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五金工具产品及配附件制造技术
  • 一种提高热喷涂调试效率的方法
    一种提高热喷涂调试效率的方法_无锡透平叶片有限公司_202511623236.5
    本发明涉及热喷涂技术领域，公开了一种提高热喷涂调试效率的方法，包括以下步骤：喷涂工艺确认、定位工装确认、送粉量测试、平板增重测试、斑点测试、工件装夹与点位确认。上述提高热喷涂调试效率的方法设计了通用底座定位工装，保证与喷涂转台高精度安装，且...
    2026-03-08
  • 一种整流匀气环
    一种整流匀气环_拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司_202511705922.7
    本发明提供了一种整流匀气环，包括：位于外圈的匀气道，所述匀气道与一进气口连通；位于内圈的出气道，所述出气道与多个出气口连通；以及位于所述匀气道和所述出气道之间的匀气层；其中，所述匀气层内具有沿周向分布的多个匀气排，每个匀气排包括从上至下分布...
    2026-03-08
  • 一种激光熔覆密封装置
    一种激光熔覆密封装置_长治市潞安漳村恒达工贸有限公司_202610120315.2
    本发明涉及一种激光熔覆密封装置，属于激光熔覆加工技术领域；包括底座，在底座上端面设置升降柱，在升降柱上转动设置有第一螺纹杆；第一螺纹杆端部固定设置有驱动柱与固定柱，在驱动柱处设置有夹持机构；第一螺纹杆内部转动设置有驱动轴，在固定柱端部转动设...
    2026-03-08
  • 一种可控气氛等离子喷涂设备
    一种可控气氛等离子喷涂设备_廊坊斯博瑞精密机械有限公司_202520245161.0
    本实用新型公开了一种可控气氛等离子喷涂设备，包括喷涂设备外壳和喷涂枪，所述喷涂枪的一侧滑动安装有两个挡板，挡板的一侧开设有滑动槽，滑动槽内滑动安装有滑动块，滑动块的一端延伸至滑动槽内，滑动块的另一端延伸至滑动槽外，滑动块延伸至滑动槽外的一端...
    2026-03-08
  • 一种热喷涂设备用送粉器
    一种热喷涂设备用送粉器_廊坊斯博瑞精密机械有限公司_202520232634.3
    本实用新型公开了一种热喷涂设备用送粉器，包括热喷涂设备和送粉器，所述送粉器的底部安装有漏斗，漏斗的一侧内壁上开设有固定孔，固定孔内滑动安装有挡板，挡板的一端延伸至漏斗内，挡板的另一端延伸至漏斗外，挡板延伸至漏斗外的一端转动安装有第一转轴，第...
    2026-03-08
  • 一种磁控溅射设备用在线可调磁棒结构
    一种磁控溅射设备用在线可调磁棒结构_镇江市德利克真空设备科技有限公司_202422847468.6
    本实用新型公开一种磁控溅射设备用在线可调磁棒结构。采用本实用新型的可调磁棒时，通过观察工件表面靶材沉积层的均匀性，当观察到工件表面某处的沉积层不均匀时，即表示可调磁棒对应区域的磁场不均匀，此时在磁控溅射设备不停机的情况下，通过程序控制对应区...
    2026-03-08
  • 一种真空腔体组件及真空镀膜设备
    一种真空腔体组件及真空镀膜设备_深圳和润达科技有限公司_202520098589.7
    本实用新型公开了一种真空腔体组件及真空镀膜设备，真空腔体组件包括：真空腔结构，真空腔结构设有多个；基架，基架可沿第一方向伸缩，至少一个真空腔结构设在基架上，且真空腔结构可相对基架沿第一方向往复滑动。本实用新型中，通过设置可沿第一方向伸缩的基...
    2026-03-08
  • 一种靶材支架
    一种靶材支架_湖南麓星光电科技有限公司_202311255954.2
    本发明提供一种靶材支架，涉及镀膜设备技术领域。通过转动与转向轴片相连接的转向件，转向轴片带动转向支架将目标靶材底架上的靶材对准离子源，离子源轰击位于该目标靶材底座上的靶材过程中，升降组件在该目标靶材底架所在的靶材底架上进行升降距离小于1cm...
    2026-03-08
  • 一种高结合力高分子基复合材料
    一种高结合力高分子基复合材料_辽宁濮谦科技发展有限公司_202520491898.0
    本申请公开了一种高结合力高分子基复合材料，包括：基材层、预制坑孔和过程坑孔，所述基材层的上下两侧均设置有第一材料层，且第一材料层远离基材层的一侧连接有第二材料层；所述基材层的上下表面外侧均开设有预制坑孔；所述第一材料层远离基材层的一侧表面开...
    2026-03-08
  • 表面活性剂
    表面活性剂_孚洛飞生物技术有限公司_202180033008.6
    本发明提供了式(I)的表面活性剂：(A)mm‑X‑(B)nn(I)，其中X为连接基团；各A独立地为氟碳化合物或全氟聚醚；各B独立地为(II)，其中a为3至50的整数，并且各R独立地为C1‑61‑6烷基、CH22CH22OC1‑61‑6烷基或...
