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最新专利技术
  • 一种基于多孔二氧化锡纳米棒限域孤立铂原子的高效气体传感器的制备方法
    一种基于多孔二氧化锡纳米棒限域孤立铂原子的高效气体传感器的制备方法_上海大学_202511071472.0
    本发明公开了一种基于多孔SnO2纳米棒限域孤立铂原子的高效气体传感器的制备方法，通过ALD技术将孤立Pt原子精准沉积于SnO2孔道内，利用限域效应和单原子催化协同作用，显著降低传感器工作温度(190℃)，提升对丙酮的灵敏度(Ra/Rg＝6....
    2025-12-28
  • 一种多气源协同控制的金刚石生长反应气输送装置
    一种多气源协同控制的金刚石生长反应气输送装置_浙江六向体科技有限公司_202511095889.0
    本发明提供一种多气源协同控制的金刚石生长反应气输送装置，涉及金刚石制备技术领域，包括：支撑底座；所述支撑底座顶部设置有拱形撑架，支撑底座顶部呈排列状安装有三个增压抽排气泵，增压抽排气泵分别与三个不同的输气管路相连通；所述增压抽排气泵外部连接...
    2025-12-28
  • 一种实现大尺寸均匀沉积的微波等离子体增强原子层沉积或微波等离子体增强化学气相沉积设备及工艺
    一种实现大尺寸均匀沉积的微波等离子体增强原子层沉积或微波等离子体增强化学气相沉积设备及工艺_厦门芯壹方科技有限公司_202511118047.2
    本发明涉及一种实现大尺寸均匀沉积薄膜的微波等离子体增强原子层沉积或微波等离子体增强化学气相沉积设备及工艺，包括共振导波腔、反应腔室、气体分散环、石英隔离板和天线网环，共振导波腔的上腔体进行独特设计；气体分散环设置于共振导波腔外周面且用于往共...
    2025-12-28
  • 一种加热的前驱体传输管路及其薄膜沉积设备
    一种加热的前驱体传输管路及其薄膜沉积设备_拓荆科技(上海)有限公司_202511248397.0
    本发明公开了一种加热的前驱体传输管路及其薄膜沉积设备，管路包括：内设有管腔的传输管路组件、主加热单元、补偿加热单元、第一保温单元以及第二保温单元；主加热单元和补偿加热单元沿着传输管路组件的长度方向贴合于传输管路组件的外壁，第一保温单元贴合于...
    2025-12-28
  • 气相沉积炉
    气相沉积炉_湖南德智新材料股份有限公司_202510800076.0
    本申请涉及气相沉积技术领域，尤其涉及一种气相沉积炉，包括沉积室，具有工件固定槽，工件固定槽的槽壁形成沉积室的内壁，工件固定槽被配置为固定工件，以使工件的非涂层表面与工件固定槽的槽壁相贴合，并使工件的涂层表面外露，以解决涂层脱落影响工件良率的...
    2025-12-28
  • 一种高温加热结构
    一种高温加热结构_常州艾恩希纳米镀膜科技有限公司_202511058290.X
    本发明提供了一种高温加热结构，通过模块化分体设计与热膨胀补偿架构的协同创新，显著提升1650℃工况下的可靠性和能效，采用双数弧形石墨板合围侧壁加热体和半数量扇形石墨板拼接顶部加热体，结合榫卯接口与钼合金弹性补偿片，使热膨胀应力分散率明显提升...
    2025-12-28
  • 一种等离子体处理装置及其设备
    一种等离子体处理装置及其设备_上海庆建廷科技有限公司_202511079107.4
    本申请公开了一种等离子体处理装置及其设备，属于等离子体处理的技术领域，其包括炉管本体，所述炉管本体内设置有炉管工艺腔体和等离子体反应腔体，所述等离子体反应腔体内安装有进气管和电极棒，所述进气管位于所述电极棒远离所述炉管工艺腔体一侧，所述炉管...
    2025-12-28
  • 一种填充罐、控制方法及薄膜沉积设备
    一种填充罐、控制方法及薄膜沉积设备_拓荆科技(上海)有限公司_202511045614.6
    本发明提供了一种填充罐、控制方法，以及一种薄膜沉积设备。一种填充罐包括：内壳，包括固定部及压缩部，其中，所述固定部的第一端与所述压缩部的第一端固定连接，以形成容纳反应物的容置腔；以及驱动气缸，其第一端与所述压缩部的第二端连接，其中，所述驱动...
    2025-12-28
  • 一种用于化学气相沉积法中的倾斜反应炉和料盒
    一种用于化学气相沉积法中的倾斜反应炉和料盒_江苏速升自动化装备股份有限公司_202410543243.3
    本发明公开了一种用于化学气相沉积法中的倾斜反应炉和料盒，其主要特征是生产装置包括料盒、封闭腔室、料盒输送装置和出料装置，封闭腔室包括入口端、出口端和中间管道，中间管道包括上层管道，上层管道包括倾斜反应炉；料盒在上层管道中的开口顷斜朝上，料盒...
    2025-12-28
  • 一种用于化学气相沉积法中的链式料盒及其出料方法
    一种用于化学气相沉积法中的链式料盒及其出料方法_江苏速升自动化装备股份有限公司_202410543245.2
    本发明公开了一种用于化学气相沉积法中的链式料盒及其出料方法，其生产装置包括料盒、封闭腔室、链式输送机和出料装置，封闭腔室包括入口端、出口端和中间管道，中间管道包括上层管道，上层管道包括反应炉，链式输送机包括链条和链轮；料盒固定于链条上，上层...
