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五金工具产品及配附件制造技术
  • 一种镍始极片加工机组多工位节拍协同控制方法
    一种镍始极片加工机组多工位节拍协同控制方法_金川集团股份有限公司_202511694453.3
    本发明属于镍电解生产中的始极片加工技术领域，具体公开了一种镍始极片加工机组多工位节拍协同控制方法，包括PLC控制器，加工机组上游五合一机械手集群以固定周期T00运行生成基准节拍源，同步完成堆垛上料、双边剪切、90°转向、二次双边剪切和转运，...
    2026-02-19
  • 水轮机过流部件抗腐蚀损伤喷涂设备及其喷涂工艺
    水轮机过流部件抗腐蚀损伤喷涂设备及其喷涂工艺_华能新疆能源开发有限公司托什干河水电分公司_202511654713.4
    本发明涉及抗腐蚀损伤喷涂技术领域，且公开了水轮机过流部件抗腐蚀损伤喷涂设备及其喷涂工艺，包括：储存罐、盖板、输料器、伸缩管、喷枪、第一驱动电机、进料漏斗、转轴、搅拌杆、搅拌板、转动杆、圆连座、固连板、敲打板、弹性凸垫及转杆；盖板设于储存罐顶...
    2026-02-19
  • 一种铝舟进出腔体的推送装置
    一种铝舟进出腔体的推送装置_芜湖协鑫集成新能源科技有限公司_202520519854.4
    本实用新型公开了一种铝舟进出腔体的推送装置，包括用于承载铝舟的托架(1)、安装在所述托架(1)底部的多个滚轮(3)、可拆卸固定在所述托架(1)底部档条组件(2)以及为所述托架(1)进出腔体所需驱动力的传动组件，所述档条组件(2)包括至少一个...
    2026-02-19
  • 一种高效实用的制砂系统
    一种高效实用的制砂系统_湖南中泰机械设备制造有限责任公司_202520341365.4
    本实用新型公开了一种高效实用的制砂系统，包括制砂装置，其包括制砂支架，所述制砂支架上设有制砂机，所述制砂机输出端连接设有出料口；筛分装置，其包括钢架台和固定连接在所述钢架台上的多层振动筛，所述多层振动筛上形成有多个筛分下料管；所述钢架台的一...
    2026-02-19
  • 碱性原料粉碎装置
    碱性原料粉碎装置_贝特瑞新材料集团股份有限公司_202520054549.2
    本实用新型提供了一种碱性原料粉碎装置。碱性原料粉碎装置包括储料仓，储料仓内具有密封腔，储料仓上设置有进料结构和出料结构，进料结构和出料结构均与密封腔连通，进料结构上设置有第一阀体，出料结构上设置有第二阀体；粉碎组件，粉碎组件通过出料结构与储...
    2026-02-19
  • 一种高耐磨的聚乙烯复合颗粒及其材料和应用
    一种高耐磨的聚乙烯复合颗粒及其材料和应用_浙江大学_202310948859.4
    本发明公开了一种高耐磨的聚乙烯复合颗粒及其材料和应用。所述聚乙烯复合颗粒为合成矿物蜡与超高分子量聚乙烯的原位共混物，其粒径为50‑500μm，颗粒中，超高分子量聚乙烯与合成矿物蜡交替存在，超高分子量聚乙烯呈现纳米片状结构。聚乙烯复合颗粒在1...
    2026-02-19
  • 改善ALD填充沟槽覆盖性能的方法及其设备
    改善ALD填充沟槽覆盖性能的方法及其设备_重庆芯联微电子有限公司_202511465627.9
    本发明提供一种改善ALD填充沟槽覆盖性能的方法及其设备，通过在ALD设备的反应腔内设置射频电极，可对半导体基底表面进行等离子体预处理，以降低半导体基底的表面能，提升前驱体吸附均匀性；将单次脉冲拆分为多次子脉冲，且在子脉冲间隔时进行吹扫处理，...
    2026-02-19
  • 一种锅具镀膜设备
    一种锅具镀膜设备_浙江康巴赫科技股份有限公司_202520344572.5
    本申请提供一种锅具镀膜设备。所述锅具镀膜设备用于对锅具批量镀膜。所述锅具镀膜设备包括：至少一个镀膜室，其用于形成真空镀膜环境；以及承载装置，其用于承载多个锅具并被输送至所述镀膜室内，所述承载装置包括至少两个转动鼓；其中，所述多个锅具在转动鼓...
    2026-02-19
  • 钝化结构及钝化设备
    钝化结构及钝化设备_深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司_202520141733.0
    本实用新型提供了一种钝化结构及钝化设备，其中钝化结构包括舟架主体，舟架主体内部形成装载空间；多个电池片盒，放置在装载空间内，电池片盒与舟架主体电导通，电池片盒中电池片具有至少一个待镀膜面；至少一个第一电极板，第一电极板设置在舟架主体上并与舟...
    2026-02-19
  • 一种喷嘴装置、半导体处理设备及供气方法
    一种喷嘴装置、半导体处理设备及供气方法_无锡先为科技有限公司_202411040409.6
    本发明公开一种喷嘴装置、半导体处理设备及供气方法；所述喷嘴装置包括：主体，其内部设有进气通道，其下端设有与进气通道连通的出气部；出气部包括呈环形的出气壁及贯通所述出气壁的多个出气孔组。出气壁包括：第一环形区域，其具有统一的第一外径；第二环形...
