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五金工具产品及配附件制造技术
  • 一种高平整度渗铝涂层及其制备方法
    一种高平整度渗铝涂层及其制备方法_中国石油天然气股份有限公司_202111681461.6
    本发明涉及一种高平整度渗铝涂层，其原料包括：10～15wt％的无机纤维素，1～3wt％的有机联结剂，15～25wt％的分散剂，17～25wt％的铝粉，0.5～0.8wt％的氯化铵，0.2～0.4wt％的氟化钠，25～44wt％的氧化铝粉。本...
    2025-09-05
  • 一种溅射镀膜生产用定位装置
    一种溅射镀膜生产用定位装置_苏州凯利昂光电科技有限公司_202422631872.X
    本实用新型提供了一种溅射镀膜生产用定位装置，包括：样品盘，所述样品盘上表面的开设置物槽，置物槽底部开设移动槽，移动槽内通过轴承活动连接主丝杆，且置物槽底部固定连接底板，底部表面相对移动槽的位置对应开设主滑槽，而移动板通过螺接的主丝杆滑动连接...
    2025-09-05
  • PECVD工艺腔室多晶圆沉积用的加热基座
    PECVD工艺腔室多晶圆沉积用的加热基座_大连皓宇电子科技有限公司_202422540521.8
    本实用新型公开了PECVD工艺腔室多晶圆沉积用的加热基座，涉及PECVD设备技术领域；包括：热盘顶壳，其上面与晶圆直接接触，底部开有容置槽；电阻加热结构，所述电阻加热结构包括一根加热管体盘绕而成的加热盘和引线管，在加热盘中内置有电阻丝，在引...
    2025-09-05
  • 一种铝蜂窝芯钝化装置及钝化方法
    一种铝蜂窝芯钝化装置及钝化方法_西安雅西复合材料有限公司_202510159926.3
    本发明公开了铝材钝化技术领域的一种铝蜂窝芯钝化装置及钝化方法，包括液剂出入通道、上钝化部、下钝化部和纯水进入通道，所述液剂出入通道作为抛光剂或者钝化剂的输送通道；上钝化部的内壁活动贯穿卡接有活动板，所述活动板将上钝化部内部分隔为第一腔室和第...
    2025-09-05
  • 供给装置、成膜装置及保持构件
    供给装置、成膜装置及保持构件_芝浦机械电子装置株式会社_202211593491.6
    本发明提供一种能够通过简易的机构使大量电子零件的一部分为了成膜而统一露出的供给装置、成膜装置及保持构件。实施方式的供给装置向对电子零件进行成膜的成膜装置的成膜处理部供给电子零件，其包括：掩模，具有覆盖电子零件的一部分的掩模孔，以使电子零件贯...
    2025-09-05
  • 一种真空镀膜用跨腔室送料装置
    一种真空镀膜用跨腔室送料装置_安徽纯源镀膜科技有限公司_202423245870.3
    本实用新型涉及一种真空镀膜用跨腔室送料装置，包括A腔室、B腔室、载具、转运装置和转运调节机构，A腔室和B腔室之间设置用于工件转送的转送通道，转送通道处设置有对转送通道的连通状态进行调整的启闭组件，A腔室内设置有用于支撑转运装置的A导送组件，...
    2025-09-05
  • 薄膜制备工艺
    薄膜制备工艺_华为技术有限公司_202410227295.X
    本公开提供了薄膜制备工艺，属于薄膜材料技术领域。该薄膜制备工艺包括：提供第一结构体，其包括目标材料层、分别结合至目标材料层的相对两个表面的两组金属层，金属层的热膨胀系数大于目标材料层的热膨胀系数。对第一结构体进行升温处理，使得目标材料层的内...
    2025-09-05
  • 一种双腔室溅射镀膜设备
    一种双腔室溅射镀膜设备_安徽纯源镀膜科技有限公司_202423245102.8
    本实用新型涉及一种双腔室溅射镀膜设备，包括机架，机架上设置有装载腔室、镀膜腔室，装载腔室和镀膜腔室之间设置有转运装置，镀膜腔室上设置有A加热装置、载台、清洗单元、镀膜单元，镀膜腔室还与A冷却单元、A抽真空单元、A气体单元相连接；装载腔室内设...
    2025-09-05
  • 一种增强铼条及其制备方法与应用
    一种增强铼条及其制备方法与应用_诸暨弘德新材料有限公司_202510713880.5
    本发明涉及高温金属防护技术领域，具体涉及一种增强铼条及其制备方法与应用。本发明提供了一种增强铼条，所述增强铼条包括铼条及负载在所述铼条表面的氧化锆掺杂三氧化二铈涂层；以所述氧化锆掺杂三氧化二铈涂层重量计，所述三氧化二铈的含量为1~5 wt%...
    2025-09-05
  • 一种真空镀膜机用工件载架及真空镀膜机
    一种真空镀膜机用工件载架及真空镀膜机_湘潭宏大真空技术股份有限公司_202511075387.1
    本发明公开了一种真空镀膜机用工件载架及真空镀膜机，工件载架包括公转轴和转动安装在公转轴上的公转架，公转架上安装有多根用于连接安装工件的自转轴，自转轴通过摆动机构以能摆动的方式安装在公转架上，各自转轴与公转轴之间设有在公转架转动时驱使自转轴同...
