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五金工具产品及配附件制造技术
  • 一种中子管靶膜制备方法
    一种中子管靶膜制备方法_西京学院_202311477908.7
    本发明公开一种中子管靶膜制备方法，其不使用危险试剂，优于单一的磁控溅射镀膜方法，解决脱落的问题。一种中子管靶膜制备方法，包括以下步骤：S1、Ar/H2等离子体基底清洗：使用Ar/H2混合气等离子体...
    2025-08-11
  • 一种高固溶度镁铝合金薄膜及其制备方法
    一种高固溶度镁铝合金薄膜及其制备方法_致真精密设备(杭州)有限公司_202510553871.4
    本发明公开了一种高固溶度镁铝合金薄膜及其制备方法，包括以下步骤：提供单面抛光的基片，清洗并干燥后备用；将基片转移到溅射室中，启动位于基片上方的镁靶和铝靶进行预溅射；通过磁控溅射沉积镁铝合金薄膜。本发明通过双靶共溅射与参数优化相结合，突破传统...
    2025-08-11
  • 一种基于等离子体技术反应溅射金属氮化物渗镀层的方法
    一种基于等离子体技术反应溅射金属氮化物渗镀层的方法_东南大学_202510498761.2
    本发明公开了一种基于等离子体技术反应溅射金属氮化物渗镀层的方法，属于金属表面处理领域。上述方法步骤为：(1)将金属基底材料置于样品台上，在样品台周围放置中空导电网罩作为活性屏阴极；(2)用目标金属元素组成的中空靶材组成多层空心阴极系统放置于...
    2025-08-11
  • 一种钢板表面氧化镁涂覆工艺
    一种钢板表面氧化镁涂覆工艺_宝镁特(上海)智能工程有限公司_202510552378.0
    本发明公开了一种钢板表面氧化镁涂覆工艺，包括：将二氧化硅纳米球与乙醇作为分散剂混合，超声处理，加入含氨基官能团的物质，离心洗涤，得到含氨基官能团的二氧化硅纳米球；将含氨基官能团的二氧化硅纳米球与分散剂混合，加入硝酸镁，超声分散处理，调节pH...
    2025-08-11
  • 动态镀膜装置及其动态镀膜方法
    动态镀膜装置及其动态镀膜方法_苏州迈为科技股份有限公司_202211632285.1
    本发明涉及一种动态镀膜装置及其动态镀膜方法，动态镀膜装置包括控制模块及沿第一方向依次排布的缓冲腔、过渡腔及镀膜腔，过渡腔包括至少三个检测元件，相邻两个检测元件限定出一过渡区间，过渡区间内设有一驱动机构，驱动机构具有工艺速度、传动速度及极限速...
    2025-08-11
  • 等离子气相沉积三氧化二铝的方法
    等离子气相沉积三氧化二铝的方法_深圳市领驭指南科技有限公司_202510485084.0
    本申请提供一种等离子气相沉积三氧化二铝的方法，包括如下步骤，将ETFE膜送入真空反应腔的预处理区以进行等离子体清洁与活化；移送清洁后的ETFE膜至真空反应腔的沉积区，以50–80°C的温度加热ETFE膜；将甲基丙烯酸铝注入蒸发器内以气化，将...
    2025-08-11
  • 一种用于铜线镀锡的一体化加工设备
    一种用于铜线镀锡的一体化加工设备_天津市宏润电子有限公司_202510683198.6
    本发明涉及铜线生产加工技术领域，尤其涉及一种用于铜线镀锡的一体化加工设备。包括有：架体，所述架体固接有支撑架，所述支撑架安装有第一电机，所述支撑架转动连接有螺纹杆；引导块，螺纹连接于所述螺纹杆，所述引导块上设置有传动块；清洁板，固接于所述传...
    2025-08-11
  • 用于对容器进行涂覆尤其是等离子涂覆的设备和方法
    用于对容器进行涂覆尤其是等离子涂覆的设备和方法_克朗斯股份有限公司_201911282530.9
    本发明涉及一种用于涂覆物体(10)并且尤其是容器(10)的设备，其具有至少一个第一涂覆站和至少一个第二涂覆站(2、4)，其中这些涂覆站(2、4)中的每一个均具有至少一个第一涂覆电极(22、42)和至少一个第二涂覆电极(24、44)，以及在各...
    2025-08-11
  • 一种金属表面亚微米级的纳米陶瓷薄膜的制备方法
    一种金属表面亚微米级的纳米陶瓷薄膜的制备方法_中国工程物理研究院材料研究所_202411664891.0
    本发明公开了一种金属表面亚微米级的纳米陶瓷薄膜的制备方法，属于薄膜制备领域，将粉体涂覆于金属基材表面，在氮气氛围中，通过脉冲激光作用在金属基材表面瞬间产生大量含有碳、氮、金属元素的等离子体，等离子体再反冲到金属基材表面；由于基体表面的极冷作...
    2025-08-11
  • 合金共蒸发实现蒸发镀膜浓度补偿的方法及装置
    合金共蒸发实现蒸发镀膜浓度补偿的方法及装置_繁枫新能源(上海)有限公司_202510675060.1
    本发明公开了合金共蒸发实现蒸发镀膜浓度补偿的方法及装置，将主合金蒸发材料装载于主蒸发源的坩埚中，将补偿合金蒸发材料装载于补偿蒸发源的独立容器中，在真空环境下加热主蒸发源，使主合金蒸发并沉积于基板表面形成薄膜；实时监测薄膜中目标元素的浓度偏差...
