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一种Ta基难熔金属表面的复合梯度结构涂层及其制备方法
本发明属于热防护涂层材料技术领域,公开了一种Ta基难熔金属表面的复合梯度结构涂层及其制备方法。所述复合梯度结构涂层包括在Ta基体上从内到外依次设置的打底层、扩散阻挡层、过渡层和热防护层;打底层的成分为金属或金属碳化物;扩散阻挡层的成分为金属...
二向色镜光学薄膜及其镀制方法
本发明提供一种二向色镜光学薄膜及其镀制方法,该二向色镜光学薄膜,改用三种薄膜材料,低折射率材料选用具有极好抗激光性能的SiO2,高折射率材料选用具有很高折射率的Ta2O5和深紫外低吸收的金属Hf。在整个膜层结构的内侧,即反射吸收较小的部分采...
一种基于透明微加热器的相变材料电光调制器件及制备
本发明公开了一种基于透明微加热器的相变材料电光调制器及其制作方法,器件包括底层、支撑层、电极层和相变层,其中衬底层中间区域悬空,电极层包括中间区域的透明电极层和两侧设有的金属电极层,相变层覆盖在透明电极层的上方空间,设有若干相变材料纳米盘,...
半导体工艺腔室及设备
本发明提供一种半导体工艺腔室及设备,涉及半导体技术领域。该半导体工艺腔室包括腔室本体、承载组件、加热组件和冷却组件,其中,腔室本体内部具有腔体;承载组件设于腔体内,承载组件配置为:承载基片;加热组件设于腔体内并围设于承载组件,加热组件配置为...
一种用于核聚变装置壁处理镀膜的供料系统及方法
本发明公开一种用于核聚变装置壁处理镀膜的供料系统及方法,涉及核聚变装置的壁面处理与镀膜领域;供料系统包括若干沿核聚变装置的环形真空室周向均匀布设的供料机构和至少一个储料机构;供料机构包括供料部、第一加热部和动力部;供料部包括一进料端可控连通...
一种用于MOCVD设备的晶圆表面控温系统及方法
本发明涉及一种用于MOCVD设备的晶圆表面控温系统及方法,属于电子设备技术领域,解决现有设备在生长前手动修改Recipe中的温度数据,而在生长过程中无法修改Recipe中的温度数据的问题。系统包括红外测温仪以非接触方式实时检测晶圆表面温度,...
涂覆的切削工具
本发明涉及一种涂覆的切削工具,包含:硬质合金的基体、和涂层,其中所述硬质合金包含WC晶粒和η相晶粒以及金属粘结剂,其中所述金属粘结剂包含Co、Cr和Ti,其中所述硬质合金中所述η相含量为1‑10 vol%,所述η相晶粒的平均晶粒尺寸为0.5...
一种物理气相沉积设备的Tray Mask结构及组件
本实用新型涉及一种物理气相沉积设备的Tray Mask结构及组件,Tray Mask结构包括:主体和边条;所述边条设置在所述主体的外侧,且所述边条上开设有若干个避让结构;所述避让结构的位置与外部干涉结构的位置对应,且所述避让结构和所述外部干...
一种可灵活裁剪的柔性低温脑保护装置
本发明涉及低温脑保护技术领域,特别是涉及一种可灵活裁剪的柔性低温脑保护装置,包括柔性的外部导热基体层和与头部接触的头部接触导热层,外部导热基体层与头部接触导热层之间设置有若干柔性半导体制冷片,若干柔性半导体制冷片之间通过交织的导电网格进行互...
一种微通道喷锌铝扁管生产用喷锌设备控制系统
本实用新型涉及一种微通道喷锌铝扁管生产用喷锌设备,尤其涉及一种微通道喷锌铝扁管生产用喷锌设备控制系统,包括U型操作台,U型操作台的两侧内壁之间安装有主动轮和从动轮,主动轮的连接端安装有第一电机,主动轮和从动轮的表面啮合有传送带,U型操作台的...
