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五金工具产品及配附件制造技术
  • 一种沉积腔室结构及MPCVD设备
    一种沉积腔室结构及MPCVD设备_山东力冠微电子装备有限公司_202510590018.X
    一种沉积腔室结构及MPCVD设备，属于金刚石合成设备领域。技术方案为：一种沉积腔室结构，包括底座，底座上固定设有管状的石英窗口，石英窗口上方密封连接有上盖，石英窗口的外侧套设有金属环，金属环的中间区域设有若干横向设置和竖向设置的微波馈入缝隙...
    2025-12-17
  • 一种用于提高等离子体涂层中靶材的使用效率的设备
    一种用于提高等离子体涂层中靶材的使用效率的设备_广州巴达精密刀具有限公司_202510770690.7
    本发明属于材料镀膜技术领域，公开了一种用于提高等离子体涂层中靶材的使用效率的设备，包括：涂层炉，作为设备整体的支撑结构：阴极体，与所述涂层炉相连；冷却结构，连接于所述涂层炉；放置箱，固定于所述涂层炉；铜板，连接于所述放置箱；靶材，通过所述铜...
    2025-12-17
  • 源布置及热激光外延系统
    源布置及热激光外延系统_马克斯·普朗克科学促进学会_202280102772.9
    本发明关于一种用于热激光外延(TLE)系统(100)的源布置(10)，包括具有可移动保持结构(22)的保持装置(20)，所述可移动保持结构(22)具有用于布置一个或多个源组件(120)的一个或多个保持空间(24)，该源组件(120)提供将被...
    2025-12-17
  • 一种适用于高强度钢的化学镀Ni-Co-P合金工艺方法
    一种适用于高强度钢的化学镀Ni-Co-P合金工艺方法_河南北方红阳机电有限公司_202410982536.1
    本发明提供了一种适用于高强度钢的化学镀Ni‑Co‑P合金工艺方法，包括的步骤有：表面整理；脱脂处理；酸洗；表面调整；化学镀Ni‑Co‑P合金；回收；二级逆流漂洗；对镀后的工件吹水、烘干或除氢处理；进行封闭处理。本发明解决了装备用高强度合金钢...
    2025-12-17
  • 用于减少节流阀漂移的主动冷却式前级管道陷阱
    用于减少节流阀漂移的主动冷却式前级管道陷阱_应用材料公司_202180088856.7
    示例性半导体处理系统包括：处理腔室，所述处理腔室限定处理区域。半导体处理系统可包括前级管道，所述前级管道与处理腔室耦合。前级管道可限定流体导管。半导体处理系统可包括前级管道陷阱，所述前级管道陷阱与前级管道的远端耦合。半导体处理系统可包括可移...
    2025-12-17
  • 一种真空镀膜机的限位装置
    一种真空镀膜机的限位装置_宁波市丹科真空科技有限公司_202520124675.0
    本实用新型公开了一种真空镀膜机的限位装置，属于真空镀膜机技术领域，包括真空室体框，所述真空室体框的一侧固定安装有铰链，所述铰链的端部固定连接有真空室门框，所述真空室门框和真空室体框的顶部设置有限位装置。本实用新型中，通过在真空室门框和真空室...
    2025-12-17
  • 一种多工位连续式真空镀膜设备
    一种多工位连续式真空镀膜设备_合肥巨磁电子有限公司_202520220511.8
    本申请涉及真空镀膜技术领域，且公开了一种多工位连续式真空镀膜设备，包括外筒体，所述外筒体开口向上，且所述外筒体外表面一侧开设有槽体，所述外筒体与槽体相对的一侧固定连接有镀膜机，所述外筒体内部中心处转动连接有转动柱，所述转动柱外表面固定连接有...
    2025-12-17
  • 一种钼台
    一种钼台_浙江先导微电子科技有限公司_202423049267.8
    本实用新型属于金刚石膜制备领域，公开了一种钼台。所述钼台包括底座，底座上表面设置圆形凹槽，所述圆形凹槽的底部设置生长圆柱；所述生长圆柱包括圆柱段和位于圆柱段上部的凸球面，所述圆柱段的高度小于圆形凹槽的深度，所述生长圆柱的高度大于圆形凹槽的深...
    2025-12-17
  • 一种薄膜处理装置及其方法
    一种薄膜处理装置及其方法_中微半导体设备(上海)股份有限公司_202111653272.8
    本发明公开了一种薄膜处理装置及其方法，该装置包含：反应腔室、进气隔板和排气隔板；进气法兰组件，其包含多个与反应空间对应的主反应气体喷口和与净化空间对应的辅助气体喷口；气体导流组件，其包含多个与进气隔板的辅助气体进气通道连通的辅助气体导流管道...
    2025-12-17
  • 腔室的门阀组件及半导体工艺设备
    腔室的门阀组件及半导体工艺设备_北京北方华创微电子装备有限公司_202423120705.5
    本实用新型提供一种腔室的门阀组件及半导体工艺设备。腔室的门阀组件设置于腔室的传片口，门阀组件包括门框，门框设置有沿门框的厚度方向贯穿门框的传片通道，门框还设置有进气孔、出气孔、进气通道、排气通道和收集腔；其中，进气孔位于传片通道的顶壁上且与...