    2026-02-19
  • 一种用于落煤管道施工的吊装设备
    一种用于落煤管道施工的吊装设备_湖北升泰机电科技有限公司_202423314711.4
    本实用新型涉及一种用于落煤管道施工的吊装设备。该一种用于落煤管道施工的吊装设备通过设置有夹持组件使其能够有效的实现在吊装的过程中对管材进行自动固定的效果，无需通过工作人员对其进行手动固定，同时能够根据管材的自重来实现对管材进行牢固的夹持效果...
    2026-02-19
  • 一种介电薄膜的制造方法及介电薄膜、场效应晶体管
    一种介电薄膜的制造方法及介电薄膜、场效应晶体管_松山湖材料实验室_202511751582.1
    本申请涉及微电子工艺技术领域。具体涉及一种介电薄膜的制造方法及介电薄膜、场效应晶体管。介电薄膜制造方法包括以下步骤：提供生长基底；干燥介电薄膜原材料粉末；介电薄膜原材料粉末为卤化铋粉末；将干燥后的介电薄膜粉末置于第一石英舟中，放入初始温度的...
    2026-02-19
  • 托盘固定机构及半导体设备
    托盘固定机构及半导体设备_上海原力芯辰科技有限公司_202520153882.9
    本申请提供了一种托盘固定机构及半导体设备，涉及半导体技术领域。该托盘固定机构包括托盘、轴头、旋转驱动机构和调平件，托盘与轴头相连接，旋转驱动机构与轴头相连接，以驱动轴头绕自身轴线转动，调平件设置于托盘上，用于对托盘进行调平，以使托盘在转动的...
    2026-02-19
  • 一种静电消除结构及真空镀膜设备
    一种静电消除结构及真空镀膜设备_深圳市矩阵多元科技有限公司_202423066156.8
    本申请提供了一种静电消除结构及真空镀膜设备，属于半导体生产设备技术领域，静电消除结构包括：导电部，所述导电部设置于基片台；消除组件，所述消除组件位于所述导电部的下方，所述消除组件包括活动座和复位部，所述活动座能够上下移动调节地设置于所述消除...
    2026-02-19
  • 桥梁维修用吊机装置
    桥梁维修用吊机装置_中交通达(福州)工程设计有限公司_202520350634.3
    本实用新型涉及吊机技术领域，具体为桥梁维修用吊机装置，包括底座，所述底座的表面固定连接有支撑柱，所述支撑柱的表面通过法兰连接有调节柱，所述调节柱的表面固定连接有放置架，所述放置架的表面活动连接有吊臂，所述底座的表面设置有安装板，所述安装板的...
    2026-02-19
  • 风电吊装机
    风电吊装机_贺景怡_202520574040.0
    本实用新型涉及一种风电吊装机，涉及一种适用于吊装160米高度以上风力发电机组的风电吊装机，其特征在于能够快速安装，拆卸和转场，是专为风电吊装而设计的专用吊装设备，而且能够改善相关技术中存在安全系数低，转场时间长，无法高效施工的问题。其中履带...
    2026-02-19
  • 一种铜排表面耐腐处理钝化装置
    一种铜排表面耐腐处理钝化装置_南通昊海电器有限公司_202423164150.4
    本实用新型涉及铜排钝化处理技术领域，公开了一种铜排表面耐腐处理钝化装置，包括处理箱，所述处理箱的顶面开设有清理槽、处理槽和钝化槽，处理箱的顶面设置有钝化结构，钝化结构包括固定在处理箱的顶面的安装架，安装架的顶面开设有活动孔。本实用新型通过钝...
    2026-02-19
  • 一种含二元醇三环癸烷二甲醇的磺基琥珀酸酯钠盐及其制备方法
    一种含二元醇三环癸烷二甲醇的磺基琥珀酸酯钠盐及其制备方法_广东希必达新材料科技有限公司_202511796495.8
    本发明公开了一种含二元醇三环癸烷二甲醇的磺基琥珀酸酯钠盐及其制备方法。所述制备方法是，向反应器中，依次加入溶剂、二元醇三环癸烷二甲醇或其烷氧化物、顺酐和催化剂，在氮气保护下，升温至50℃~100℃，搅拌反应3~5h后得到二元醇三环癸烷二甲醇...
    2026-02-19
  • 一种大尺寸宽波段玻璃偏振片的制备方法
    一种大尺寸宽波段玻璃偏振片的制备方法_长飞光纤光缆股份有限公司_202511976834.0
    本申请属于精密光学元件制造领域，更具体地，涉及一种大尺寸宽波段玻璃偏振片的制备方法。通过分阶段离子交换强化提升基板机械性能，采用自适应气压辅助微接触转印技术实现纳米结构的高精度复制，结合界面增强技术和倾斜溅射工艺形成高质量金属线栅，最后通过...
    2026-02-19
  • 空间可调沉积以在晶片差异弯曲中进行补偿
    空间可调沉积以在晶片差异弯曲中进行补偿_朗姆研究公司_202511399308.2
    一种用于在晶片的下侧表面上沉积膜的等离子体加工室，包括喷头基座。喷头基座包括第一分区和第二分区。上分离器翅片设置在喷头基座的顶表面上方，并且下分离器翅片设置在喷头基座的顶表面下方并与上分离器翅片对齐。第一分区被配置用于将第一膜沉积到晶片的下...
    2026-02-19
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