    2025-12-28
  • 一种基于卷对卷CVD镀膜的基材张力调节装置
    一种基于卷对卷CVD镀膜的基材张力调节装置_湖南玉丰真空科学技术有限公司_202511396646.0
    本发明涉及CVD镀膜技术领域，尤其涉及一种基于卷对卷CVD镀膜的基材张力调节装置，包括箱体、第一螺杆、管道和活动块，箱体内部安装有反应室，箱体内部安装有若干导向辊，若干所述导向辊之间安装有调节辊，箱体内部转动安装有第一螺杆，箱体内部滑动安装...
    2025-12-28
  • 改善化学镀渗液的方法及半导体器件的制备方法
    改善化学镀渗液的方法及半导体器件的制备方法_芯恩(青岛)集成电路有限公司_202511046464.0
    本发明提供一种改善化学镀渗液的方法及半导体器件的制备方法，通过将晶圆器件区域之外的Taiko区域的非镀面设置为相对于器件区域非镀面的阶梯式环状台阶面，并至少在最靠近器件区域的台阶面上设置环形沟槽，当保护膜完全贴附在晶圆非镀面后，Taiko区...
    2025-12-28
  • 一种碳纤维辊喷涂上镀生产工艺
    一种碳纤维辊喷涂上镀生产工艺_晋江市京阳胶辊制造有限公司_202511094999.5
    本发明公开了一种碳纤维辊表面复合化学镀生产工艺，包括等离子体刻蚀活化、催化活化、低温复合化学镀及后处理步骤。通过氩气/氧气混合等离子体刻蚀构建粗糙表面与含氧官能团，超声辅助钯‑锡催化增强结合锚点，在65‑85℃下结合动态旋转与脉冲搅拌沉积N...
    2025-12-28
  • 一种快速高磷化学镀镍液及其施镀工艺
    一种快速高磷化学镀镍液及其施镀工艺_广州鸿葳科技有限公司_202511406811.6
    本发明提供了一种快速高磷化学镀镍液及其施镀工艺，其中，所述快速高磷化学镀镍液的材料包括镍盐、还原剂、络合剂、缓冲剂、稳定剂以及表面活性剂。本发明通过调整配方中络合剂、缓冲剂、稳定剂、助剂以及表面活性剂等的组成，可以显著提升快速高磷化学镀镍液...
    2025-12-28
  • 一种PCB镭射钻孔前铜表面预处理方法
    一种PCB镭射钻孔前铜表面预处理方法_广东依顿电子科技股份有限公司_202510986273.6
    本发明涉及一种PCB镭射钻孔前铜表面预处理方法，所述方法包括磨刷处理、超声波水洗、酸洗处理、第一次水洗、碱洗处理、第二次水洗、棕化处理、第三次水洗、以及烘干；其中，酸洗处理时使用复合酸洗液对PCB的铜表面进行清洗，所述复合酸洗液包括硫酸和双...
    2025-12-28
  • 一种基于分段电流电镀的金银合金凸块化镀镍金防腐方法
    一种基于分段电流电镀的金银合金凸块化镀镍金防腐方法_江苏晶度半导体科技有限公司_202510817695.0
    本发明公开了一种基于分段电流电镀的金银合金凸块化镀镍金防腐方法，包括以下步骤：在包含金盐和银盐的Au/Ag合金镀液中对基材进行电镀处理；电镀过程中包括两个阶段，分别设置不同的电流密度：第一阶段采用第一电流密度进行合金电沉积；第二阶段在合金层...
    2025-12-28
  • 一种基于分段电流电镀的金银合金凸块化镀镍钯金防腐方法
    一种基于分段电流电镀的金银合金凸块化镀镍钯金防腐方法_江苏晶度半导体科技有限公司_202510817698.4
    本发明公开了一种基于分段电流电镀的金银合金凸块化镀镍钯金防腐方法，包括以下步骤：在包含金盐和银盐的Au/Ag合金镀液中对基材进行电镀处理；电镀过程中包括两个阶段，分别设置不同的电流密度：第一阶段采用第一电流密度进行合金电沉积；第二阶段在合金...
    2025-12-28
  • 一种基于分段电流电镀的金银合金凸块化镀金防腐方法
    一种基于分段电流电镀的金银合金凸块化镀金防腐方法_江苏晶度半导体科技有限公司_202510817701.2
    本发明公开了一种基于分段电流电镀的金银合金凸块化镀金防腐方法，包括以下步骤：在包含金盐和银盐的Au/Ag合金镀液中对基材进行电镀处理；电镀过程中包括两个阶段，分别设置不同的电流密度：第一阶段采用第一电流密度进行合金电沉积；第二阶段在合金层形...
    2025-12-28
  • 一种铜箔硅烷化处理装置及处理方法
    一种铜箔硅烷化处理装置及处理方法_江西杭电铜箔有限公司_202511048818.5
    本发明涉及铜箔表面处理技术领域，提供一种铜箔硅烷化处理装置及处理方法，铜箔硅烷化处理装置包括浸泡设备及辊体定位设备，浸泡设备内设置处理槽，处理槽连通注液腔，注液腔连通注液管，注液腔连通第一取样管，第一取样管连通第一溢流管，第一取样管连通第一...
    2025-12-28
  • 锂金属负极表面处理液及其应用
    锂金属负极表面处理液及其应用_新源清材科技(北京)有限公司_202510739902.5
    本发明涉及锂离子电池技术领域，尤其涉及锂金属负极表面处理液及其应用。锂金属负极表面处理液包括：磺酰亚胺类化合物、含硝酸根的物质和醚类有机溶剂；其中，所述磺酰亚胺类化合物的结构式为；其中，R1和R2各自独立、相同或不同地选自氟原子、被氟原子取...
    2025-12-28
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