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五金工具产品及配附件制造技术
  • 一种用于复合铜箔膜的水电镀方法及设备
    一种用于复合铜箔膜的水电镀方法及设备_江苏双星彩塑新材料股份有限公司_202211112763.6
    本发明公开了一种用于复合铜箔膜的水电镀方法及设备，所述水电镀设备包括铜电镀槽和保护电镀槽，形成有金属铜溅射层的聚酯薄膜输入铜电镀槽并形成金属铜电镀层；形成金属铜电镀层的聚脂薄膜从铜电镀槽输入保护电镀槽并形成保护层。本申请通过将形成有金属铜溅...
    2025-09-10
  • 真空镀膜设备及其镀膜控制方法
    真空镀膜设备及其镀膜控制方法_佛山市博顿光电科技有限公司_202311873456.4
    本申请涉及一种真空镀膜设备及其镀膜控制方法，所述设备包括：真空腔室，内置有连接控制系统的产品转盘、溅射系统以及离子源；光谱检测装置，连接至控制系统，用于在镀膜过程中检测镀膜产品的光谱能量数据并上报至控制系统；控制系统，用于控制产品转盘、溅射...
    2025-09-10
  • 一种螺栓螺杆混合生产线
    一种螺栓螺杆混合生产线_徐州瑞马智能技术股份有限公司_202510715468.7
    本发明及一种螺栓螺杆混合生产线，属于螺栓螺杆镀锌技术领域，包括用于对螺杆工件进行镀锌的螺杆生产线和用于对螺栓工件进行镀锌的螺栓生产线；所述螺栓生产线和螺杆生产线公有用于对螺栓螺杆工件进行预处理的前处理设备和对螺栓螺杆工件进行镀锌的镀锌设备；...
    2025-09-10
  • 一种用于金银合金或纯银凸块上化镀镍金的防腐工艺
    一种用于金银合金或纯银凸块上化镀镍金的防腐工艺_江苏晶度半导体科技有限公司_202510716983.7
    本发明公开了一种用于金银合金或纯银凸块上化镀镍金的防腐工艺，其特征在于，包括如下步骤：在基板表面形成金属凸块结构；对所述金属凸块结构进行图形化处理，以形成目标图形的金属凸块；对所述金属凸块进行预处理，所述预处理包括酸洗、微刻蚀、稀硝酸清洗和...
    2025-09-10
  • 一种带钢镀锌槽
    一种带钢镀锌槽_富民中博新型材料有限公司_202422679056.6
    本实用新型涉及一种带钢镀锌槽，属于带钢加工技术领域，包括镀锌槽主体，所述镀锌槽主体一侧顶部设有放卷辊，所述镀锌槽主体另一侧固定安装有托架，所述托架上放置有收卷辊，所述镀锌槽主体顶部靠近收卷辊的一端设有辅助轮，所述镀锌槽内部顶端设有安装架，所...
    2025-09-10
  • 一种节能型稀土合金热浸镀锌装置
    一种节能型稀土合金热浸镀锌装置_山东承泽金属科技有限公司_202311450852.6
    本发明公开了一种节能型稀土合金热浸镀锌装置，包括将待镀件吊入镀液中的吊装机构，所述吊装机构输出端设有架体，所述架体上设有驱动件以及在架体上呈线性排布的多个板体，每个板体通过一组吊绳吊装一待镀件，所述驱动件驱动其中一所述板体移动，相邻的两个所...
    2025-09-10
  • 一种镀锌工艺用锌液漂浮物聚集非接触处理装置
    一种镀锌工艺用锌液漂浮物聚集非接触处理装置_北京安腾达自动化技术有限公司_202422451966.9
    本实用新型公开了一种镀锌工艺用锌液漂浮物聚集非接触处理装置，包括锌锅，所述锌锅的顶部两端均设置有混凝土基座，所述混凝土基座的顶部一侧固定安装有第一悬挂架，且混凝土基座的顶部另一侧固定安装有第二悬挂架，所述第一悬挂架和第二悬挂架之间焊接有第三...
    2025-09-10
  • 一种用于镍磷合金镀层的水性保护剂及制备方法和应用
    一种用于镍磷合金镀层的水性保护剂及制备方法和应用_中国机械总院集团武汉材料保护研究所有限公司_202311270656.0
    本发明公开一种用于镍磷合金镀层的水性保护剂及制备方法和应用，该水性保护剂包括质量份数如下的组分：50～150份酰胺，30～100份的液体松香衍生物，10～100份的葵二酸酯，5～50份有机磷酸酯，5～50份的有机硼酸酯，1～20份的非离子表...
    2025-09-10
  • 溅射镀膜设备
    溅射镀膜设备_陛通半导体设备(苏州)有限公司_202510804229.9
    本发明提供一种溅射镀膜设备，所述溅射镀膜设备包括溅射腔体、位于溅射腔体上部的溅射组件、位于溅射腔体内的载台及遮挡组件；所述遮挡组件包括挡板及遮挡环，所述挡板自溅射组件外围向下延伸到载台周向外围，所述挡板内设置有冷却通道，且所述挡板和遮挡环上...
    2025-09-10
  • 具有双盖封闭系统的单腔室原子层沉积设备
    具有双盖封闭系统的单腔室原子层沉积设备_瑞士集群股份公司_202280102928.3
    本发明尤其针对一种原子层沉积(ALD)设备(1)，包括：整体基座(2)，具有带有凸缘边沿(22、23)的本体(21)；及双盖系统(3)，包括第一盖件(31)及第二盖件(32)，第二盖件相对于第一盖件至少部分地凹陷，以在其之间限定中间空间(3...
