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五金工具产品及配附件制造技术
一种加热基座的清洗遮蔽装置
本实用新型公开了一种等离子体增强化学气相沉积镀膜设备中加热基座的清洗遮蔽装置,包括耐蚀的弹性圆柱体和弹性阶梯轴,所述弹性圆柱体用于和所述加热基座的衬套孔适配,所述弹性圆柱体的一端与所述弹性阶梯轴的小端螺纹连接,所述弹性阶梯轴的大端用于和所述...
一种挤压模具表面耐磨涂层及其制备方法和应用
本发明公开一种挤压模具表面耐磨涂层及其制备方法和应用,该耐磨涂层包括中间过渡层和耐磨覆盖层,所述中间过渡层由TiC、Ti(CN)、以及TiN三种成分由内向外渐变分布复合而成;并且该中间过渡层中总碳氮比为0<C/N<1,表面具有参差的TiN成...
一种PVD+ALD复合制备技术提升涂层耐腐蚀性能的方法
本发明涉及涂层生产技术领域,具体涉及一种PVD+ALD复合制备技术提升涂层耐腐蚀性能的方法,该方法结合PVD和ALD制备技术的优势沉积涂层,在PVD制备涂层的不同位置沉积ALD插层,以封闭PVD涂层沉积过程中产生的缺陷。利用表征设备对沉积后...
用于合成高绝缘涂层的方法及设备
本发明涉及一种涂覆室,具有至少一个形成空心放电阳极(HDA)的主体,该主体以电绝缘且真空密封的方式连接至该涂覆室的开口,其中,该主体的内表面形成带有开口的空腔,其中,该主体的内表面至少部分设计为导电的,并且该空腔的开口连接至该涂覆室的开口以...
一种光学薄膜应力控制方法及真空镀膜系统
本发明公开了一种光学薄膜应力控制方法及真空镀膜系统。所述方法包括:首先在PECVD腔室内利用含有机组分的前驱体在基底表面形成具有粘弹性的缓冲层;随后在真空连通环境下将基底传至PVD腔室沉积金属层,并施加脉冲偏压引入本征压缩应力,以预补偿后续...
大型循环流化床锅炉SNCR脱硝剂减量方法
本发明公开了一种大型循环流化床锅炉SNCR脱硝剂减量方法,包括在锅炉启动期、负荷增加期、负荷平稳期与负荷降低期,对大型循环流化床锅炉运行过程中的一、二次风率调整、上下二次风调整、烟气再循环调整,控制锅炉平均氧量2.5~3.5%与单点氧量不允...
适用于锅炉的低NOx排放燃烧装置
本发明公开了适用于锅炉的低NOx排放燃烧装置,包括锅炉炉膛;锅炉炉膛包括从下向上依次排列的主燃区、还原区和燃尽区;主燃区/还原区的炉壁上设有若干用于喷射雾化焦油的焦油雾化喷枪,且还原区的炉壁上设有若干用于喷射热解气的热解气喷口,或者主燃区/...
一种折臂随车起重机的新型连杆机构
本实用新型公开了一种折臂随车起重机的新型连杆机构,涉及连杆机构技术领域,该折臂随车起重机的新型连杆机构包括支撑旋转机构,该支撑旋转机构的上端与连杆机构,连杆机构的另一端设有吊装装置;本实用新型,旋转底盘下设有旋转涡轮座,通过旋转电机带动旋转...
一种中空玻璃镀膜装置及镀膜工艺
本发明提供一种中空玻璃镀膜装置及镀膜工艺,涉及玻璃镀膜技术领域,包括:支架用于承载待镀膜玻璃;镀膜机构包括移动组件、固定架、更换组件和底座;支架与底座转动连接,更换组件与固定架滑动连接,更换组件与移动组件固定连接;送料机构安装在支架上,用于...
一种金属板材及其制备方法与应用
本发明公开了一种金属板材及其制备方法与应用,属于钢板技术领域。该金属板材包括金属基板以及设置于金属基板表面的复合纳米结构层;复合纳米结构层中同时含有纳米级的定型结构和纳米级的无定型结构,以原子百分比计,复合纳米结构层中含有10at%~75a...
