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五金工具产品及配附件制造技术
  • 一种多工位连续式真空镀膜设备
    一种多工位连续式真空镀膜设备_合肥巨磁电子有限公司_202520220511.8
    本申请涉及真空镀膜技术领域，且公开了一种多工位连续式真空镀膜设备，包括外筒体，所述外筒体开口向上，且所述外筒体外表面一侧开设有槽体，所述外筒体与槽体相对的一侧固定连接有镀膜机，所述外筒体内部中心处转动连接有转动柱，所述转动柱外表面固定连接有...
    2025-12-17
  • 一种钼台
    一种钼台_浙江先导微电子科技有限公司_202423049267.8
    本实用新型属于金刚石膜制备领域，公开了一种钼台。所述钼台包括底座，底座上表面设置圆形凹槽，所述圆形凹槽的底部设置生长圆柱；所述生长圆柱包括圆柱段和位于圆柱段上部的凸球面，所述圆柱段的高度小于圆形凹槽的深度，所述生长圆柱的高度大于圆形凹槽的深...
    2025-12-17
  • 一种铝板表面无机覆盖层制备工艺控制方法
    一种铝板表面无机覆盖层制备工艺控制方法_陕西雷诺贝尔铝业有限公司_202511651864.4
    本发明涉及金属表面处理技术领域，提出了一种铝板表面无机覆盖层制备工艺控制方法，旨在解决现有铝板磷化工艺存在的适应性差、控制精度低、膜层质量不稳定等技术问题。该方法通过工况诊断、参数预调整、动态参数补偿、差异化后处理及效果验证五个核心步骤，基...
    2025-12-17
  • 一种高合金钢工件表面激光发蓝工艺
    一种高合金钢工件表面激光发蓝工艺_中钢集团邢台机械轧辊有限公司_202511137956.0
    本发明公开了一种高合金钢工件表面激光发蓝工艺，属于金属表面处理领域，包括制备包括乙醇、双氧水、盐酸、羧甲基纤维素钠、气相纳米二氧化硅和去离子水的催化剂，催化剂中各组分的体积比为：乙醇60～70％、双氧水10～12％、羧甲基纤维素钠溶液8～1...
    2025-12-17
  • 一种因瓦箔材的表面处理方法
    一种因瓦箔材的表面处理方法_成都拓维高科光电科技有限公司_202511578756.9
    本发明公开了一种因瓦箔材的表面处理方法，属于掩模版制造领域，包括以下步骤：S1, 对因瓦箔材进行内应力的测试；S2, 根据S1测试结果确定因瓦箔材的正面减薄量以及反面减薄量；S4, 根据S2的正面减薄量以及反面减薄量，将因瓦箔材制成掩模版，...
    2025-12-17
  • 蒸镀设备及其控制方法
    蒸镀设备及其控制方法_上海升翕光电科技有限公司_202511668780.1
    本申请提供了一种蒸镀设备及其控制方法，该蒸镀设备包括冷水机、吹扫气源、切换阀和至少一个待冷却单元，冷水机具有出水口，切换阀具有第一开口、第二开口和第三开口，第一开口与出水口连通，第二开口与至少一个待冷却单元连通，第三开口与吹扫气源连通，切换...
    2025-12-17
  • 一种带安全防护组件的镀锌池
    一种带安全防护组件的镀锌池_漯河市永安线路器材有限公司_202520161761.9
    本实用新型涉及一种带安全防护组件的镀锌池，旨在解决当前装置中镀锌池处于敞开状态且在镀锌时锌液处于高温状态，极易对周围的工作人员产生危害，存在安全隐患的技术问题，包括镀锌池本体，所述镀锌池本体外侧设有支撑机构，所述支撑机构中部底端连接有安全防...
    2025-12-17
  • 一种薄膜处理装置及其方法
    一种薄膜处理装置及其方法_中微半导体设备(上海)股份有限公司_202111653272.8
    本发明公开了一种薄膜处理装置及其方法，该装置包含：反应腔室、进气隔板和排气隔板；进气法兰组件，其包含多个与反应空间对应的主反应气体喷口和与净化空间对应的辅助气体喷口；气体导流组件，其包含多个与进气隔板的辅助气体进气通道连通的辅助气体导流管道...
    2025-12-17
  • 一种蒸镀设备
    一种蒸镀设备_浙江晟霖益嘉科技有限公司_202511336211.7
    本发明属于薄膜制备技术领域，公开了一种蒸镀设备。该蒸镀设备包括本体、盖体、驱动件、限位件和检测件。本体设有腔室；盖体具有打开腔室的第一状态和关闭腔室的第二状态，盖体设有安装位；驱动件与盖体传动连接，用于带动盖体在第一状态和第二状态之间切换；...
    2025-12-17
  • 用于等离子体增强化学气相沉积的非轴对称气体扩散器
    用于等离子体增强化学气相沉积的非轴对称气体扩散器_应用材料公司_202480026994.6
    本发明总体上提供了一种用于真空腔室的气体扩散器支撑结构的装置和方法。所述气体扩散器支撑结构包括具有中心孔的背板和气体偏转器，所述气体偏转器的长度和宽度不等于透过多个向外紧固件连接到所述背板的长度，所述多个向外紧固件连接到形成在所述背板中的多...