    2025-09-05
  • 一种门窗玻璃镀膜装置
    一种门窗玻璃镀膜装置_烟台笃创金属科技有限公司_202422447281.7
    本申请公开一种门窗玻璃镀膜装置，属于门窗玻璃加工技术领域，其包括传送箱，传送箱的顶部固定安装有磁控镀膜箱，传送箱的顶部位于磁控镀膜箱的一侧固定安装有真空镀膜箱，传送箱内部位于磁控镀膜箱的下方固定安装有电动滑轨，电动滑轨的滑动端滑动连接有电动...
    2025-09-05
  • 一种非晶硅膜的制备方法
    一种非晶硅膜的制备方法_东莞新科技术研究开发有限公司_202410220616.3
    本发明公开了一种非晶硅膜的制备方法，包括：将基体置于真空室内，并在所述真空室内的压力为10‑4Pa的条件下，对所述基体的表面进行清洗处理；对清洗后的基体进行加热处理，并向所述真空室内通入硅烷气体和稀薄气体；利用高频硅源...
    2025-09-05
  • DLC膜的柔化处理方法
    DLC膜的柔化处理方法_东莞新科技术研究开发有限公司_202410220278.3
    本发明公开了一种DLC膜的柔化处理方法，将待处理的DLC膜样品放入真空腔室内，将所述真空腔室进行抽真空，通过溅射系统将溅射气体注入所述真空腔室中，其中，溅射气体包括氩气，再将氦气注入所述真空腔室内，使得氦气分子透过DLC膜，影响其内部结构，...
    2025-09-05
  • 一种用于真空镀膜的快速夹持装置
    一种用于真空镀膜的快速夹持装置_四川省海创电气有限责任公司_202422043142.8
    本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域，尤其涉及一种用于真空镀膜的快速夹持装置。技术问题：现有的真空镀膜设备，通常采用基板放置工件材料在真空箱内，由于镀膜工件的种类不同，使得基板与工件之间的不匹配，导致的镀膜不均匀，影响镀膜质量的问题。技术方案...
    2025-09-05
  • 一种圆形焊带的镀锡装置及镀锡方法
    一种圆形焊带的镀锡装置及镀锡方法_西安泰力松新材料股份有限公司_202010704118.8
    本发明提供一种圆形焊带的镀锡装置，包括模具支架固定板和定径模具；模具支架固定板的下方设置锡液池，模具支架固定板上从上至下依次设置有模具支架和下压线轮，模具支架包含水平挡板，水平挡板的中部设置有第一通孔；下压线轮靠近模具支架一侧的竖向切线从第...
    2025-09-05
  • 一种真空磁控溅射薄膜镀制设备
    一种真空磁控溅射薄膜镀制设备_山东华擎导电新材料科技有限公司_202422656940.8
    本实用新型公开了一种真空磁控溅射薄膜镀制设备，涉及薄膜镀制技术领域。本实用新型包括箱体，所述箱体的正面转动连接有箱门，所述箱体的右侧开设有抽气孔，所述箱体的右侧固定连接有抽气管，所述抽气管与抽气孔呈连通设置，所述箱体的顶部固定连接有电机。本...
    2025-09-05
  • 一种电饭煲内胆加工的氧化装置
    一种电饭煲内胆加工的氧化装置_中山市协诚金属制品有限公司_202422664455.5
    本实用新型涉及电饭煲内胆技术领域，本实用新型公开了一种电饭煲内胆加工的氧化装置，包括氧化槽、支腿和氧化液。本实用新型通过设置氧化槽、支腿、氧化框、搅拌机构、加热机构、升降装置、控制器和排料管，首先将电饭煲内胆放置氧化框内，通过控制器打开加热...
    2025-09-05
  • 一种复合金属氧化物靶材及其制备方法和应用
    一种复合金属氧化物靶材及其制备方法和应用_中山大学_202510802287.8
    本发明提供了一种复合金属氧化物靶材及其制备方法和应用。所述的复合金属氧化物靶材，组分包括掺杂金属氧化物、氧化锡和氧化钛，该靶材在降低了成本的同时，保证了稳定性，能广泛适用于各种镀膜技术，提升产业效率，并且提升镀膜质量。本发明还提供了复合金属...
    2025-09-05
  • 一种燃烧室火焰筒大气等离子涂层喷涂工装及喷涂方法
    一种燃烧室火焰筒大气等离子涂层喷涂工装及喷涂方法_中国航发航空科技股份有限公司_202511003324.5
    本发明涉及航空发动机喷涂工装技术领域，提供一种燃烧室火焰筒大气等离子涂层喷涂工装，通过O型填充环封堵保护火焰筒的O型气膜环槽，在燃烧室火焰筒大气等离子涂层喷涂作业中，能够使气膜环槽间隙内无涂层和其他多余物，避免气膜环槽间隙尺寸超差；本发明的...
    2025-09-05
  • 一种磁控镀膜控制方法、装置、系统及存储介质
    一种磁控镀膜控制方法、装置、系统及存储介质_汕头市金平区金鸿塑胶有限公司_202510650641.X
    本发明公开了一种磁控镀膜控制方法、装置、系统及存储介质，属于磁控溅射镀膜技术领域。本发明通过获取溅射镀膜设备的基片的膜层厚度数据，并根据膜层厚度数据确定第一均匀偏差矩阵，第一均匀偏差矩阵的每个元素对应基片上的检测位置的匀性相对偏差值；根据第...
    2025-09-05
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