    2025-08-11
  • 一种沉积工艺的送气设备、送气方法及其处理装置
    一种沉积工艺的送气设备、送气方法及其处理装置_拓荆科技(上海)有限公司_202311587901.0
    本发明公开了一种沉积工艺的送气设备、送气方法及其处理装置。送气设备包括：载气源，通过管路连接前驱体源，用以向反应腔送入前驱体源，以使前驱体源沉积在晶圆表面；以及第一气体切换装置，其输入端连接反应气源和第一保护气源，输出端连接反应腔，其中，第...
    2025-08-11
  • 一种复合离子注入提高Al-Cu-Li合金耐腐蚀性的方法
    一种复合离子注入提高Al-Cu-Li合金耐腐蚀性的方法_上海交通大学_202311085844.6
    本发明公开了一种复合离子注入提高Al‑Cu‑Li合金耐腐蚀性的方法，包括将Al‑Cu‑Li合金进行热塑性变形并对其表面进行预处理后，同时进行Zr、Ti、Zn、Cr离子的复合注入，其中Zr/Ti离子比例为1～3：1，Zn/Cr离子的比例为1....
    2025-08-11
  • 异型靶材同步自清洁的PVD预清洁腔体及方法
    异型靶材同步自清洁的PVD预清洁腔体及方法_无锡尚积半导体科技股份有限公司_202510926874.8
    本发明提供一种异型靶材同步自清洁的PVD预清洁腔体及方法，异型靶材同步自清洁的PVD预清洁腔体包括遮挡件、ICP发生件、自偏压晶圆载台、异型靶材组件、电磁铁组件；异型靶材组件的结构使得铝粒子的溅射区域既能够覆盖遮挡件的内壁，又不会溅射到晶圆...
    2025-08-11
  • 一种电致变色器件镀膜工艺及方法
    一种电致变色器件镀膜工艺及方法_苏州伯宇光电科技有限公司_202510427480.8
    本申请涉及电致变色镀膜技术领域，尤其是涉及一种电致变色器件镀膜工艺及方法，其包括：步骤一，基板预处理，以超声清洗和等离子处理清洗柔性基板表面附着物；步骤二，导电层沉积处理，在基板上沉积氧化铟锡(ITO)导电层，沉积温度为100至380℃，厚...
    2025-08-11
  • 一种基于单质前驱体绿色合成氮化硼薄膜的制备方法
    一种基于单质前驱体绿色合成氮化硼薄膜的制备方法_蒋其龙_202510577552.7
    本发明属于氮化硼薄膜制备技术领域，具体涉及一种基于单质前驱体的绿色合成氮化硼薄膜的制备方法。本发明提供的方法：采用N2为氮源，硼粉为硼源，经退火/化学预处理的金属片做催化基底，使用双温区可控的CVD炉制备氮化硼薄膜。首...
    2025-08-11
  • 一种真空镀膜装置及真空镀膜方法
    一种真空镀膜装置及真空镀膜方法_光驰科技(上海)有限公司_202111509133.8
    本发明涉及真空镀膜技术领域，公开一种真空镀膜装置及真空镀膜方法。其中真空镀膜装置包括镀膜机构和膜料承载件搬运机构，镀膜机构包括用于镀膜的镀膜腔和用于盛放膜料承载件的第一搬运腔，镀膜腔和第一搬运腔通过第一真空阀门选择性连通，镀膜腔内还设置有第...
    2025-08-11
  • 一种结晶型ITO透明导电薄膜及其制备方法
    一种结晶型ITO透明导电薄膜及其制备方法_广东先导稀材股份有限公司_202510427659.3
    本发明公开了一种结晶型ITO透明导电薄膜及其制备方法。所述制备方法包括如下步骤：（1）通过磁控溅射在基底上溅射沉积辅助膜层，得到含辅助膜层的基底；（2）将ITO靶材固定在磁控溅射设备上，在含辅助膜层的基底上通过磁控溅射沉积ITO膜层，在磁控...
    2025-08-11
  • 一种带隙可调的三元合金LuxIn1-xO材料的制备及其日盲紫外探测器的应用
    一种带隙可调的三元合金Lu<Sub>x</Sub>In<Sub>1-x</Sub>O材料的制备及其日盲紫外探测器的应用_广东工业大学_202311496617.2
    本发明公开了一种带隙可调的三元合金LuxIn1‑xO材料的制备及其日盲紫外探测器的应用。一种带隙可调的三元合金LuxIn1‑xO材料的制备方法，采用磁控...
    2025-08-11
  • 一种耐腐蚀自润滑轴承及其加工工艺
    一种耐腐蚀自润滑轴承及其加工工艺_淮安市洪泽区逸达精密轴承有限公司_202510521108.3
    本发明涉及轴承技术领域，具体公开了一种耐腐蚀自润滑轴承及其加工工艺，本发明通过在轴承表面激光熔覆碳化钨粉末与钴铬合金组成的耐腐蚀陶瓷合金粉末，在轴承表面形成耐腐蚀涂层，在耐腐蚀涂层上进一步通过斜角沉积的方式，沉积了多孔的碳氮化钛涂层，并将二...
    2025-08-11
  • 用于基板处理设备的氟化铝涂覆制品及生产方法
    用于基板处理设备的氟化铝涂覆制品及生产方法_应用材料公司_202480005841.3
    一种用于处理具有包括氟化铝的涂层的基板的设备的部件，所述涂层安置在所述部件的表面的至少一部分上。也公开一种涂覆部件的方法、一种修复部件上的涂层的方法、及一种处理基板的方法。
    2025-08-11
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