    2025-12-17
  • 腔室的门阀组件及半导体工艺设备
    腔室的门阀组件及半导体工艺设备_北京北方华创微电子装备有限公司_202423120705.5
    本实用新型提供一种腔室的门阀组件及半导体工艺设备。腔室的门阀组件设置于腔室的传片口，门阀组件包括门框，门框设置有沿门框的厚度方向贯穿门框的传片通道，门框还设置有进气孔、出气孔、进气通道、排气通道和收集腔；其中，进气孔位于传片通道的顶壁上且与...
    2025-12-17
  • 检测装置
    检测装置_北京北方华创微电子装备有限公司_202423060861.7
    本申请公开了一种检测装置，涉及半导体领域。一种检测装置，应用于工艺腔室，工艺腔室包括腔体以及设于腔体内的承载装置和匀流板，匀流板的底端面与承载装置的承载面相对设置，且匀流板的环形侧壁面与底端面之间通过倾斜连接面过渡连接；检测装置包括：安装组...
    2025-12-17
  • 一种耐磨多主元合金氮化物薄膜及其制备方法
    一种耐磨多主元合金氮化物薄膜及其制备方法_西北工业大学_202310693124.1
    本发明公开了一种耐磨多主元合金氮化物薄膜，其特征在于：包括以氩气和氮气为离化气体在硅基底上直接镀覆一层(VCoNi)Nx薄膜；所述(VCoNi)Nx薄膜包含按照原子百分比含量计算的如下元素：V19～39％、Co19～39％、Ni19～39％...
    2025-12-17
  • 一种耐腐蚀锆硅复合膜制备方法
    一种耐腐蚀锆硅复合膜制备方法_衢州学院_202511162917.6
    本发明涉及钢材料表面耐腐蚀膜制备技术领域，具体涉及一种耐腐蚀锆硅复合膜制备方法。(1)硅烷水解液制备：按一定比例配置乙醇水溶液，取一定体积硅烷成膜剂缓慢加入乙醇水溶液中，缓慢搅拌并加入有机弱酸调节pH值，待完全水解即得硅烷水解液；(2)钢材...
    2025-12-17
  • 一种提高含渗氮层类部件性能的方法、含渗氮层类部件
    一种提高含渗氮层类部件性能的方法、含渗氮层类部件_清华大学_202511194207.1
    本申请公开了一种提高含渗氮层类部件性能的方法、含渗氮层类部件，其中，所述方法包括以下步骤：对含渗氮层类部件进行脉冲磁场与超声耦合处理；所述超声的频率T1和所述脉冲磁场的频率T2的比值k范围为4×104‑2×105。本申请通过在适宜频率下的超...
    2025-12-17
  • 气体喷淋头组件及等离子体处理装置
    气体喷淋头组件及等离子体处理装置_中微半导体设备(广州)有限公司_202423187355.4
    本实用新型公开了一种气体喷淋头组件及等离子体处理装置，气体喷淋头组件设置在等离子体处理装置的反应腔内，包括：背板，位于反应腔内的顶部；气体喷淋头，位于背板的下方；悬挂装置，悬挂装置的第一端连接背板，悬挂装置的第二端连接气体喷淋头；气体喷淋头...
    2025-12-17
  • 一种等离子喷涂自动旋转工装
    一种等离子喷涂自动旋转工装_力控装备(江苏)股份有限公司_202511334276.8
    本发明公开了一种等离子喷涂自动旋转工装，包括底座，底座的顶部一侧固定连接有固定座，底座的顶部远离固定座的一侧设置有第一移动座，等离子喷涂自动旋转工装还包括；管件固定组件，设置于固定座和第一移动座的顶部；动力单元，设置于固定座的顶部远离第一移...
    2025-12-17
  • 用于形成含钼薄膜的化合物、含钼薄膜及其制造方法
    用于形成含钼薄膜的化合物、含钼薄膜及其制造方法_EGTM有限公司_202510745558.0
    根据本发明的实施方案的用于形成含钼薄膜的化合物是由化学式1表示的化合物，其中，化学式1中，R1和R2各自独立地选自氢、碳原子数为1至6的直链烷基和碳原子数为3至6的支链烷基，R3选自碳原子数为1至6的直链烷基、碳原子数为3至6的支链烷基和碳...
    2025-12-17
  • 一种镀膜机靶位移动挡板装置
    一种镀膜机靶位移动挡板装置_西联机械技术(无锡)有限公司_202520208459.4
    本实用新型公开了一种镀膜机靶位移动挡板装置，涉及靶位挡板技术领域，包括挡板主体，所述挡板主体的底部设置有调节件一，所述调节件一用于对挡板主体横向移动的调节，所述调节件一的侧边安装有连接块；通过采用本镀膜机靶位移动挡板装置，可以实现对挡板主体...
    2025-12-17
  • 一种具有晶片防护机构的半导体镀膜设备
    一种具有晶片防护机构的半导体镀膜设备_南京国微纳半导体设备有限公司_202511273595.2
    本发明涉及晶片镀膜领域，且公开了一种具有晶片防护机构的半导体镀膜设备，包括柜体和设置在柜体内的放置机构，所述放置机构包括设置在柜体内部的放置组件，所述放置组件上方设置有防护盖板组件，所述防护盖板组件上方设置有连接组件，本发明通过氩气气幕系统...
    2025-12-17
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