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五金工具产品及配附件制造技术
  • 一种分布器进液和溢流的生箔机台钝化槽
    一种分布器进液和溢流的生箔机台钝化槽_江西鑫铂瑞科技股份有限公司_202520198161.X
    本实用新型公开了一种分布器进液和溢流的生箔机台钝化槽，包括钝化槽、进液阀、排液阀，所述钝化槽的内底部包括进液布水器，进液布水器与进液阀连接，所述钝化槽的内部侧壁上部安装有溢流排液分布器，溢流排液分布器与排液阀连接。本实用新型中的钝化液通过钝...
    2025-12-30
  • 一种用于盐浴氮化的气体搅拌用的多气源供气面板
    一种用于盐浴氮化的气体搅拌用的多气源供气面板_昆山三民涂赖表面处理技术有限公司_202423204652.5
    本实用新型公开了一种用于盐浴氮化的气体搅拌用的多气源供气面板，包括：一种用于盐浴氮化的气体搅拌用的多气源供气面板，包括：氮气供气组件、空气供气组件、以及氧气供气组件，所述氮气供气组件包括：氮气供气管道，设置在所述氮气供气管道上的第一氮气开关...
    2025-12-30
  • 蒸发装置及镀膜设备
    蒸发装置及镀膜设备_重庆金美新材料科技有限公司_202423296783.0
    本实用新型公开了一种蒸发装置及镀膜设备，其中镀膜设备包括蒸发装置，蒸发装置包括蒸发组件、过膜通道以及导向组件。蒸发组件包括蒸发池，蒸发池用于承载并蒸发膜料。过膜通道设置在蒸发组件的顶部。导向组件包括第一导向板组和第二导向板组，第一导向板组和...
    2025-12-30
  • 一种激光熔覆头挡光罩装置
    一种激光熔覆头挡光罩装置_陕西天元智能再制造股份有限公司_202520132892.4
    本实用新型公开了一种激光熔覆头挡光罩装置，包括连接座、固定座及前挡光罩；连接座套接于激光熔覆头上，固定座套接于所述连接座上，所述固定座的侧面设置有若干弧形凹槽，所述前挡光罩的内壁上设置有若干弧形凸起，一个弧形凹槽对应一个弧形凸起，弧形凸起插...
    2025-12-30
  • 一种用于地热管道的耐腐蚀防结垢涂层及其制备方法
    一种用于地热管道的耐腐蚀防结垢涂层及其制备方法_中国长江三峡集团有限公司_202511255587.5
    本申请涉及管道涂层领域，具体涉及一种用于地热管道的耐腐蚀防结垢涂层及其制备方法，该方案选用 Cu、Ni、Co、Cr、Fe、Al、Mn 按特定质量百分比范围组成的合金粉末作为涂层材料，采用等离子喷涂工艺并配合明确的工艺参数与表面预处理、后处理...
    2025-12-30
  • 一种用于MBE工艺的真空腔系统及其操作方法
    一种用于MBE工艺的真空腔系统及其操作方法_合肥致真精密设备有限公司_202511218438.1
    本发明公开了一种用于MBE工艺的真空腔系统及其操作方法，具体涉及MBE薄膜生长设备技术领域，包括真空腔体系统和传送样系统；真空腔体系统包括通过闸板阀依次连接的快速进样腔、预处理腔、工艺腔和互联腔；传送样系统包括：安装在快速进样腔底部的样品架...
    2025-12-30
  • 退火设备
    退火设备_云谷(固安)科技有限公司_202210222274.X
    本申请实施例提供一种退火设备，涉及退火装置技术领域，用于解决与基板边缘位置对应的显示模组区域在显示画面时存在低灰阶画面不均一的技术问题。该退火设备包括退火腔，所述退火腔内沿第一方向间隔设置有至少两个加热层，相邻两个所述加热层以及相邻两个加热...
    2025-12-30
  • 一种疏油防粘附表面的激光制备方法
    一种疏油防粘附表面的激光制备方法_湖南省旺辉食品有限公司_202511476109.7
    本发明涉及涂层材料制备技术领域，公开一种疏油防粘附表面的激光制备方法，包括：提供一种包含可交联有机硅化合物，液体润滑剂和润滑剂微胶囊的液态前驱体，并采用脉冲激光一次性扫描辐照，在基底表面同步实现微纳结构，构筑有机硅骨架的共价键合以及液体润滑...
    2025-12-30
  • 一种精密金属掩膜板的缺陷检测修复方法和系统
    一种精密金属掩膜板的缺陷检测修复方法和系统_江苏高光半导体材料有限公司_202511398188.4
    本申请提供一种精密金属掩膜板的缺陷检测修复方法和系统。其中的缺陷检测修复方法包括配置至少一个缺陷检测修复单元；在缺陷检测修复单元中，配置协同工作的一个自动光学检测装置和至少两个激光修复装置；在同一个修复单元中，由自动光学检测装置执行如下步骤...
    2025-12-30
  • 一种镀膜装置及方法
    一种镀膜装置及方法_龙门实验室_202511139674.4
    本发明公开了一种镀膜装置及方法，旨在解决现有技术中膜厚均匀性差、颗粒吸附顽固、表面光洁度不足等问题。该装置包括基座、磁控溅射发生器、导向结构、旋转机构、超声机构及驱动机构。旋转机构驱动试管绕自身轴线旋转，超声机构通过变幅杆向试管施加轴向高频...
