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等离子体增强原子层沉积设备
本发明涉及一种等离子体增强原子层沉积设备,包括等离子发生装置以及粉体处理装置,等离子发生装置设有等离子发生腔,粉体处理装置与所述等离子发生装置连接,所述粉体处理装置内形成有反应腔以及分别与所述反应腔连通的进气孔、等离子进入孔、排气孔,所述等...
一种用于IGCC机组气化炉的防护涂层及其制备方法
本发明涉及气化炉防护涂层领域,提供一种用于IGCC机组气化炉的防护涂层及其制备方法,防护涂层包括的原料及其重量份为:氧化铝:40份‑50份;氧化锆:15份‑20份;碳化硅:8份‑12份;氧化铬:4份‑6份;氧化钇:3份‑5份;磷酸铝:6份‑...
一种用于纺织机刀片PVD涂层涂覆的装夹装置
本实用新型公开了种用于纺织机刀片PVD涂层涂覆的装夹装置,包括:底座;工作台,设于所述底座上;所述工作台上设有传输链;连接块,设于相对于所述底座另一侧的所述工作台上;安装台,设于相对于所述工作台另一侧的所述连接块上;动力源,与所述安装台连接...
涂层材料及其制备方法、环境障涂层
本申请涉及热障材料领域,公开了涂层材料及其制备方法、环境障涂层。所述涂层材料的化学式为MAlO
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,其中,M包括Nd、Sm、Eu、Gd、Dy、Ho、Er、Yb、Lu中的至少一种。本申请提出的涂层材料具备优异的断裂韧性,较...
一种用于磁控溅射镀膜提高靶材利用率的装置及方法
本发明涉及磁控溅射设备技术领域,具体涉及一种用于磁控溅射镀膜提高靶材利用率的装置及方法,通过真空腔室内壁与阴极靶材之间设有不锈钢片,不锈钢片的形状和尺寸可根据实际设备结构和磁场分布情况进行设计,用于调整靶材周围电场分布,装配时,先将两个底撑...
一种热镀锌件冷却设备
本发明提供一种热镀锌件冷却设备,涉及热镀锌加工设备技术领域。一种热镀锌件冷却设备,包括处理箱和伺服电机,所述伺服电机的驱动端贯穿处理箱的底部延伸至其内部并固定连接有中心杆,所述中心杆远离伺服电机驱动端的一端固定连接有驱动柄,所述处理箱的内部...
一种用于盘扣式脚手架横杆镀锌的自动挂件转盘机构
本发明公开了一种用于盘扣式脚手架横杆镀锌的自动挂件转盘机构,属于镀锌自动化技术领域,包括圆盘,圆盘沿外缘铰接有铰接臂,铰接臂设有磁吸件,在铰接臂活动所在的垂面设有竖向铰接活塞缸,活塞缸连接磁力件,磁吸件上方设有旋转拨正机构,旋转拨正机构配设...
一种挡板开口调节装置
本实用新型涉及真空镀膜领域技术领域,具体为一种挡板开口调节装置,包括挡板上开设有镀膜口,移动挡条上通过设置滑动组件与挡板连接,使驱动组件可带动移动挡条沿滑动组件移动,遮挡或打开镀膜口,可根据生产产品的宽幅需求,在真空状态下直接调节挡板开口,...
一种切削刀片转移工装
本申请提供一种切削刀片转移工装,包括:杆体,其一端设有挂环,杆体的侧面沿轴向阵列设有多个与杆体垂直的第一支撑片;转筒,其侧面沿轴向阵列开设有多个与第一支撑片厚度匹配的第一弧形槽,转筒套设与杆体外,多个第一支撑片分别处于多个第一弧形槽内,转筒...
一种电弧离子镀膜装置
本实用新型涉及一种电弧离子镀膜装置,属于电弧离子镀膜领域,包括底座以及固定连接于底座上表面的镀膜室,所述底座的上表面设有用于辅助镀膜的辅助结构,所述辅助结构包括开设于底座上表面的安装槽、固定连接于安装槽内底壁的伺服电机、固定连接于伺服电机输...
