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最新专利技术
  • 一种镁合金表面复合膜及其制备方法
    一种镁合金表面复合膜及其制备方法_中国第一汽车股份有限公司_202511780131.0
    本发明涉及金属表面处理技术领域，尤其是涉及一种镁合金表面复合膜及其制备方法。本发明提供的镁合金表面复合膜的制备方法，包括以下步骤：将镁合金基体依次进行表面脱脂、酸洗活化、采用第一钝化剂进行第一钝化、采用第二钝化剂进行第二钝化和封孔处理；其中...
    2026-03-20
  • 基于静电协同自组装的金属表面防护镀液及其制备方法、处理方法和制品
    基于静电协同自组装的金属表面防护镀液及其制备方法、处理方法和制品_北京科技大学_202512010862.3
    本发明公开了一种基于静电协同自组装的金属表面防护镀液及其制备方法、处理方法和制品，属于金属材料表面处理与防护技术领域。所述镀液包含至少一种在成膜条件下带负电的第一硅烷、至少一种带正电的第二硅烷、pH调节剂、醇溶剂和水；通过pH调节使两类硅烷...
    2026-03-20
  • 一种铱钽复合涂层钛阳极及其制备方法
    一种铱钽复合涂层钛阳极及其制备方法_默内克新材料(镇江)有限公司_202511960726.4
    本发明提供一种铱钽复合涂层钛阳极及其制备方法，制备方法包括以下步骤：S1.对钛板的表面进行高压喷砂处理，得到钛板一；S2.将钛板一置于有机溶剂中，室温浸泡10‑20分钟后取出得到钛板二；S3.将钛板二置于草酸溶液中，70‑80℃下浸泡80‑...
    2026-03-20
  • 负载锁定室系统及其控制方法
    负载锁定室系统及其控制方法_盛吉盛(韩国)半导体科技有限公司_202511191000.9
    本发明涉及负载锁定室系统及其控制方法，提供一种防止颗粒附着并污染基板且提高单位时间的基板供给量的负载锁定室系统及其控制方法，该系统包括预热室，所述预热室包括：预热室外壳，其内部形成有能够与外部隔绝且用于容纳基板的容纳空间；压力调节部，其在所...
    2026-03-20
  • 一种气体输送装置、方法及半导体工艺设备
    一种气体输送装置、方法及半导体工艺设备_拓荆科技(上海)有限公司_202511821587.7
    本申请涉及一种气体输送装置、方法及半导体工艺设备，该输送装置包括气体管道、螺旋扇叶结构以及弹簧组件；所述螺旋扇叶结构设置在所述气体管道内，用于混合至少两种气体；所述弹簧组件安装在所述螺旋扇叶结构的两端，用于在经过气体流动时发生形变以产生弹性...
    2026-03-20
  • 膜层制备方法及半导体工艺设备
    膜层制备方法及半导体工艺设备_北京集成电路装备创新中心有限公司_202511676952.X
    本发明提供了膜层制备方法及半导体工艺设备；其中，在膜层制备方法中，获取基底，并采用原子层沉积技术在基底上进行薄膜沉积；在沉积过程中，按照循环次数生成多个沉积层，并通过多个沉积层形成膜层；其中，在每个沉积层生成后，均执行颗粒清扫步骤，该颗粒清...
    2026-03-20
  • 氧化铝膜层的制备方法及半导体工艺设备
    氧化铝膜层的制备方法及半导体工艺设备_北京集成电路装备创新中心有限公司_202511567982.7
    本发明提供了氧化铝膜层的制备方法及半导体工艺设备；其中，在氧化铝膜层的制备方法中，获取基底和工艺配方；其中，工艺配方包括至少一个工艺循环，在工艺循环中，首先通入三甲基铝，然后进行第一吹扫，接着通入水蒸气，最后进行第二吹扫；三甲基铝的脉冲时间...
    2026-03-20
  • 一种多站式工艺腔及半导体器件的加工设备
    一种多站式工艺腔及半导体器件的加工设备_拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司_202511783323.7
    本发明提供了一种多站式工艺腔及半导体器件的加工设备。多站式工艺腔包括：第一半腔，包括分隔部，其中，所述分隔部包括第一金属环和多块金属挡板，所述第一金属环位于所述第一半腔的中心，所述多块金属挡板环绕所述第一金属环，其第一端连接所述第一金属环，...
    2026-03-20
  • 一种高纯钨钼合金的制备方法
    一种高纯钨钼合金的制备方法_中船(邯郸)派瑞特种气体股份有限公司_202511576611.5
    本申请具体涉及一种高纯钨钼合金的制备方法，具体为：步骤S1.除杂预处理：将三甲基钨和二乙基钼分别进行纯化；步骤S2.低温活化处理：将纯化后的三甲基钨和二乙基钼在氢气的辅助下进行等离子活化；步骤S3.混料处理：经过活化后的混合物通入混合装置进...
    2026-03-20
  • MOCVD薄膜沉积装置和沉积方法
    MOCVD薄膜沉积装置和沉积方法_电子科技大学_202512028167.X
    MOCVD薄膜沉积装置，涉及薄膜制备技术领域，本发明包括下述部分：反应腔(4)，其具有进气口和排气口；左右两个带轮(2)，带轮表面设有多个定位槽，用于限制带材位移；反应腔(4)和带轮(2)与安装架连接，所述安装架上还装有带材张紧结构。本发明...
