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五金工具产品及配附件制造技术
  • 本发明公开了一种工件镀膜工装,涉及真空镀膜技术,包括固定支架、背板、旋转机构,固定支架设置于真空腔室内;背板上设有夹持机构,能够将工件固定夹持于所述背板一侧;旋转机构安装于所述固定支架上,其一端与所述背板远离工件一侧固定连接,另一端连接有驱...
  • 本申请公开了一种碳化钽涂层及其制备方法、碳化钽涂层制品,其中,所述碳化钽涂层的制备方法包括以下步骤:以固态钽源和含卤素元素和碳元素的气体为原料进行化学气相沉积,得到碳化钽涂层;所述固态钽源在2000℃的饱和蒸气压为10Pa以下。本申请通过以...
  • 本实用新型涉及热镀锌技术领域,具体是一种防爆溅式热镀锌池;本实用新型防爆溅式热镀锌池,包括热镀锌池,所述热镀锌池的底部均匀设置有支撑脚,所述热镀锌池的顶部开设有收纳槽,所述收纳槽左右两侧均贯穿开设有一组滑槽,所述收纳槽内设置有防护框,所述热...
  • 本实用新型公开了一种氮化铝基板表面蒸镀金属化治具,包括底层开合式蒸镀治具以及依次上下叠放于底层开合式蒸镀治具上的叠层开合式蒸镀治具,底层开合式蒸镀治具放置于网带上,叠层开合式蒸镀治具至多叠放设置有三组,底层开合式蒸镀治具与叠层开合式蒸镀治具...
  • 本发明属于真空镀膜设备技术领域,具体涉及一种用于真空镀膜设备的船型工艺腔室及带有该腔室的真空镀膜设备,船型工艺腔室包括顶面、底面,垂直于顶面和底面的第一侧面,垂直于顶面的第二侧面,连接第二侧面和底面的斜面,斜面上设计有安装离子源机构的安装口...
  • 本发明涉及金属材料表面处理技术领域,具体公开了一种超纯不锈钢钝化处理方法及其管道加工工艺、超纯不锈钢管道。在钝化处理方法中,包含有以下步骤:S1.将不锈钢材料浸泡于硝酸溶液中,以初步促成氧化膜生成;S2.将不锈钢材料转移至柠檬酸溶液中测量开...
  • 本发明涉及热镀锌钢制造技术领域,具体涉及一种高抗开裂性热镀锌钢及其制备方法。具体方法为对钢板热镀锌形成镀层得到热镀锌钢,对镀层进行分段热处理,即从镀锌温度先冷却至335℃~345℃,随后冷却至295℃~305℃,再冷却至265℃~275℃,...
  • 本实用新型涉及镀膜设备技术领域,具体为一种精密光学元件镀膜夹具,包包括精密光学元件加工用镀膜工作台,镀膜工作台的顶面两端安装有固定夹座和可调节夹座。本实用新型通过在镀膜工作台一端中部安装的伺服电机,可精准驱动调节丝杆转动;镀膜工作台顶面两端...
  • 本发明公开了一种曲面光学元件镀膜定位装置,包括基座模块,包括通过几何定位部连接的支撑基座和角度调节部;覆盖模块,包括具有功能孔区的承载框架以及至少两个装配式弹性压紧组件;所述弹性压紧组件包括螺纹调距连接件以及弹性力源产生部;基座模块与覆盖模...
  • 本实用新型公开了一种用于真空磁控溅射镀膜机的试样固定工件架。通过弹性止动环或弹簧卡扣与固定网盘配合固定试样,既能提高一次实验中试样的数量,又能实现对试样的待镀膜表面无遮挡固定。
  • 本实用新型提出了一种气相沉淀设备,涉及气相沉积技术领域,气相沉淀设备包括:第一管路;流量控制器,设于第一管路的第一端;反应室,反应室的第一端与第一管路的第二端连通;第二管路,第二管路的第一端与第一管路的第一端相对,第二管路的第二端与第一管路...
  • 本发明公开了一种反应腔、薄膜厚度一致性监测方法、薄膜沉积设备,该反应腔包括:第一腔体、第二腔体、抽气口、第一膜厚传感器和第二膜厚传感器,所述抽气口设于所述第一腔体与所述第二腔体的中间,所述第一膜厚传感器设于所述第一腔体中且邻近所述抽气口,所...
  • 本发明涉及有机金属化学气相沉积装置,更详细地涉及具备能够均匀地供应工艺气体并能够容易地设置且易于维护的气体供应部的有机金属化学气相沉积装置。
  • 本发明涉及热镀锌技术领域,尤其涉及一种输电铁塔钢结构热浸镀锌装置。包括设置于镀锌池上方的吊架,所述吊架设置有电磁滑轨,所述吊架的电磁滑轨内滑动连接有电动滑块,所述电动滑块固接有连接架,所述连接架设置有两个放置板,所述放置板上设置有若干个孔洞...
  • 本发明提供了一种宇航级Parylene‑C基薄膜及其制备方法,属于航空航天材料技术领域。宇航级Parylene‑C基薄膜包括依次成型于待镀器件上的偶联剂层、Parylene‑C主体膜层、胶黏剂层和聚酰亚胺保护膜层。通过使用偶联剂,可使Par...
  • 本发明提供一种磁控溅射用在线调整磁场强度的方法、装置、设备及介质,所述方法包括:在计算机中输入设定的磁场强度参数,而后将指令发送至磁控溅射装置中的硬件调控组件;根据所述硬件调控组件中接收的指令,驱动磁棒调整组件调整磁场强度;第一实时监测磁控...
  • 本发明关于一种用于热激光外延(TLE)系统(100)的源布置(10),包括具有可移动保持结构(22)的保持装置(20),所述可移动保持结构(22)具有用于布置一个或多个源组件(120)的一个或多个保持空间(24),该源组件(120)提供将被...
  • 本发明公开了一种薄膜处理装置及其方法,该装置包含:反应腔室、进气隔板和排气隔板;进气法兰组件,其包含多个与反应空间对应的主反应气体喷口和与净化空间对应的辅助气体喷口;气体导流组件,其包含多个与进气隔板的辅助气体进气通道连通的辅助气体导流管道...
  • 本发明总体上提供了一种用于真空腔室的气体扩散器支撑结构的装置和方法。所述气体扩散器支撑结构包括具有中心孔的背板和气体偏转器,所述气体偏转器的长度和宽度不等于透过多个向外紧固件连接到所述背板的长度,所述多个向外紧固件连接到形成在所述背板中的多...
  • 本发明属于薄膜制备技术领域,公开了一种蒸镀设备。该蒸镀设备包括本体、盖体、驱动件、限位件和检测件。本体设有腔室;盖体具有打开腔室的第一状态和关闭腔室的第二状态,盖体设有安装位;驱动件与盖体传动连接,用于带动盖体在第一状态和第二状态之间切换;...
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