    2025-12-17
  • 用于等离子体增强化学气相沉积的非轴对称气体扩散器
    用于等离子体增强化学气相沉积的非轴对称气体扩散器_应用材料公司_202480026994.6
    本发明总体上提供了一种用于真空腔室的气体扩散器支撑结构的装置和方法。所述气体扩散器支撑结构包括具有中心孔的背板和气体偏转器，所述气体偏转器的长度和宽度不等于透过多个向外紧固件连接到所述背板的长度，所述多个向外紧固件连接到形成在所述背板中的多...
    2025-12-17
  • 一种蒸镀设备
    一种蒸镀设备_浙江晟霖益嘉科技有限公司_202511336211.7
    本发明属于薄膜制备技术领域，公开了一种蒸镀设备。该蒸镀设备包括本体、盖体、驱动件、限位件和检测件。本体设有腔室；盖体具有打开腔室的第一状态和关闭腔室的第二状态，盖体设有安装位；驱动件与盖体传动连接，用于带动盖体在第一状态和第二状态之间切换；...
    2025-12-17
  • 检测装置
    检测装置_北京北方华创微电子装备有限公司_202423060861.7
    本申请公开了一种检测装置，涉及半导体领域。一种检测装置，应用于工艺腔室，工艺腔室包括腔体以及设于腔体内的承载装置和匀流板，匀流板的底端面与承载装置的承载面相对设置，且匀流板的环形侧壁面与底端面之间通过倾斜连接面过渡连接；检测装置包括：安装组...
    2025-12-17
  • 一种耐磨多主元合金氮化物薄膜及其制备方法
    一种耐磨多主元合金氮化物薄膜及其制备方法_西北工业大学_202310693124.1
    本发明公开了一种耐磨多主元合金氮化物薄膜，其特征在于：包括以氩气和氮气为离化气体在硅基底上直接镀覆一层(VCoNi)Nx薄膜；所述(VCoNi)Nx薄膜包含按照原子百分比含量计算的如下元素：V19～39％、Co19～39％、Ni19～39％...
    2025-12-17
  • 一种耐腐蚀锆硅复合膜制备方法
    一种耐腐蚀锆硅复合膜制备方法_衢州学院_202511162917.6
    本发明涉及钢材料表面耐腐蚀膜制备技术领域，具体涉及一种耐腐蚀锆硅复合膜制备方法。(1)硅烷水解液制备：按一定比例配置乙醇水溶液，取一定体积硅烷成膜剂缓慢加入乙醇水溶液中，缓慢搅拌并加入有机弱酸调节pH值，待完全水解即得硅烷水解液；(2)钢材...
    2025-12-17
  • 一种提高含渗氮层类部件性能的方法、含渗氮层类部件
    一种提高含渗氮层类部件性能的方法、含渗氮层类部件_清华大学_202511194207.1
    本申请公开了一种提高含渗氮层类部件性能的方法、含渗氮层类部件，其中，所述方法包括以下步骤：对含渗氮层类部件进行脉冲磁场与超声耦合处理；所述超声的频率T1和所述脉冲磁场的频率T2的比值k范围为4×104‑2×105。本申请通过在适宜频率下的超...
    2025-12-17
  • 一种等离子喷涂自动旋转工装
    一种等离子喷涂自动旋转工装_力控装备(江苏)股份有限公司_202511334276.8
    本发明公开了一种等离子喷涂自动旋转工装，包括底座，底座的顶部一侧固定连接有固定座，底座的顶部远离固定座的一侧设置有第一移动座，等离子喷涂自动旋转工装还包括；管件固定组件，设置于固定座和第一移动座的顶部；动力单元，设置于固定座的顶部远离第一移...
    2025-12-17
  • 气体喷淋头组件及等离子体处理装置
    气体喷淋头组件及等离子体处理装置_中微半导体设备(广州)有限公司_202423187355.4
    本实用新型公开了一种气体喷淋头组件及等离子体处理装置，气体喷淋头组件设置在等离子体处理装置的反应腔内，包括：背板，位于反应腔内的顶部；气体喷淋头，位于背板的下方；悬挂装置，悬挂装置的第一端连接背板，悬挂装置的第二端连接气体喷淋头；气体喷淋头...
    2025-12-17
  • 沉积源和电子装置
    沉积源和电子装置_三星显示有限公司_202510664051.2
    公开沉积源和电子装置。该沉积源可包括：外壳；喷嘴部件，设置在外壳上，并且包括第一喷嘴和与第一喷嘴相邻的第二喷嘴；第一储存器，设置在外壳中并且被配置以容纳第一沉积材料；第二储存器，设置在外壳中并且被配置以容纳第二沉积材料；以及盖，设置在外壳与...
    2025-12-17
  • 一种节能型真空镀膜固定装置
    一种节能型真空镀膜固定装置_南通德上汽车零配件制造有限公司_202520219056.X
    本实用新型涉及真空镀膜加工技术领域，具体为一种节能型真空镀膜固定装置，包括真空热蒸机构，设置在真空热蒸机构内的钨丝以及设置在真空热蒸机构内的多组调角承印机构，所述真空热蒸机构包括均布的多个承压外壳，所述调角承印机构包括三个丝杆，设置在相邻两...
    2025-12-17
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