一种离子束辅助的化合物薄膜低缺陷沉积装置
本发明涉及镀膜装置技术领域,公开了一种离子束辅助的化合物薄膜低缺陷沉积装置,包括气相沉积炉本体,气相沉积炉本体的内部开设有真空腔,真空腔内腔的底部设置有安装座,安装座上对称设置有两组用于固定蒸发舟的固定机构;本发明通过两组固定机构、驱动机构...
一种半导体基底反射镜的激光精准蒸镀装置
本发明涉及蒸镀技术领域,具体是一种半导体基底反射镜的激光精准蒸镀装置,包括抽真空箱,所述抽真空箱的内壁固定连接有第一隔热间板,所述抽真空箱的内壁固定连接有第二隔热间板,所述抽真空箱的内部底面固定连接有伺服电机,所述伺服电机的输出端固定连接有...
一种进气炉门结构
本实用新型公开了一种进气炉门结构,包括炉门板,所述炉门板一侧设有进气组件,所述炉门板另一侧通过弹性调节装置连接有调节板,所述调节板连接有用于带动调节板和炉门板移动的驱动装置。本进气炉门结构,反应气体从进气组件进气,驱动装置驱动炉门板移动,实...
一种集成光电器件反射镜的电阻热蒸发精准镀膜设备
本发明涉及集成光电器件制造技术领域,具体是一种集成光电器件反射镜的电阻热蒸发精准镀膜设备,包括底座,所述底座的上表面固定连接有真空箱,所述真空箱的内部顶面转动连接有第一齿轮,本发明能够通过第一电机驱动齿轮传动,带动圆筒及防护桶转动,防护桶借...
一种磁控溅射镀膜装置
本发明涉及磁控溅射技术领域,具体涉及为一种磁控溅射镀膜装置,包括底座,所述底座上方固定连接有镀膜仓,所述镀膜仓内表面固定安装有磁控靶,所述镀膜仓上方设置有盖板组件,所述盖板组件包括仓盖,所述仓盖底部固定连接有电动推杆,所述电动推杆与所述底座...
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