Document
拖动滑块完成拼图
首页 专利交易 IP管家助手 科技果 科技人才 科技服务 国际服务 商标交易 会员权益 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索
五金工具产品及配附件制造技术
  • 本实用新型公开了一种MPCVD设备用密封罩的观察窗结构,包括密封罩本体,所述密封罩本体的侧壁嵌设有至少一个观察窗基座;所述观察窗基座的顶端位于所述密封罩本体的外部,所述观察窗基座的顶端可拆卸安装有玻璃,所述观察窗基座的底端位于所述密封罩本体...
  • 本申请涉及钢筋生产制造的技术领域,尤其是涉及一种钢筋自动化喷涂装置,包括机架、进料组件、电弧喷涂组件、涂层喷涂组件以及烘干组件。机架上固定连接有限位板,进料组件包括进料输送辊和驱动件,进料输送辊转动连接在机架上,驱动件用于驱动进料输送辊转动...
  • 本发明公开了一种光伏焊带用风刀,涉及风刀技术领域,包括上壳体和下壳体,所述上壳体和下壳体同圆心处设置穿过焊带的模具孔,所述上壳体和下壳体连接后形成气体流通的腔体,所述上壳体和下壳体的模具孔处形成吹风口,腔体包括水平段、竖直段、斜向段,所述下...
  • 本发明涉及一种动态自适应蒸镀系统及蒸镀方法,蒸镀系统包括真空腔体、蒸发源与基片载板,真空腔体包括由下至上依次连通的蒸发区、过渡区与沉积区,蒸发区与过渡区之间设有第一隔板,第一隔板的中心通气并设有第一隔断装置,过渡区与沉积区之间设有第二隔板,...
  • 本实用新型公开了一种化学镀镍处理装置,包括槽口朝上的镀槽,镀槽内设有镀镍滚筒,镀镍滚筒包括呈前后对称布置的滚筒架,滚筒架之间固定连接有连杆,所述滚筒架之间转动连接有滚筒本体,滚筒本体上设有大齿轮,大齿轮的上方啮合有转动连接在所述滚筒架上的小...
  • 本发明属于金属材料热处理技术领域,具体涉及一种42CrMo齿圈的变温氮化工艺,包括,对齿圈进行预氧化,温度为300‑400℃,时间为1‑2h;对齿圈进行氮化处理处理:将齿圈升温至550‑580℃;强渗阶段,温度为550‑580℃,Kn值为3...
  • 本实用新型公开了一种加热设备,包括:灯泡、水冷灯罩和灯座,所述水冷灯罩和灯座可拆卸连接;所述灯座包括座板,所述座板上设有接线铜排,所述接线铜排包括一个零线铜排和至少一个火线铜排,所述座板上还设有与所述灯泡的插头相适配的插座,所述插座与零线铜...
  • 本发明涉及薄膜制备技术领域,尤其是一种基板上粘贴的胶带的揭取方法,在基板上设置胶带的起头部,所述胶带的粘贴范围至少覆盖所述起头部的一部分;自所述起头部对所述胶带进行揭起并将其从所述基板上逐步剥离,同时对剥离的所述胶带进行缠绕收集。本发明的优...
  • 本发明涉及双阶段喷丸‑MoS2复合强化柔轮及刚轮表面性能的方法,属于金属表面加工技术领域,包括以下步骤:S1、采用金属硬质微粒对中碳合金钢材质的柔轮和刚轮表面分别进行微粒喷丸处理;S2、分别对由步骤S1处理后的柔轮和刚...
  • 本实用新型公开了一种钻石反应腔的冷却结构,包括反应底座、生长台和环形玻璃;所述反应底座的顶部设有反应槽,所述反应槽的内底壁和所述生长台的底端之间分别设有环形槽,所述环形玻璃的上下两端分别嵌设于对应的所述环形槽内,所述环形玻璃与所述环形槽之间...
  • 本实用新型公开了一种钻石生长台的冷却结构,包括生长台,所述生长台的顶端可拆卸安装有钼环,所述钼环与所述生长台相互贴合,所述生长台的内部设有第一水冷腔和第二水冷腔,所述第一水冷腔和第二水冷腔通过若干通孔连通,所述第二水冷腔的内壁设有若干翅片板...
  • 本发明涉及一种提高铝合金模具CrN涂层沉积效率的激光冲击工艺,包括以下步骤:(1)、将原始模具钢线切割成样品;(2)、将样品进行热处理,抛光打磨后使用有机溶剂进行超声波清洗,烘干;(3)、将样品夹装到激光冲击强化试验平台上对表面进行激光冲击...
  • 本发明涉及真空沉积技术领域,特别是一种真空室连续供料机构及物理气相沉积装置,包括传输室,其内部具有腔体空间,腔体空间还具有可与真空室连通的第一开口,以及可与外部连通的第二开口;以及,输送组件,其用于携带物料沿设定的输送路径Pi
  • 本实用新型涉及气体喷淋设备技术领域,具体涉及一种适用于PECVD的气体喷淋头,为解决现有技术气体流速不均匀、制备效率低的问题。该气体喷淋头包括围管,管状结构;气体喷淋板,设置在所述围管的下端,其上设有若干出气孔,所述出气孔的纵向剖面为中间细...
  • 本实用新型涉及一种线性加热源坩埚及沉积装置,包括:坩埚本体和喷射组件,坩埚本体的横截面为扁平花生型;喷射组件包括喷板和两个隔板,两个隔板沿坩埚本体的轴向等距设置在坩埚本体内部,两个隔板将坩埚本体分隔成三个材料填充区;喷板设置在坩埚本体的顶部...
  • 本实用新型涉及刀具柔性钝化技术领域,公开了一种刀具柔性钝化装置,包括底板,所述底板上固定连接有支撑框架,所述支撑框架上固定安装有电动推杆,所述电动推杆的输出端固定连接有顶板,所述顶板的下部固定连接有滑杆,所述滑杆的下端固定连接有挡块,所述滑...
  • 本发明涉及化学气相沉积技术领域,特别是涉及一种半导体高纯碳化硅涂层用化学气相沉积装置及方法,包括一个沉积罐,沉积罐的顶部设有进气管,沉积罐的内部设有固定筒,固定筒的外侧设有固定栓,固定筒通过固定栓与进气管的底部连接,固定筒的内部设有用于将气...
  • 本实用新型公开了一种真空镀膜用载台,包括:载台,所述载台上方一端开设有移动槽,所述载台侧面固定设置有侧翼板,所述侧翼板上方固定设置有推动装置,所述推动装置侧面固定设置有伸缩推杆,所述伸缩推杆侧面固定设置有固定卡板控制器,所述固定卡板控制器侧...
  • 本申请涉及化学气相沉积工艺技术领域,具体提供气体输送装置以及化学气相沉积设备。该气体输送装置包括:运行管路、排气管路、导气管路、至少一个气体输送管路、第一流量控制器和第二流量控制器。通过导气管路可以将部分运载气体直接输送至反应腔,以降低其余...
  • 本发明提供了一种卷绕式处理设备,该设备包括放卷装置、收卷装置、处理装置和导向装置;放卷装置设有待处理的基材,放卷装置用于对基材进行放卷,基材经过导向装置至收卷装置,导向装置用于调整基材的运动方向;处理装置与第一段部的基材对应设置,导向装置与...
技术分类