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五金工具产品及配附件制造技术
  • 用于形成含钼薄膜的化合物、含钼薄膜及其制造方法
    用于形成含钼薄膜的化合物、含钼薄膜及其制造方法_EGTM有限公司_202510745558.0
    根据本发明的实施方案的用于形成含钼薄膜的化合物是由化学式1表示的化合物，其中，化学式1中，R1和R2各自独立地选自氢、碳原子数为1至6的直链烷基和碳原子数为3至6的支链烷基，R3选自碳原子数为1至6的直链烷基、碳原子数为3至6的支链烷基和碳...
    2025-12-17
  • 一种蒸镀机自动化工艺控制方法及系统
    一种蒸镀机自动化工艺控制方法及系统_上海源拓真空技术有限公司_202511039121.1
    本发明公开了一种蒸镀机自动化工艺控制方法及系统，适用于多种材料和多工艺条件下的薄膜沉积过程。该系统包括工艺初始化模块、镀膜控制执行模块和后处理与数据反馈模块。工艺初始化模块用于完成蒸镀任务前的参数配置、环境准备与启动条件确认，确保系统具备进...
    2025-12-17
  • 一种化学气相沉积的加强穹顶及其制备方法
    一种化学气相沉积的加强穹顶及其制备方法_上海晶丰同创半导体技术有限公司_202511291084.3
    本发明涉及一种化学气相沉积的加强穹顶及其制备方法，具体涉及气相沉积技术领域，包括：穹顶本体，设置于所述穹顶本体上的至少3个加强筋；所述加强筋的分布方式包括：放射分布、同心圆分布或网状分布中的一种或至少两种的组合；所述加强筋的高度与宽度的比例...
    2025-12-17
  • 含金属材料的选择性沉积
    含金属材料的选择性沉积_ASMIP私人控股有限公司_202510750459.1
    本公开涉及用于相对于衬底的第二表面在衬底的导电表面上沉积含金属材料的选择性沉积方法。该方法包括提供包括导电表面和第二表面的衬底，使衬底与包含硅的抑制剂反应物接触以使第二表面钝化，并且使衬底与包含硅原子和羟基的活化剂反应物接触以活化导电表面。...
    2025-12-17
  • 沉积设备
    沉积设备_上海积塔半导体有限公司_202520125187.1
    本申请涉及一种沉积设备。沉积设备包括进气环、底壳和上盖，进气环包括进气环主体、多组进气嘴组和调节阀，进气环主体具有彼此独立的第一进气通道以及第二进气通道，多组进气嘴组沿进气环主体的周向间隔布设于进气环主体上；每一进气嘴组包括与第一进气通道相...
    2025-12-17
  • 一种航空发动机用耐高温热障涂层及其制备方法
    一种航空发动机用耐高温热障涂层及其制备方法_四川泛华航空仪表电器有限公司_202511426533.0
    本发明公开了一种航空发动机用耐高温热障涂层及其制备方法，采用耐高温热障材料制备耐高温热障涂层，所述耐高温热障材料的化学组成为(ZrO2)xAyBzCn，其中：A为Y、Mg、Ca、Sn、Be、V、Mn、Co、Ni、Nb的氧化物中的任意一种或多...
    2025-12-17
  • 一种AlTiMoVN多元自润滑涂层及制备方法和应用
    一种AlTiMoVN多元自润滑涂层及制备方法和应用_惠州学院_202511100834.4
    本申请公开了一种AlTiMoVN多元自润滑涂层及制备方法和应用，制备方法包括如下工艺步骤：S1，超声波清洗基体；S2，基体装载至样品架并放入镀膜腔室内，镀膜腔室设置温度为25至500℃，真空度设置为1.0*10‑3至1.0*10‑4Pa；S...
    2025-12-17
  • 高效稳定加热式固态前驱体源瓶
    高效稳定加热式固态前驱体源瓶_浙江陶特容器科技股份有限公司_202511634550.3
    本发明公开了高效稳定加热式固态前驱体源瓶，涉及半导体制造技术领域，包括腔体模块，腔体模块由左腔体和右腔体构成，且腔体模块内部配备排气模块，该排气模块可使输入的载气以覆盖式流动，从而均匀地与左腔体内部的固态前驱体接触，左腔体专门用于固态前驱体...
    2025-12-17
  • 一种脉冲加热原位合成致密耐高温涂层的方法
    一种脉冲加热原位合成致密耐高温涂层的方法_华中科技大学_202511342742.7
    本发明公开了一种脉冲加热原位合成致密耐高温涂层的方法，属于涂层材料技术领域。本发明通过前驱体与基体在极高温条件下快速原位反应构筑，金属基体与涂层间构成了一个具有化学键合特性的界面过渡区，从而获得了较高的结合强度和热膨胀率适配，有效缓解了因涂...
    2025-12-17
  • 一种用于航空零部件模具镀膜装置的工件旋转工装
    一种用于航空零部件模具镀膜装置的工件旋转工装_常州市蓝托金属制品有限公司_202520123810.X
    本实用新型涉及航空零部件模具镀膜技术领域，尤其涉及一种用于航空零部件模具镀膜装置的工件旋转工装，本实用新型结构设计合理，其主要由回转轴承、支撑环座、工件旋转托盘和翻转电机构成，工件旋转托盘包括托盘本体、齿圈、角形定位块、定位转轴和防脱端头，...