一种锌锅电磁驱渣器的安装臂
本发明公开了一种锌锅电磁驱渣器的安装臂,包括安装底座、安装支臂一及安装支臂二,所述安装底座上部设有相对的底座支臂,所述底座支臂通过旋转轴一与所述安装支臂一的一端活动连接,所述安装支臂一的另一端通过旋转轴二与所述安装支臂二活动连接。本发明通过...
一种基于旋入式安装的散粉盒连续UV电镀机构
本实用新型公开了一种基于旋入式安装的散粉盒连续UV电镀机构,涉及UV电镀技术领域,包括底座、固化仓和仓门,所述固化仓固定连接于底座顶部,且底座内部中间固定连接有电机,并且固化仓和仓门相互铰接,所述固化仓内部转动连接有驱动轴,且驱动轴外侧设有...
掩膜板及其制作方法、掩膜板组件
本申请提供一种掩膜板及其制作方法、掩膜板组件。其中的掩膜板,包括形成多个开口的多个肋条和外围连接部,其中,掩膜板形成于至少两个原材接合构成的母板,并且具有衔接不同原材的接缝;接缝的两侧设置有应力隔离区,应力隔离区包括规则排布的多个半刻槽或多...
镀膜设备和显示面板
本申请实施例提供了一种镀膜设备和显示面板。镀膜设备包括壳体和依次层叠设置的背板、扩散板和载台以及位于背板和扩散板之间的导热块。背板与壳体连接,背板和壳体形成密封的腔室,扩散板和载台位于腔室内。背板与扩散板之间留有空隙。导热块的上表面的至少一...
一种镀锌加工用漂洗池
本实用新型涉及漂洗池领域,公开了一种镀锌加工用漂洗池,包括:用于对镀锌件加工的漂洗池,所述漂洗池上设置有漂洗机构;所述漂洗机构包括液压缸、安装架、矩形框、密封板、转动架、镀锌件漂洗网筒、电机、转轴、底盘和定位销;所述液压缸的液压杆与密封板固...
一种MPCVD装置种晶置入及成品取出装置
本实用新型涉及MPCVD装置技术领域,尤其涉及一种MPCVD装置种晶置入及成品取出装置,包括有底座、第一电动伸缩杆、第一调节组件、第二电动伸缩杆、第二调节组件、第三固定架、机械抓手和微型摄像头;底座的上表面设置有第一电动伸缩杆,第一电动伸缩...
一种具有自支撑性能的高熵纳米复合薄膜及制备方法
本发明提供一种具有自支撑性能的高熵纳米复合薄膜及制备方法。制备方法包括以下步骤:采用高功率脉冲磁控溅射方法,以Fe、Co、Ni、Cr四种元素的金属条拼接在一起做为溅射靶材,以高纯Ar和含碳气源为工作气体,对表面清洗处理后的基体施加负偏压,对...
一种连续式真空镀膜设备
本实用新型提供了一种连续式真空镀膜设备,包括机床、镀膜台、机械臂和上料组件,所述上料组件包括台体、电机、转盘、收纳盒和顶盖,所述机床的右端面设有开口,所述台体内设有冷却仓,所述冷却仓内填充有冷却液,所述台体的内设有安装仓,所述转盘的上端面设...
一种半导体加工设备的进气装置
本实用新型公开了一种半导体加工设备的进气装置,所述半导体加工设备包括真空腔室,所述真空腔室具有安装顶壁,所述进气装置包括:中心供气管路,连接于所述安装顶壁,并与所述真空腔室连通;边缘供气组件,包含N个边缘供气管道,所述边缘供气管道连接于所述...
一种基于薄膜沉积技术的静电卡盘生产用镀膜设备
本发明公开了一种基于薄膜沉积技术的静电卡盘生产用镀膜设备,涉及镀膜装置技术领域,包括机体,所述机体内设置有反应腔,所述机体的顶部设置有盖板,所述反应腔内设置有支撑架,所述支撑架上设置有移动组件和若干个转动盘,所述支撑架与反应腔滑动连接;利用...
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