一种网络变压器生产用镀锡设备
本实用新型公开了一种网络变压器生产用镀锡设备,属于网络变压器生产技术领域。一种网络变压器生产用镀锡设备,包括箱体,所述箱体内固定设置有镀液槽,还包括升降设置在所述箱体内的固定框,所述固定框位于镀液槽的正上方,所述固定框内滑动设置有安装框,所...
一种真空微蒸发镀覆装置及其使用方法
本发明公开了一种真空微蒸发镀覆装置,其包括:镀覆管和气动阀:镀覆管为一端有敞口的半封闭容器,镀覆管内设置有反应腔;气动阀包括调节盖、端盖和阀芯,调节盖和端盖连接,调节盖与端盖之间形成有容纳腔,容纳腔与外部环境相连通,阀芯设置在容纳腔中,端盖...
一种空气冷却盘管用工装挂具
本发明涉及热镀锌专用工装挂具技术领域,特别是涉及一种空气冷却盘管用工装挂具,包括吊杆和固定架,所述吊杆安装于厂房的顶部,吊杆的底部通过螺栓通过安装有移动导轨,固定架呈板状结构设置,固定架的两侧壁安装有活动机构,活动机构与移动导轨卡接安装且活...
成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法
本发明提供能够实现成膜精度的提高的成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法。成膜装置(10)具备:静电吸附单元(300),静电吸附基板(S);以及蒸发源(210),构成为能够相对于静电吸附单元(300)相对地移动,且经由相对于基板(S)被实施...
一种二维异质薄膜制造的原子层沉积设备及方法
本发明公开了一种二维异质薄膜制造的原子层沉积设备及方法。其中设备包括:多源供给系统,为原子层沉积提供两种或多种以上的前驱体源;多源同腔沉积腔体,配以加热器对所述多源同腔沉积腔体进行加热和为二维异质薄膜制造提供沉积反应室,磁力操作机械手可对所...
化学气相沉积炉及化学气相沉积制造系统
本公开涉及化学气相沉积炉及化学气相沉积制造系统。在一方面中,提供了一种CVD炉,其包括:炉体;以及多个下盖,所述多个下盖能够彼此替换,并且所述多个下盖中的任一下盖均能够在其上安装用于支承多个基材的基材支架,且能够以可拆卸的方式连接至炉体的底...
薄膜沉积设备
薄膜沉积设备包括支撑基底的支撑件、以及包含沿着平行于支撑件的主表面的第一方向布置的第一喷射区段和第二喷射区段的喷射单元。在喷射单元中,第一喷射区段配置为将源气体喷射到基底的一个表面上并排出源气体,并且第二喷射区段配置为将反应气体喷射到基底的...
一种磁控溅射用磁轭组件在线摆动装置
本实用新型公开了一种磁控溅射用磁轭组件在线摆动装置,其中磁轭组件连接于外壳组件上,外壳组件和磁轭组件位于靶材内,包括以及摆动组件;第一终端组件以及第二终端组件分别设于外壳组件的两端,且与磁棒的摆动轴线同轴,外壳组件通过第一终端组件和第二终端...
真空规管保护装置
本实用新型提供了一种真空规管保护装置,保护管通过安装组件可拆卸设于真空仓上,保护管的一端为安装段,安装段竖直布置,真空规管插设于保护管的竖直布置的一端,固定机构设于保护管和真空规管之间,以使真空规管和保护管相固定;相对于安装段,保护管的另一...
一种化学气相沉积方法、装置、电子设备及沉积装置
本发明涉及半导体技术领域,公开了一种化学气相沉积方法、装置、电子设备及沉积装置,其中化学气相沉积方法通过获取待沉积产品的标识信息,提取其多晶硅密度参数,根据多晶硅密度参数确定薄膜理论厚度,并结合器件设计所需的薄膜目标厚度动态调整化学气相沉积...
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