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五金工具产品及配附件制造技术
  • 一种航空基片材料复合涂层薄膜制备设备
    一种航空基片材料复合涂层薄膜制备设备_南阳理工学院_202510671883.7
    本发明公开了一种航空基片材料复合涂层薄膜制备设备，主要包括底架、滑动基座和薄膜管组件。底架固定安装主滑轨和带驱动齿条的齿条杆，滑动基座装配有主动齿轮与从动齿轮联动系统。当滑动基座移动时，主动齿轮与驱动齿条啮合带动从动齿轮转动，通过棘爪齿条驱...
    2025-09-11
  • 一种板材边部镀层厚度控制装置及方法
    一种板材边部镀层厚度控制装置及方法_江苏省沙钢钢铁研究院有限公司_202311167161.5
    本发明提供的一种板材边部镀层厚度控制装置及方法，控制装置包括支撑件、至少两个加热组件以及测温组件，支撑件上成型有适于板材穿过的通槽；两个加热组件均与所述支撑件连接，且两个所述加热组件分设在所述板材两侧；测温组件与所述支撑件连接，所述测温组件...
    2025-09-11
  • 一种独立式连续工艺系统
    一种独立式连续工艺系统_友威科技股份有限公司_202210023351.9
    本发明提供一种独立式连续工艺系统，用于对待工艺物件进行电浆处理，该系统依序设置有预处理机台、第一独立工艺机台及终端独立工艺机台。第一独立工艺机台具有工艺腔体及两个阀门，两个阀门分别设于工艺腔体的两侧，工艺腔体依序设置有相互连通的第一真空抽气...
    2025-09-11
  • 一种第VIB族金属前驱体的合成方法
    一种第VIB族金属前驱体的合成方法_合肥安德科铭半导体科技有限公司_202511076709.4
    本发明属于过渡族金属有机物合成技术领域，具体公开了一种第VIB族金属前驱体的合成方法，所述方法包括：使用金属原料MO2X2和含[R1N=C]结构的化合物反应制备中间体(R
    2025-09-11
  • 一种金属涂层等离子喷涂设备
    一种金属涂层等离子喷涂设备_山东鸿星新材料科技股份有限公司_202510837739.6
    一种金属涂层等离子喷涂设备，具体涉及等离子喷涂技术领域，包括工作台、放置盘、瓶体，所述放置盘旋转安装在工作台的顶部，所述工作台的顶部一侧固定连接有支架，且支架的顶部固定安装有电动推杆，方案包括采用压杆与活塞的负压吸附机构替代传统撑结构，配合...
    2025-09-11
  • 一种喷淋装置及薄膜沉积设备
    一种喷淋装置及薄膜沉积设备_上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司_202410216050.7
    本发明公开了一种喷淋装置及薄膜沉积设备，包括：本体，所述本体上设有喷淋面，所述喷淋面上划分有多个喷淋区域，每个所述喷淋区域上分布有多个喷嘴；控制模块，包括第一控制单元，所述第一控制单元用于对每个所述喷淋区域上的所述喷淋面的局部相对高度进行独...
    2025-09-11
  • 一种用于海洋大气环境的复合涂层及其制备方法
    一种用于海洋大气环境的复合涂层及其制备方法_北京机科国创轻量化科学研究院有限公司_202510516973.9
    本发明涉及一种用于海洋大气环境的微弧氧化复合涂层及其制备方法，属于金属材料表面处理技术领域。制备方法包括处理基材，所述基材为镁合金；将处理后的基材置于电解液中进行微弧氧化处理；最后在微弧氧化处理后的基材上进行磁控溅射；基材上制得复合涂层，依...
    2025-09-11
  • 一种适用于脉冲激光沉积系统的激光入射窗口防污染方法
    一种适用于脉冲激光沉积系统的激光入射窗口防污染方法_中国科学院电工研究所_202510944321.5
    本发明公开了一种适用于脉冲激光沉积系统的激光入射窗口防污染方法，属于脉冲激光沉积技术领域。该方法通过延长激光入射窗口与靶材的距离至800‑1200 mm，采用匹配的长焦距聚焦透镜保持激光聚焦能力，并通过金属延长管密封连接真空腔体。延长管内表...
    2025-09-11
  • 一种改善舟片碎耳的隔块
    一种改善舟片碎耳的隔块_南京仁厚科技有限公司_202422377942.3
    本实用新型涉及PECVD镀膜技术领域，具体为一种改善舟片碎耳的隔块，包括双头螺杆，所述双头螺杆两侧固定安装有固定螺母，所述双头螺杆外侧活动安装有分隔筒，所述双头螺杆外侧设置有片体机构，所述片体机构包括第一舟片和第二舟片，所述第一舟片前后两端...
    2025-09-11
  • 一种高精度智能芯片膜的物理气相沉积装置
    一种高精度智能芯片膜的物理气相沉积装置_威海和祥泰数码科技有限公司_202510799788.5
    本发明涉及芯片加工技术领域，公开了一种高精度智能芯片膜的物理气相沉积装置，通过清洗机构和烘干组件的设置，在清洗芯片时，能够将多个芯片分别放置到若干载物框内，并在提升杆的驱动下进入到清洗桶中，同时清洗多个芯片，从而提高了芯片的加工效率，且在清...