    2025-09-10
  • 多腔管式ALD工艺炉和硅片镀膜方法
    多腔管式ALD工艺炉和硅片镀膜方法_大连连城数控机器股份有限公司_202510671582.4
    本发明涉及硅片工艺炉的技术领域，尤其涉及一种多腔管式ALD工艺炉和硅片镀膜方法，适于为被金属舟承载的硅片进行镀膜，包括机架、腔体装置、上下料装置和抓取装置；腔体装置沿Y轴方向分布多列，并沿Z轴方向分布多层，其有益效果是腔体装置在Y轴方向上排...
    2025-09-10
  • 一种分流式CVD沉积室
    一种分流式CVD沉积室_苏州耀德半导体有限公司_202311226287.5
    本发明公开了一种分流式CVD沉积室，涉及CVD沉积室技术领域，包括沉积筒，沉积筒内壁的固定连接有三组固定块，三组固定块上均固定连接有放置架。本发明通过转动单元、吹气单元的设置，驱动电机转动带动驱动轴转动带动三个固定齿轮进行转动，三个固定齿轮...
    2025-09-10
  • 一种APCVD沉积过程颗粒物控制系统及其方法
    一种APCVD沉积过程颗粒物控制系统及其方法_北京东能良晶科技有限公司_202411903052.X
    本发明公开了一种APCVD沉积过程颗粒物控制系统，属于常压化学沉积技术领域，包括调控喷气头，所述调控喷气头的内部通过轴承安装有多个转轴，且转轴的一端延伸至调控喷气头的外侧，每个所述转轴位于调控喷气头外侧的一端均固定连接有传动齿轮，所述转轴的...
    2025-09-10
  • 一种具有优异摩擦学性能的高sp2碳含量非晶碳复合薄膜及其制备方法
    一种具有优异摩擦学性能的高sp<Sup>2</Sup>碳含量非晶碳复合薄膜及其制备方法_兰州交通大学_202510876396.4
    本发明公开了一种具有优异摩擦学性能的高sp 2碳含量非晶碳复合薄膜及其制备方法，本发明采用中频反应磁控沉积的制备技术，以氩气和含碳气体为反应气源，利用两个孪生金属催化溅射靶材通过原位自形成高含量s...
    2025-09-10
  • 提高制备硬质涂层后金属部件疲劳寿命的方法及表层结构
    提高制备硬质涂层后金属部件疲劳寿命的方法及表层结构_北京航空航天大学_202310234782.4
    一种提高制备硬质涂层后金属部件疲劳寿命的方法以及一种用于提高金属部件疲劳寿命的金属部件表层结构，方法包含以下步骤：(1)在制备硬质涂层前，应用强化技术对金属部件基体进行强化处理，使所述金属部件的表面形成应力状态为压应力的压应力强化层；(2)...
    2025-09-10
  • 一种摆臂式配重自装卸机构
    一种摆臂式配重自装卸机构_湖南维纳智能装备有限公司_202422220872.0
    本实用新型适用于工程机械技术领域，提供了一种摆臂式配重自装卸机构，包括；履带底盘；配重提升摆臂，所述配重提升摆臂设置在履带底盘的后方，且与履带底盘铰接；摆臂油缸，所述摆臂油缸设置在履带底盘后方的顶部，且与配重提升摆臂铰接；活动配重，所述活动...
    2025-09-10
  • 一种有限空间内可移动式多自由度起重机
    一种有限空间内可移动式多自由度起重机_天津航天瑞莱科技有限公司_202422161688.3
    本实用新型公开一种有限空间内可移动式多自由度起重机，包括上下依次连接的悬臂、立柱和底座，所述悬臂包括转接臂和转接臂内活动卡接的延伸臂，所述转接臂包括转接头和固定臂，所述立柱包括由上至下依次活动卡接的上立柱、中立柱和下立柱，所述上立柱包括接头...
    2025-09-10
  • 一种具有防油污的超黑膜结构
    一种具有防油污的超黑膜结构_深圳市原速光电科技有限公司_202510786091.4
    本发明属于光学镀膜技术领域，尤其涉及一种具有防油污的超黑膜结构，包括基材、采用ALD沉积在所述基材表面的结合层、采用ALD沉积在所述结合层表面的吸光层和采用ALD沉积在所述吸光层表面的防油污层，所述防油污层为含氟化合物、疏水SiO...
    2025-09-10
  • 一种柔性导热材料的制备方法及柔性导热材料
    一种柔性导热材料的制备方法及柔性导热材料_广州众山新材料股份有限公司_202511081212.1
    本发明涉及导热材料技术领域，具体涉及一种柔性导热材料的制备方法及柔性导热材料，包括：S10、在基板上通过微波等离子体化学气相沉积法生长金刚石薄膜，金刚石薄膜的厚度为3‑100μm；S20、对金刚石薄膜进行打孔处理，孔径0.01‑2mm，孔间...
    2025-09-10
  • 等离子体增强原子层沉积设备及方法
    等离子体增强原子层沉积设备及方法_青岛思锐智能科技股份有限公司_202510926869.7
    本发明公开一种等离子体增强原子层沉积设备及方法，设备包括工艺腔室、喷淋盘、密封垫环、射频电源和升降驱动机构，工艺腔室内支撑有晶圆，喷淋盘和密封垫环设置在工艺腔室内部，密封垫环位于晶圆的上方且与晶圆保持距离，喷淋盘位于密封垫环的上方，喷淋盘与...
    2025-09-10
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