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五金工具产品及配附件制造技术
  • 本实用新型涉及供气盘领域,具体是一种特种气体的供气盘,包括盘体,所述盘体的两侧对称安装有第一压力表、压力传感器、气动膜片阀、减压阀、第二压力表和低压膜片阀,第一压力表与压力传感器的一侧相连,压力传感器的另一侧与气动膜片阀的一侧相连,气动膜片...
  • 本发明提供一种在石英基材表面形成超纯二氧化硅涂层的方法,该方法包括以下步骤:利用掺杂有超纯碳化硅粉末的超纯二氧化硅粉末作为等离子喷涂粉末,氧气作为送粉气,对石英基材的待喷涂区域表面进行等离子喷涂,获得超纯二氧化硅涂层;该石英基材为未预热的石...
  • 本实用新型提供了一种可防止划伤的热镀锌件,涉及热镀锌件领域,包括:钢板基体,所述钢板基体的外侧设有镀锌层,且镀锌层的外侧设有纳米陶瓷涂层,所述钢板基体的内部设有纵向碳纤维结构件和横向碳纤维结构件,且横向碳纤维结构件横向贯穿插接在纵向碳纤维结...
  • 本公开涉及镀锌带钢冷却处理技术领域,本公开的一个实施例提供了一种镀锌带钢水冷装置,其包括:冷水池以及冷却循环水箱,冷却循环水箱设置在冷水池外侧,外架固定在冷水池外侧,输送组件设置在冷水池与外架中,冲刷组件设置在冷水池中,表面清理组件设置在冷...
  • 本实用新型涉及供气盘领域,具体是一种供气盘,包括盘体,所述盘体上安装有气动膜片阀、单向阀、泄压阀、缓冲罐、第一压力表、减压阀、第一压力传感器、第二压力表和第二压力传感器,气动膜片阀与单向阀的一侧相连,单向阀的另一侧与泄压阀的一侧相连,泄压阀...
  • 本发明一种薄壁异形金属封严环表面增韧CoMoCrSi涂层利用双层辉光等离子表面冶金技术,以CoMoCrSi合金为靶材,镍基高温合薄壁异形金属封严环为工件,经过三步过程得到。第一步通过控制电流密度调控金属封严环表面微区塑性变形,借助边缘效应实...
  • 本申请公开了一种提高界面结合的连续SiC纤维增强钛铝基复合材料先驱丝、复合材料及其制备方法,本申请以具有第一晶粒尺寸的TiAl合金为靶材,对SiC纤维进行磁控溅射,在所述SiC纤维表面形成第一涂层;以具有第二晶粒尺寸的TiAl合金为靶材,对...
  • 本实用新型涉及热镀锌清洗技术领域,具体为一种清洗段消泡装置,消泡罐包括罐体,罐体上设有电机,电机输出端连接有传动轴,传动轴穿过罐体上表面,延伸至罐体内部上方,罐体内部上方设有消泡套筒,消泡套筒内设有消泡叶轮,消泡叶轮与传动轴相连,罐体上设有...
  • 本申请涉及金刚石制造装置领域,尤其涉及一种用于金刚石高速生长的谐振腔,包括第一部件、第二部件、石英罩、以及微波天线;第一部件和第二部件合围形成谐振腔的反应腔室,所述反应腔室内设有沉积平台;石英罩设于第一部件顶部,所述微波天线设于石英罩内,所...
  • 本发明提供一种沉积件及沉积设备,所述沉积件包括沉积环、中心节点和多个支撑杆;所述中心节点设置于所述沉积环的中心位置,所述支撑杆的一端与所述中心节点连接,另一端与所述沉积环连接;所述支撑杆在所述沉积环的径向方向上呈弧形弯曲,且多个所述支撑杆的...
  • 本发明涉及溅射镀膜技术领域,具体涉及一种多层离子溅射镀膜装置及工艺,多层离子溅射镀膜工艺包括采用多层离子溅射镀膜装置进行镀膜;多层离子溅射镀膜装置包括外壳、溅射靶头、安装壳、基座、回料机构和输料机构,溅射靶头插装在外壳内,且指向待镀膜件;安...
  • 本实用新型公开了一种PVD载板加热装置,包括箱体,所述箱体的前侧转动连接有箱门,所述箱体的内部设置有加热结构,所述箱体的外侧固定连接有冷却结构,所述冷却结构包括气泵一,所述气泵一固定连接在箱体的后侧,所述气泵一和箱体之间固定连接有气管一,所...
  • 本申请涉及一种CVD反应装置,属于化学气相沉积的技术领域,其包括架体和设置在所述架体上的若干热管,所述热管沿所述架体的长度方向设置,所述架体两端均设置为电极,所述热管两端均连通有进气管,且所述热管下侧开设有多个通孔,且所述热管下方设有用于沉...
  • 本发明公开了一种具有均匀热分布结构的铝硅壳体镀覆设备,包括底座,所述底座的顶部固定连接有侧板,所述侧板的一侧固定连接有安装板,所述安装板的外侧设置有多用均热镀覆机构,所述侧板远离安装板的一侧固定连接有固定板。本发明通过设置多用均热镀覆机构,...
  • 本发明公开了一种石油管接箍磷化自动生产线及使用方法,涉及磷化设备技术领域,包括:机架,多个功能槽体,轨道,龙门行车,多个挂具,滑线牵引装置,行车定位系统,上料辊道,下料辊道,吸风系统,生产线封闭系统,电控系统,各功能槽体依次安装于机架上,依...
  • 提供了一种选择性地在具有第一和第二表面的基板上沉积材料的方法,其中所述第一表面不同于所述第二表面。在基板上沉积材料包括:向基板供给包含金属原子、卤素原子和至少一种不是金属或卤素原子的另外的原子的本体前体;和向基板供给反应物。本体前体和反应物...
  • 本实用新型公开了一种磁控溅射镀膜工艺用的均匀镀膜设备,包括镀膜箱,所述镀膜箱的上表面固定安装有真空泵,所述真空泵的输出端固定连通有真空管,所述真空管的底端与镀膜箱的上表面相连通,所述镀膜箱的内壁固定镶嵌有相对称的第一轴承,两个所述第一轴承的...
  • 本实用新型涉及供气盘领域,具体是一种终端供气盘,包括盘体,所述盘体上安装有气动膜片阀和手动膜片阀,气动膜片阀的一侧与手动膜片阀的一侧相连,盘体上还安装有流量计,流量计位于气动膜片阀和手动膜片阀之间。本产品采用流量计精确控制设备使用的流量,本...
  • 本实用新型涉及埚托加工技术领域,且公开了一种埚托立式沉积反应工装,该埚托立式沉积反应工装,包括支撑底座,所述支撑底座的数量为两个,两个所述支撑底座的上表面均开设有多个螺纹孔,多个所述螺纹孔的内部螺纹均安装有间隔圆柱,两个所述支撑底座的相对侧...
  • 本发明公开了一种石墨烯‑金刚石复合涂层及其制备方法与应用,属于材料技术领域。该石墨烯‑金刚石复合涂层包括金刚石涂层和石墨烯涂层;石墨烯sp2键结构与金刚石sp3键结构共价结合;石墨烯涂层具有呈垂直为主的非平行生长的石墨烯结构。其中,金刚石和...
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