    2025-09-11
  • 控制脉冲直流PVD形成的材料层中应力变化的方法及设备
    控制脉冲直流PVD形成的材料层中应力变化的方法及设备_SPTS科技有限公司_202511041054.7
    本发明公开了一种控制脉冲直流物理气相沉积(PVD)形成的材料层中应力变化的方法及设备。该方法包以下步骤：设置一腔室，其包括形成材料层的靶和在其上能够形成材料层的衬底；以及向腔室内引入气体。该方法还包括在腔室内生成等离子体并且将第一磁场施加到...
    2025-09-11
  • 一种导热性能良好的高温磨损防护涂层、制备方法及其应用
    一种导热性能良好的高温磨损防护涂层、制备方法及其应用_安徽工业大学_202510745785.3
    本发明涉及涂层制备技术领域，具体涉及一种导热性能良好的高温磨损防护涂层、制备方法及其应用，Ti2AlC粉末经过造粒烧结筛分制备获得，涂层原料为Ti2AlC粉和金属相NiCrAlY粉，Ti...
    2025-09-11
  • 一种装载装置及真空处理设备
    一种装载装置及真空处理设备_光驰科技(上海)有限公司_202422791947.0
    本实用新型涉及真空处理技术领域，具体公开了一种装载装置及真空处理设备，该装载装置包括支撑架、装载组件、连动组件和传动机构；装载组件设置有若干个，若干个装载组件相互平行且沿第一方向倾斜间隔设置，任意相邻两个装载组件之间通过连动组件连动连接；传...
    2025-09-11
  • MPCVD装置及其应用
    MPCVD装置及其应用_贵阳学院_202311033360.7
    本发明提供了一种MPCVD装置及其应用，涉及微波等离子体的技术领域，包括同轴线、放大同轴线、第一渐变阻抗匹配器、第二渐变阻抗匹配器、等离子体反应室、基台，以及悬放于内部的同轴内导体；放大同轴线使同轴线中的TEM模式转换到放大同轴线中形成稳定...
    2025-09-11
  • 一种超声波原位辅助激光熔覆装置及使用方法
    一种超声波原位辅助激光熔覆装置及使用方法_中国矿业大学_202510744466.0
    本发明公开了一种超声波原位辅助激光熔覆装置及使用方法，包括激光头和电子计算机，电子计算机控制有激光熔覆制造模块和超声波模块。本发明通过同轴夹具刚性连接激光头、超声振动装置及送丝喷口，实现送粉/填丝熔覆模式的无缝切换，解决了现有技术中钨丝独立...
    2025-09-11
  • 一种用于低温管道绝缘装置
    一种用于低温管道绝缘装置_上海悍登制冷设备有限公司_202421721201.6
    本实用新型涉及真空镀膜管道技术领域，公开了一种用于低温管道绝缘装置，包括安装组件，安装组件上可拆卸连接有活动密封组件和固定密封组件，活动密封组件和固定密封组件均连通有绝缘管道；绝缘管道包括不锈钢内管、陶瓷层和橡胶层，陶瓷层设置在不锈钢内管的...
    2025-09-11
  • 一种基于联动角度调整机制的激光入射角度调节装置
    一种基于联动角度调整机制的激光入射角度调节装置_中国科学院电工研究所_202510944038.2
    本发明提供一种基于联动角度调整机制的激光入射角度调节装置，属于激光技术领域，在激光光路中，分别对聚焦透镜和最后一级反射镜设置可变角度安装装置，将聚焦透镜的旋转角度设定为反射镜旋转角度的两倍，当聚焦透镜与反射镜角度按照上述比例联动时，激光最终...
    2025-09-11
  • 一种大气等离子喷涂陶瓷涂层、制备方法及其应用
    一种大气等离子喷涂陶瓷涂层、制备方法及其应用_西安交通大学_202510881537.1
    本发明提供的一种大气等离子喷涂陶瓷涂层、制备方法及其应用，通过在大气氛围下，采用等离子焰流对金属合金基体表面预热后，形成预热表面；以六钛酸钠为原料，采用破碎烧结或造粒烧结方式将原料制备成目标粉末；将目标粉末于等离子喷涂焰流中加热熔化，形成熔...
    2025-09-11
  • 一种真空镀膜机的柱弧靶装置
    一种真空镀膜机的柱弧靶装置_肇庆祥钰真空科技有限公司_202422160806.9
    本实用新型公开了一种真空镀膜机的柱弧靶装置，包括接电机构、磁芯机构和第一电机，接电机构包括上接电组件和下接电组件，上接电组件和下接电组件交替向管靶供电；磁芯机构包括靶芯组件、磁铁组件，靶芯组件的外圆面具有第一安装槽、第二安装槽，磁铁组件包括...
    2025-09-11
  • 一种用于提高等离子体涂层中靶材的使用效率的设备
    一种用于提高等离子体涂层中靶材的使用效率的设备_广州巴达精密刀具有限公司_202510770690.7
    本发明属于材料镀膜技术领域，公开了一种用于提高等离子体涂层中靶材的使用效率的设备，包括：涂层炉，作为设备整体的支撑结构：阴极体，与所述涂层炉相连；冷却结构，连接于所述涂层炉；放置箱，固定于所述涂层炉；铜板，连接于所述放置箱；靶材，通过所述铜...
    2025-09-11
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