    2026-03-08
  • 腔室周向进气的匀气结构及其半导体处理设备
    腔室周向进气的匀气结构及其半导体处理设备_上海创熠微材料科技有限公司_202510933426.0
    一种腔室周向进气的匀气结构及半导体处理设备，其中，匀气结构设置在一半导体处理设备内，用于向所述半导体处理设备的反应腔输送反应气体，匀气结构包含一个外环导流层和一个内环匀气层，外环导流层与至少一个进气口气体连通，内环匀气层设置无缝环形出气口与...
    2026-03-08
  • 齐平膜芯体及其制备方法和应用、压力变送器
    齐平膜芯体及其制备方法和应用、压力变送器_松诺盟科技有限公司_202510167785.X
    本发明属于压力传感器技术领域，具体涉及一种齐平膜芯体及其制备方法和应用、压力变送器。所述齐平膜芯体包括钢基和齐平膜；其中，所述齐平膜包括复合应变层；所述复合应变层包括依次层叠的第一应变层、第二应变层、第三应变层和第四应变层各层之间相互协同配...
    2026-03-08
  • 一种高效的小麦碾碎设备
    一种高效的小麦碾碎设备_济南市莱芜区牛泉镇人民政府_202520448025.1
    本实用新型提供一种高效的小麦碾碎设备。所述高效的小麦碾碎设备包括碾碎箱，所述碾碎箱的顶部和底部分别固定安装有进料斗和出料斗，所述进料斗内转动安装有环形碾碎座，所述环形碾碎座的外壁固定安装有第二齿轮，所述进料斗内还转动安装有转动柱，所述转动柱...
    2026-03-08
  • 形成膜的方法
    形成膜的方法_周星工程股份有限公司_202480049330.1
    本公开涉及一种在基板上形成膜的方法，并且涉及一种膜形成方法，包括：制备形成有金属膜、金属氧化物膜、硅氮化物(SiN)膜和硅氧化物(SiO)膜中的一层或两层以上的下部膜的该基板的步骤、将含镓(Ga)源气体喷射至该基板上的步骤，以及在300℃至...
    2026-03-08
  • 一种上电极结构及等离子体加工设备
    一种上电极结构及等离子体加工设备_季华实验室_202511844121.9
    本申请涉及半导体设备领域，本申请提供一种上电极结构及等离子体加工设备，上电极结构包括上电极背板、喷淋板和匀场结构，上电极背板内部设有冷却通道，喷淋板与上电极背板相对设置，喷淋板上贯穿设置有多个喷气孔，匀场结构包括至少一个均匀板，均匀板设置于...
    2026-03-08
  • 一种镀膜线收放片机传输段升降装置
    一种镀膜线收放片机传输段升降装置_台玻长江玻璃有限公司_202520045660.5
    本实用新型公开了一种镀膜线收放片机传输段升降装置，涉及镀膜线收放片机技术领域，包含升降台、减速机和电机；升降台的两侧均设置有第一支撑腿和第二支撑腿，第一支撑腿上设置有第一传动部件，第二支撑腿上设置有第二传动部件；减速机上具有第一转轴，第一转...
    2026-03-08
  • 一种儿科配药研磨装置
    一种儿科配药研磨装置_吉林省中医药科学院(吉林省中医药科学院第一临床医院)_202511936638.0
    本发明涉及药品研磨技术领域，具体为一种儿科配药研磨装置，包括研磨箱，所述研磨箱的侧表面横向插接有封堵件，所述研磨箱的腔内转动连接有中心轴，所述中心轴的外侧壁套设有磨轮，所述磨轮的外侧壁和研磨箱的内侧壁之间形成有研磨腔，所述研磨腔的远离封堵件...
    2026-03-08
  • 具有动态调平的同轴升降装置
    具有动态调平的同轴升降装置_应用材料公司_202311253211.1
    本文描述的实施例总体上涉及具有同轴升降装置的工艺腔室。在一些实施例中，装置包括底部碗升降器和底座升降器两者。底部碗升降器支撑底部碗，并且被配置成将底部碗移动到减小工艺容积的位置。底部碗升降器与底座升降器同轴，并且底部碗升降器和底座升降器被附...
    2026-03-08
  • 气体喷洒装置及半导体设备
    气体喷洒装置及半导体设备_合肥晶合集成电路股份有限公司_202520067280.1
    本申请涉及一种气体喷洒装置及半导体设备；该气体喷洒装置包括气体喷头、主动调节轴和从动调节轴芯；气体喷头位于工艺腔室的内部，气体喷头的一端具有出气口；主动调节轴位于工艺腔室的外部，沿气体喷头的轴向延伸；主动调节轴靠近工艺腔室的一端具有第一磁性...
    2026-03-08
  • 一种双面镀膜管式PECVD石墨舟结构
    一种双面镀膜管式PECVD石墨舟结构_晶澳(扬州)太阳能科技有限公司_202311455223.2
    本发明公开了一种双面镀膜管式PECVD石墨舟结构，属于太阳能电池镀膜的技术领域，石墨舟结构包括：第一绝缘侧板、第二绝缘侧板、导电模组以及硅片组，导电模组连接在第一绝缘侧板和第二绝缘侧板之间，包括呈对角线交叉分布的一对第一导电杆和一对第二导电...
    2026-03-08
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