    2026-03-20
  • 一种自动化铜箔卷绕镀膜装置及其方法
    一种自动化铜箔卷绕镀膜装置及其方法_广东嘉元科技股份有限公司_202511892055.2
    本发明的一种自动化铜箔卷绕镀膜装置及其方法，属于自动化铜箔卷绕镀膜技术领域，包括以下步骤：数据采集：通过非接触式轮廓感测架实时监测铜箔在宽度方向的平整度轮廓，获取实时形貌阵列；误差计算：控制器将所述实时形貌阵列与基于全局基准张力计算的理论悬...
    2026-03-20
  • 用于蒸发镀膜的控制方法、蒸发镀膜系统
    用于蒸发镀膜的控制方法、蒸发镀膜系统_深圳市捷佳芯创科技有限责任公司_202511840117.5
    本发明提出了一种用于蒸发镀膜的控制方法、蒸发镀膜系统。其中用于蒸发镀膜的控制方法，包括：步骤1，预先采集蒸发镀膜设备的加热器的温度、加热参数与蒸发速率的对应关系；步骤2，基于所述对应关系，采用阶跃提升蒸发镀膜设备的加热器的加热参数的数值的方...
    2026-03-20
  • 载具、镀膜设备及其控制方法
    载具、镀膜设备及其控制方法_江苏微导纳米科技股份有限公司_202610076563.1
    本申请公开了载具、镀膜设备及其控制方法。载具包括多个第一极板、多个第二极板、第一导电块、第二导电块、第三导电块和第四导电块。第一极板和第二极板在第二方向上交替间隔设置。第一导电块设置于相邻第一极板之间靠近第一端的一侧，第二导电块设置于相邻第...
    2026-03-20
  • 一种工件装载架及真空处理设备
    一种工件装载架及真空处理设备_光驰科技(上海)有限公司_202511977682.6
    本发明涉及真空处理技术领域，公开了一种工件装载架及真空处理设备, 该工件装载架包括驱动组件、传动架、伞架组件、料串轴组件和传动组件；驱动组件和传动架均设于真空腔室；伞架组件设于驱动组件的驱动端；料串轴组件转动设于伞架组件上；若干个料串轴组件...
    2026-03-20
  • 一种能够匹配不同光学镜头的夹持固定工装
    一种能够匹配不同光学镜头的夹持固定工装_深圳市磐锋精密技术有限公司_202511853025.0
    本发明公开了一种能够匹配不同光学镜头的夹持固定工装，其包括横向固定设置有多个导向件的支撑导向组件、分别活动环绕设置在支撑导向组件上的多个夹持组件以及环绕设置在多个夹持组件上的复位件；夹持组件包括导向块，其滑动连接在对应的导向件上；固定连接在...
    2026-03-20
  • 一种用于在回转体类零件表面涂镀类金刚石膜层的装置
    一种用于在回转体类零件表面涂镀类金刚石膜层的装置_中航贵州飞机有限责任公司_202511658449.1
    本发明公开了一种用于在回转体类零件表面涂镀类金刚石膜层的装置，属于涂层技术领域。该装置包括转动设置的主撑杆和固定的侧撑杆。主撑杆上安装有若干三维旋转部件，每个部件包括旋转架和环绕分布的零件筒。侧撑杆上设有与三维旋转部件一一对应的拨片机构。通...
    2026-03-20
  • 一种应用于风力发电工件具有柔性防护结构的工作框架
    一种应用于风力发电工件具有柔性防护结构的工作框架_华能西藏雅鲁藏布江水电开发投资有限公司_202511642372.9
    本发明涉及表面处理技术领域，具体为一种应用于风力发电工件具有柔性防护结构的工作框架，包括真空镀覆装置，所述真空镀覆装置内部的顶部和底部均栓接有固定框架，两个固定框架相对的一侧之间转动连接有工作结构框架；所述工作结构框架包括两个支板，两个支板...
    2026-03-20
  • 在工程结构表面沉积多层DLC膜层的方法及半导体设备
    在工程结构表面沉积多层DLC膜层的方法及半导体设备_江苏鲁汶仪器股份有限公司_202411164106.5
    本发明提供了一种在工程结构表面沉积多层DLC膜层的方法及半导体设备，涉及半导体技术领域。形成的粗化表面有助于消除DLC膜层沉积产生的界面应力，且有助于增加后续DLC膜层的沉积厚度。形成的C原子扩散分布层可增加与含C的DLC膜层的界面粘着力。...
    2026-03-20
  • 一种高透光光学镀膜材料及其制备方法
    一种高透光光学镀膜材料及其制备方法_盱眙新远光学科技有限公司_202610149288.1
    本发明涉及光学镀膜材料技术领域，具体为一种高透光光学镀膜材料及其制备方法。本发明克服了现有光学镀膜材料透光性低和附着力差的技术问题。本发明对光学基材进行离子清洗及HMDS原位等离子体接枝；利用高功率脉冲磁控溅射沉积ZrO2掺杂Nb2O5应力...
    2026-03-20
  • 一种增强太赫兹发射的氧化铟锡薄膜及其制备方法
    一种增强太赫兹发射的氧化铟锡薄膜及其制备方法_桂林电子科技大学_202610052959.2
    本发明提供了一种增强太赫兹发射的氧化铟锡薄膜及其制备方法，属于非线性光学及太赫兹技术领域。该方法采用磁控溅射工艺在基底上沉积氧化铟锡(ITO)薄膜；将薄膜置于真空环境中进行快速热退火处理。本发明的核心在于通过精确控制退火时间及退火温度，调控...
    2026-03-20
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