掩模组件和包括掩模组件的沉积装置
公开了掩模组件和包括掩模组件的沉积装置。掩模组件,包括:掩模框架;第一掩模杆,连接到掩模框架并且在第一方向上延伸;以及第二掩模杆,连接到掩模框架并且在第二方向上延伸。第一掩模杆在重叠区域中与第二掩模杆重叠,第二掩模杆包括与第一掩模杆不重叠的...
沉积掩模和制造该沉积掩模的方法
提供了一种沉积掩模和一种制造该沉积掩模的方法,所述方法包括:准备具有防水表面的导电基体板;将墨的液滴滴在导电基体板上的与图案孔对应的位置中并固化墨的液滴;通过对导电基体板的其上固化有墨的液滴的表面执行电镀来形成具有图案孔的沉积掩模的主体;以...
一种基于锡层的耐腐蚀复合层、铝基材耐腐蚀处理方法及耐腐蚀铝端子
本发明提供了一种基于锡层的耐腐蚀复合层、铝基材耐腐蚀处理方法及耐腐蚀铝端子。该基于锡层的耐腐蚀复合层包括:碱铜层、焦铜层、锡层;所述碱铜层的厚度为1‑10μm,所述焦铜层的厚度为2‑18μm,所述锡层的厚度为3‑30μm。所述铝基材耐腐蚀处...
沉积装置
本公开的实施例的沉积装置可包括:喷嘴,包括用于释放沉积物质的喷嘴孔;坩埚,用于收容所述沉积物质;第一内板,布置在所述坩埚的内部,并且包括第一内板孔和第二内板孔;以及第二内板,布置在所述第一内板上,在俯视观察时所述第二内板的至少一部分与所述第...
一种新型激光冲击与渗碳复合的齿轮强化方法
本发明公开一种新型激光冲击与渗碳复合的齿轮强化方法,包括以下步骤:S1对待加工的齿轮进行预处理;S2对清理后的齿轮进行第一次激光冲击处理;S3对激光冲击处理后的齿轮进行渗碳处理,使其表面形成渗碳强化层;S4对渗碳处理后的齿轮进行第二次激光冲...
一种可提高镀膜均匀度的真空镀膜机
本实用新型公开了一种可提高镀膜均匀度的真空镀膜机,包括机箱,所述机箱的前端铰接箱门,所述机箱的内部通过螺丝安装温度传感器,机箱的内部设置有镀膜机构,镀膜机构能够提高镀膜件的镀膜均匀度;镀膜机构包括支撑座和镀膜筒,所述支撑座通过螺栓安装在机箱...
一种辅助蒸发台添加金属源的治具
本实用新型涉及一种辅助蒸发台添加金属源的治具,其特征在于,包括腔体,所述腔体可拆卸连接于镀膜设备,所述腔体内设有空腔,所述腔体的一侧设有连接孔,所述连接孔内设有可旋转的传送管,所述传送管用于引导金属源并进行传送,所述传送管可沿腔体的延伸方向...
一种光伏焊带风刀
本实用新型属于光伏焊带风刀技术领域,具体地说是一种光伏焊带风刀,包括上部支撑架,所述上部支撑架的端部固定连接有顶部风刀主体,且顶部风刀主体的内部螺纹连接有螺丝,所述顶部风刀主体的端部开设有顶部出风口,且顶部风刀主体底部固定连接有隔板,并且顶...
一种MOCVD设备及使用方法和氧化镓外延膜
本申请涉及氧化镓外延膜加工技术领域,具体公开了一种MOCVD设备及使用方法和氧化镓外延膜。MOCVD设备包括设备机台、反应室,设备机台上还设置有与反应室连通的载氧气路、主管路,主管路上连通有镓源气路、掺杂源气路,掺杂源气路连通有无机硅源控制...
一种真空蒸镀机用活动调控式旋转机构
本发明公开了一种真空蒸镀机用活动调控式旋转机构,属于真空蒸镀机技术领域,本发明包括支撑柱以及安装在支撑柱内部的传动齿轮,传动齿轮的侧边啮合连接有联动齿轮,所述联动齿轮键连接在动力杆上,所述动力杆上固定有定位套,且定位套的周向通过旋转臂与限位...
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