Document
拖动滑块完成拼图
首页 专利交易 IP管家助手 科技果 科技人才 科技服务 国际服务 商标交易 会员权益 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索
五金工具产品及配附件制造技术
  • 本实用新型公开了一种新型离子注入功能的镀膜机,涉及镀膜机技术领域。本实用新型包括镀膜机主体,所述镀膜机主体左侧和右侧均固定连接有喷射座,所述喷射座远离镀膜机主体的一侧固定连接有进料管,所述喷射座上方设置有固定块,所述固定块顶部固定连接有电动...
  • 本实用新型提供了一种气相沉积设备及半导体加工系统,属于半导体制造技术领域,气相沉积设备包括基座、中心遮挡部、至少一遮蔽环和驱动结构,基座用于承载衬底,中心遮挡部设置于基座的上方,用于遮挡衬底的中部,遮蔽环用于嵌套于中心遮挡部的边缘,与中心遮...
  • 本发明提供了一种基于真空镀膜在线检测电机控厚装置包括位于外壳内部的驱动板和多个并排设置的控厚组件,所述控厚组件包括依次连接的直线电机、连杆、连接块和补正板,所述驱动板通过直线电机控制补正板接近或者远离离子膜发射柱,所述连杆穿过外壳的前面板,...
  • 本发明提供了一种喷淋板、一种半导体器件的加工设备以及一种半导体器件的加工方法。所述喷淋板包括:顶板,设于所述喷淋板的顶部,其中心区域设有第一进气口,用于获取反应气体;喷淋头,设于所述喷淋板的底部,配合所述顶板形成混气腔,并经由设于所述喷淋头...
  • 本发明涉及一种兼容于集成电路后道工艺的石墨烯薄膜的制备方法,其包括如下步骤:S1,提供厚度为10nm‑50nm的金属薄膜衬底,该金属薄膜衬底选自铜,钴,钌或镍薄膜衬底中的一种;S2,在活性碳原子浓度增强场中,350℃‑400℃下,通入碳源气...
  • 本实用新型公开了一种碳化硅基板定位装置,包括底座,所述底座的一侧设置有定位结构,底座的上端面安装有至少一个支撑座,支撑座上安装有定位座,定位座向底座上设置有定位结构的一侧伸出,定位座上设置有定位缺口。使用时,通过底座上的定位结构对碳化硅基板...
  • 本实用新型提供了一种可调控气流的镀膜装置,所述镀膜装置包括若干个泵组件、镀膜室和连接所述泵组件与镀膜室的连接件;所述连接件上设置有气流比例阀,所述气流比例阀用于控制气路的流量;所述气流比例阀包括阀体、阀芯和磁流体;所述阀体的上方设置有磁流体...
  • 本发明提供一种软硬相间耐磨强化层的制备方法,涉及表面处理领域,包括:步骤一、基体预处理;步骤二、稀土盐浴氮化处理:首先制备三氧化二铋纳米晶须、稀土β‑二酮配合物与双(三氟甲烷磺酰)亚胺三丁基甲基季鏻盐的分散胶体,依次加入氮源、碳酸钠、硫代硫...
  • 本发明公开了本发明优选实施例中公开了多弧及磁控复合溅射阴极,包括安装架、升降装置、阴极磁板和靶面板;所述升降装置包括安装板、联轴器、升降轴和升降头;所述安装板设置在所述安装架的底部;所述联轴器设置在所述安装板的底部;所述升降轴与所述联轴器传...
  • 本申请公开轧辊,所述轧辊包括形成于所述轧辊表面的钢铁材料表面氧化膜,其中所述钢铁材料表面氧化膜通过以下方法制成:在需要形成Fe3O4氧化膜的钢铁材料的表面涂覆活化液,以在钢铁材料的表面形成一层活化...
  • 本发明公开一种ALD镀膜系统及镀膜方法,涉及ALD镀膜技术领域。镀膜系统包括反应腔体、至少一个检测腔体、至少两个第一进料源、切换装置、第二进料源;将一个第一进料源仅与反应腔体导通,并与第二进料源交替进料,剩余的第一进料源仅与检测腔体导通,同...
  • 本发明提出一种Loadlock型超高真空蒸镀机,包括:真空度一致且隔离设置的过渡腔室10与工作腔室20;所述过渡腔室10内设置有水平伸缩机构30,所述水平伸缩机构30的输出端开拆卸连接承载晶圆的承载板60;所述工作腔室20的上部设置有升降装...
  • 本发明公开了一种提升炉鼻子加湿氮气均匀性装置及方法,包括设置于炉鼻子氮气入口处的导流罩,导流罩连接有多级进气管道。本发明通过在氮气入口上面加装导流罩来改变湿氮的运动轨迹,同时通过在导流罩上加装的多级湿氮进气管道可以改变湿氮气流运动轨迹,让锌...
  • 本发明涉及汽车饰件生产技术领域,且公开了一种汽车饰件的真空镀膜装置,包括箱体,所述箱体的内部安装有驱动组件,且驱动组件的一侧安装有翻转组件、间歇转动组件和挡板组件;所述驱动组件包括第一不完全齿轮,且第一不完全齿轮的上端设置有相啮合的第一齿轮...
  • 本发明创造提供了一种基于多弧离子镀的柱塞偶件加工处理方法,包括:对柱塞偶件进行前置热处理;对前置热处理后的柱塞偶件进行预处理;对预处理后的柱塞偶件进行第一阶段多弧离子镀处理,以使得柱塞偶件的表面沉积Mo底层;对柱塞偶件进行第二阶段多弧离子镀...
  • 本发明公开了片间腔体颗粒改善方法及计算机可读存储介质。所述片间腔体颗粒改善方法包括:晶圆完成一次薄膜沉积并被移出反应腔室之后到下一次所述晶圆进入所述反应腔室进行下一次薄膜沉积之前进行一次片间处理,所述片间处理用于改善腔体颗粒;重复上述步骤,...
  • 本实用新型公开了一种电力铁附件热浸镀锌装置,包括镀锌槽和固定机架,所述固定机架上转动连接有螺纹丝杆,所述固定机架一侧安装有驱动电机,所述驱动电机的输出端与螺纹丝杆一端固定连接,所述螺纹丝杆上螺纹连接有第一滑块和第二滑块,所述第一滑块底部安装...
  • 本申请涉及金刚石刀具技术领域,具体公开了一种用于加工叠层材料的金刚石涂层刀具及其制备方法。本申请提供的用于加工叠层材料的金刚石涂层刀具包括刀具基体和金刚石涂层;金刚石涂层的表面粗糙度为0.1‑0.3μm;金刚石涂层包括形核层、底层、过渡层和...
  • 本实用新型涉及CVD衬底托盘技术领域,且公开了一种CVD衬底托盘结构,加热环圈嵌合安装于安装底座与导热盘座之间,加热台座的下部与导热盘座对位嵌合,顶部挡片嵌合安装于安装托盘的上部,在安装托盘的上部设置有加热台座,加热台座与导热盘座均采用良性...
  • 本发明公开了一种金属万向轴用等离子喷涂防护装置及方法,包括:传送盒,传送盒的内部设置有传送机构,传送盒的两侧均开设有调节孔,传送盒的右侧开设有出料孔,出料孔的底部内壁上固定设置有导料盒,导料盒为倾斜设置且与传送机构相配合;两个万向轴固定调节...
技术分类