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五金工具产品及配附件制造技术
  • 本实用新型公开了一种均匀镀膜的真空镀膜机,旨在解决镀膜机悬挂高度难以调整,适用范围不佳的问题。其技术方案要点是:包括镀膜基箱,镀膜基箱的外表面配置安装有送料门,送料门通过铰链与真空镀膜基箱相连接,镀膜基箱的内壁上转动连接有旋转主轴,旋转主轴...
  • 本实用新型公开了一种射频结构,包括:固定法兰、匹配器以及对中连接结构,固定法兰通过对中连接结构与匹配器连接。通过实施本实用新型的结构可实现有效降低射频反射功率,提升设备的工作效率与稳定性。
  • 本申请涉及金属表面处理技术领域,提高了一种用于球墨铸铁表面可控预氧化装置,包括工作台、安装于工作台的加热腔室、氧化腔室和夹持机构,夹持机构用于将加热腔室内的球墨铸铁转移到氧化腔室;氧化腔室开设有通孔,氧化腔室设置有用于关闭通孔的挡板组件,挡...
  • 本发明涉及金属表面处理技术领域,具体涉及一种钛合金表面强塑耐磨防护涂层的制备方法及其系统。所述制备方法将冷喷涂工艺和电磁感应加热工艺结合,待喷涂粉末通过高速气体混合而形成固体高速粒子,固体高速粒子再通过电磁感应无接触加热形成高速高温粒子;再...
  • 本实用新型涉及磁控溅射设备技术领域,具体涉及一种用于磁控溅射设备提高靶材利用率的阴极布气装置,通过真空腔室的底部设有支撑结构,支撑结构的顶端由下至上依次贴设有下布气板、密封垫、上布气板和防护板,下布气板、上布气板位于其宽度方向上的一侧设有气...
  • 本实用新型揭示了一种原子沉积设备的匀流装置,包括尾气管主体,所述尾气管主体一端具有干路管道,且所述尾气管主体另一端间距设置有多个支路管道,每个所述支路管道端部具安装有限流板,所述限流板端面具有限流口,以所述干路管道为界,远离所述干路管道的限...
  • 本发明涉及激光熔覆技术领域,公开一种基于熔池粉末岛的激光熔覆层成形质量调控方法和系统,包括:根据激光熔覆过程中各个工艺参数的取值范围,基于中心复合设计构建多组不同的工艺参数取值组合;获取每组工艺参数取值组合下的激光熔覆过程中的熔池图像,提取...
  • 本实用新型公开了一种自带等离子清洗装置的真空涂层设备,属于真空涂层技术领域,其包括:反应炉,反应炉的内部固定安装有隔板,隔板内部固定安装有多个高压喷头,反应炉的外侧固定安装有固定环,固定环的顶部固定安装有多个电动推杆,多个电动推杆的输出端固...
  • 本实用新型提供一种用于PVD主机与晶圆装载接口的连接支架,包括左支架组件和右支架组件;左支架组件和右支架组件对称设置于PVD主机的主机架的两端连接主机架,左支架组件包括左主连接支架、左接口支架和连接板;右支架组件包括右主连接支架、右接口支架...
  • 本实用新型提供一种可调式激光熔覆喷头,涉及激光熔覆技术领域,包括固定壳,所述固定壳的底部固定安装有外壳。本实用新型在使用中,通过在一系列组件的相互作用下,当需要对工件进行激光熔覆修复,通过激光发射装置发生激光光束,并作用到工件表面,同时粉末...
  • 本实用新型涉及蒸镀设备领域,尤其是从上向下蒸镀的蒸发加热器。该蒸发加热器包括坩埚、坩埚盖、真空腔体、蒸汽喷嘴、加料仓、加热机构,所述坩埚顶部安装有坩埚盖,坩埚底部固定在用于放置玻璃基板的真空腔体上,坩埚底部设有蒸汽喷嘴,蒸汽喷嘴朝向真空腔体...
  • 本实用新型公开了一种用于勺状工件真空镀膜的挂具及旋转挂具组,属于辅助镀膜技术领域。挂具包括:悬臂;支撑弧条,连接在悬臂端部,支撑弧条弯曲形成半环状,半环状所在的平面与悬臂相平行,支撑弧条的中部相对两端位置弯折设置,勺状工件可承托在支撑弧条。...
  • 涉及一种磁控管靶联接器和支承设备。根据各种实施方式,磁控管靶联接器(301)包括:靶联接器法兰(702);轴(808),该轴在端侧与靶联接器法兰(702)刚性联接,并且在与靶联接器法兰(702)相对置的一侧上具有第一线性支承件部件(8081...
  • 本实用新型提供一种散热设备及化学气相沉积设备,其包括陶瓷腔体和散热管,所述陶瓷腔体包括上表面和侧壁,所述侧壁外表面设置有凹槽;所述散热管设置于所述凹槽内。通过将散热管设置于陶瓷腔体的侧壁的凹槽内,增加了散热管与陶瓷腔体的接触面积,显著提高了...
  • 本发明提供一种粉末等离子喷涂装置,属于喷涂装置技术领域,包含耐火室,耐火室一边预留着观察窗,观察窗中固连着可视玻璃,观察窗处安设着去污模块,去污模块的正下方安设着收集箱,耐火室内安设着移动模组,移动模组上安设着等离子喷涂模块。本发明解决了现...
  • 本发明涉及借助易拆卸纱网修复金属部件贯穿孔的方法,包括对金属部件贯穿孔周围进行打磨处理和表面处理步骤,用耐高温胶带将柔性致密纱网固定在金属部件贯穿孔一侧的金属表面,作为下一步修复粉末的有效沉积基体步骤;以气体入口温度为400‑550 ℃、气...
  • 本实用新型公开了一种晶圆支撑结构及半导体加工设备,涉及半导体加工设备技术领域。晶圆支撑结构包括支撑盘,支撑盘上形成有凹槽,凹槽为圆形槽,凹槽的内径大于晶圆的直径,凹槽内形成有支撑部,支撑部位于凹槽的底壁上,支撑部用于支撑晶圆,支撑部与凹槽的...
  • 本实用新型公开了一种镀膜设备及其辅助加热管,所述辅助加热管包括管状外壳、设于所述管状外壳内的第一加热体、第二加热体、限位结构和轴向设置的左右旋丝杠;所述第一加热体和所述第二加热体均设有内螺纹套;所述第一加热体的内螺纹套与所述左右旋丝杠的右旋...
  • 本发明公开了滑动轴承自由曲面巴氏合金激光熔覆系统及其控制方法,激光熔覆系统包括机械臂、激光熔覆设备、并联平台、飞秒激光微加工模块、熔池监控摄像头、轮廓扫描设备和X射线缺陷检测仪。本发明通过机械臂与并联平台协同,使激光熔覆设备维持最优偏角,避...
  • 本实用新型涉及供气盘领域,具体是一种高纯气体供气盘,包括盘体,所述盘体上安装有压力表、减压阀、单向阀和低压膜片阀,低压膜片阀的一侧与减压阀的一侧相连,减压阀的另一侧与单向阀的一侧相连,盘体上还安装有压力传感器和气动膜片阀,气动膜片阀位于减压...
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