    2025-12-17
  • 蒸发装置以及气相沉积炉
    蒸发装置以及气相沉积炉_眉山博雅新材料股份有限公司_202423218464.8
    本说明书实施例提供了一种蒸发装置以及气相沉积炉，该蒸发装置包括：蒸发器，所述蒸发器具有容纳待转化的固态物料的容纳腔；加热组件，设置于蒸发器外，被配置为对蒸发器进行加热，以将固态物料转化为气态物料；输入管道，与容纳腔连通，被配置为向容纳腔输送...
    2025-12-17
  • 沉积源和电子装置
    沉积源和电子装置_三星显示有限公司_202510664051.2
    公开沉积源和电子装置。该沉积源可包括：外壳；喷嘴部件，设置在外壳上，并且包括第一喷嘴和与第一喷嘴相邻的第二喷嘴；第一储存器，设置在外壳中并且被配置以容纳第一沉积材料；第二储存器，设置在外壳中并且被配置以容纳第二沉积材料；以及盖，设置在外壳与...
    2025-12-17
  • 一种节能型真空镀膜固定装置
    一种节能型真空镀膜固定装置_南通德上汽车零配件制造有限公司_202520219056.X
    本实用新型涉及真空镀膜加工技术领域，具体为一种节能型真空镀膜固定装置，包括真空热蒸机构，设置在真空热蒸机构内的钨丝以及设置在真空热蒸机构内的多组调角承印机构，所述真空热蒸机构包括均布的多个承压外壳，所述调角承印机构包括三个丝杆，设置在相邻两...
    2025-12-17
  • 具有氧化镓层的基板及其制造方法
    具有氧化镓层的基板及其制造方法_株式会社奈瑟斯比_202510222018.4
    本发明涉及一种包括氧化镓层的基板制造方法。根据本发明的实施例的基板制造方法，在包括利用包含气体供应组件及液体供应组件中的至少一个的沉积装置的氧化镓层的基板制造方法中，其特征在于，包括：基板准备步骤，将源基板布置在腔室单元的内部；缓冲层生成步...
    2025-12-17
  • 一种带预燃室的自预热低NOx循环流化床锅炉及其燃烧方法
    一种带预燃室的自预热低NOx循环流化床锅炉及其燃烧方法_苏晋朔州煤矸石发电有限公司_202511309528.1
    本发明公开了一种带预燃室的自预热低NOx循环流化床锅炉及其燃烧方法，属于燃烧锅炉技术领域，锅炉包括一次风室、炉膛、旋风分离器、回料阀及预热燃烧室；预热燃烧室通过循环灰入口引入高温循环灰，落煤口输入煤颗粒，经环形旋流布风盘形成旋流热一次风，结...
    2025-12-17
  • 具有用于优化涂覆工艺的临时双层腐蚀保护层的钢板
    具有用于优化涂覆工艺的临时双层腐蚀保护层的钢板_蒂森克虏伯钢铁欧洲股份公司_202480026906.2
    本发明涉及一种经平整轧制的钢板，其包括钢基板和布置在所述钢基板的一侧或两侧上并且由锌或铝合金组成的金属涂层，其特征在于，所述金属涂层包括双层临时腐蚀保护层，所述双层临时腐蚀保护层包括作为第一层的含有有机硅化合物的中间层和布置在所述第一层上的...
    2025-12-17
  • 一种发酵奶酪及其制备方法
    一种发酵奶酪及其制备方法_新疆天润生物科技股份有限公司_202511394858.5
    本发明公开了一种发酵奶酪及其制备方法，涉及发酵乳制品技术领域。以生牛乳为主要原料，添加酶改性酪蛋白、复配稳定剂、发酵黄油、微胶囊化益生菌粉、益生元纤维组分及发酵风味增强剂等组分，通过优化预处理、均质、发酵、混合及烘干等工艺制备而成。本发明有...
    2025-12-17
  • 一种模具表面加工工艺
    一种模具表面加工工艺_山东朝日不锈钢有限公司_202511300953.4
    本发明涉及金属表面强化技术领域，尤其涉及一种模具表面加工工艺，包括：步骤1：基于曲率识别的差异化预处理；步骤2：梯度组分动态等离子喷涂，同步输送金属粘结相粉末和陶瓷增强相粉末，在近基体区间使金属相送粉速率递增而陶瓷相从零递增，在远离基体区间...
    2025-12-17
  • 涡轮叶片气相沉积涂层修复再制造的工艺方法
    涡轮叶片气相沉积涂层修复再制造的工艺方法_中国航发航空科技股份有限公司_202310575025.3
    本发明的涡轮叶片气相沉积涂层修复再制造的工艺方法，包括确定涡轮叶片的待修复区域和非修复区域，非修复区域设置遮蔽保护层；酸洗涡轮叶片以去除涂层，碱液中和酸洗后的涡轮叶片；去除所述遮蔽保护层，并进行清洗；回火着色工艺处理，并在回火着色工艺处理后...
    2025-12-17
  • 一种石墨基座表面沉积碳化硅涂层的方法及半导体外延基座
    一种石墨基座表面沉积碳化硅涂层的方法及半导体外延基座_湖南德智新材料股份有限公司_202511256016.3
    本发明涉及的技术领域，提供了一种石墨基座表面沉积碳化硅涂层的方法及半导体外延基座，该方法包括：对石墨基座进行预处理，放置于化学气相沉积室内；对化学气相沉积室抽真空，随后用惰性气体清洗化学气相沉积室；采用化学气相沉积工艺在石墨基座表面沉积一层...
    2025-12-17
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