    2025-12-30
  • 带涂层的金属箔和覆金属层叠板
    带涂层的金属箔和覆金属层叠板_古河电气工业株式会社_202480033053.5
    一种带涂层的金属箔，其中，上述涂层的厚度为5nm～1000nm，在利用X射线光电子能谱法得到的C1s能谱中，在280eV～292eV检测到的源自各键的各峰的总面积中源自C‑O键的峰面积所占的比例(RC‑O)为10%～50%。一种覆金属层叠板...
    2025-12-30
  • 一种芯片镀膜夹具
    一种芯片镀膜夹具_无锡清鑫光学技术有限公司_202520100239.X
    本实用新型属于芯片镀膜技术领域，具体为一种芯片镀膜夹具，包括底座，所述底座上安装有进气机构，所述进气机构包括进气台，所述进气台上方安装有置物机构，所述置物机构包括置物板，所述第一安装孔内固定安装有支撑杆，所述置物板与支撑杆固定连接，所述置物...
    2025-12-30
  • 基于双轨道约束的磁控溅射磁铁变轨迹运动装置
    基于双轨道约束的磁控溅射磁铁变轨迹运动装置_无锡尚积半导体科技股份有限公司_202511512903.2
    本申请公开了一种基于双轨道约束的磁控溅射磁铁变轨迹运动装置，包括限位机构、安装块、连杆、连桥、第一旋转驱动机构和第二旋转驱动机构，限位机构包括交叉设置的第一轨道和第二轨道，连桥可转动地设置在轨道的交点处，连桥上设有滑槽，安装块滑动设置于滑槽...
    2025-12-30
  • 一种钻头硬质涂层的快速沉积装置及其使用方法
    一种钻头硬质涂层的快速沉积装置及其使用方法_江苏飞达钻头股份有限公司_202511338218.2
    本发明涉及沉积装置技术领域，尤其为一种钻头硬质涂层的快速沉积装置及其使用方法，包括沉积装置组件，沉积装置组件内侧安装有支架组件，支架组件内侧插接有钻头本体，沉积装置组件靠近下端的位置固定连接有装配保温箱组件，装配保温箱组件内侧安装有推送组件...
    2025-12-30
  • 一种可调式微粉机
    一种可调式微粉机_大兴安岭利沃康药业有限公司_202423013855.6
    本实用新型公开了一种可调式微粉机，属于微粉机技术领域，包括粉碎箱，所述粉碎箱内腔的底部设置有磨环槽，所述粉碎箱的底部设置有研磨机构，所述粉碎箱的顶部固定套接有排粉管，所述排粉管上设置有过筛机构，所述粉碎箱的侧部固定连接有进料管。本实用新型中...
    2025-12-30
  • 布拉格光栅制作方法及布拉格光栅
    布拉格光栅制作方法及布拉格光栅_中兴通讯股份有限公司_202410812324.9
    本发明实施例提供了一种布拉格光栅制作方法，包括：对基底上的过渡材料进行刻蚀，以在基底上形成周期性起伏结构，通过化学气相沉积，在周期性起伏结构上生成上包层，通过化学气相沉积，在上包层上生成光栅材料，以形成布拉格光栅。通过本发明，解决了相关技术...
    2025-12-30
  • 一种基座及气相沉积设备
    一种基座及气相沉积设备_蓝河科技(绍兴)有限公司_202520200049.5
    本实用新型公开了一种基座及气相沉积设备。基座包括载体和转接件。载体设有若干凹穴以放置衬底，内部设有与各凹穴连通的连通气道；载体中部设有连接件，各连通气道延伸至连接件内并贯穿连接件的底端面与外部相通；转接件具有沿转接件轴向相对的第一端面和第二...
    2025-12-30
  • 一种基于再生添加剂的含铜蚀刻废液循环再生方法
    一种基于再生添加剂的含铜蚀刻废液循环再生方法_生态环境部南京环境科学研究所_202511247555.0
    本发明公开了一种基于再生添加剂的含铜蚀刻废液循环再生方法，包括以下步骤，S1、配制复合再生剂母液，S2、配制蚀刻活化剂，S3、电解催化再生处理，S4、梯度杂质去除，S5、蚀刻性能活化，S6、回收复配；通过在溴化钾催化双氧水显著提升氧化效率，...
    2025-12-30
  • 膜厚传感器及膜厚实时监测系统
    膜厚传感器及膜厚实时监测系统_华南理工大学_202511647635.5
    本发明公开了膜厚传感器及膜厚实时监测系统，该膜厚传感器包括电路板，支撑块，以及晶振探头；晶振探头包括支撑外环，设于支撑外环中的支撑内环，以及嵌设于支撑内环和支撑外环中的晶振片，晶振片的底部通过导电弹簧与电路板电性连接；支撑外环正对溅射阴极设...
    2025-12-30
  • 反应腔的盖体组件及晶圆处理装置
    反应腔的盖体组件及晶圆处理装置_深圳市昇维旭技术有限公司_202520200660.8
    本申请公开一种反应腔的盖体组件及晶圆处理装置，该盖体组件包括：用于密封地盖设于开口处的盖体，在盖体盖设于开口处时，反应腔可被配置为真空状态；盖体中贯穿设置有与反应腔连通的进气孔，进气孔用于使空气进入处于真空状态的反应腔；以及，与进气孔连通的...
    2025-12-30
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