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最新专利技术
  • 控制装置
    控制装置_三菱电机楼宇解决方案株式会社_202380093668.2
    控制装置(20)具有门状态检测部(24)、电压指令部(27)、电压估计部(33)、电阻估计部(30)和温度估计部(31)。在由门状态检测部(24)检测到门(13)处于动作状态的情况下，电压估计部(33)估计母线电压值(Vdc^)。在由门状态...
    2026-01-20
  • 自由落体绞车
    自由落体绞车_比伯拉赫利勃海尔-部件股份有限公司_202480039496.5
    本发明涉及一种自由落体绞车，其具有卷筒，卷筒能够通过绞车驱动器经由多级行星传动机构旋转地驱动，其中行星传动机构的驱动级在输入侧连接到绞车驱动器并能够由运行制动器制停，并且行星传动机构的从动级在从动侧连接到卷筒，其中设有自由落体制动器，用于在...
    2026-01-20
  • 饮料容器连接构件
    饮料容器连接构件_微马蒂奇股份公司_202480040265.6
    本公开涉及一种连接构件(40)，该连接构件用于通过从停用位置移动到饮料容器中而至启用位置来打开饮料容器。连接构件(40)包括彼此固定地附接的第一部分(41)和第二部分(42)。第二部分(42)与第一部分(41)一起构造成在连接构件(40)的...
    2026-01-20
  • 容器附件
    容器附件_西尔茨&莱普有限责任公司_202480040123.X
    容器附件，其包括：配备有上盖面(7)和下盖面(8)的容器盖(9)；延伸穿过所述容器盖(9)的加压气体管路(10)，所述加压气体管路在上盖面(7)侧具有加压气体入口(11)并在下盖面(8)侧具有加压气体出口(12)；延伸穿过所述容器盖(9)的...
    2026-01-20
  • 具有提供电连接点的致动器定子的MEMS封装
    具有提供电连接点的致动器定子的MEMS封装_康诺特电子有限公司_202480038225.8
    MEMS器件设置有提供电连接点的致动器定子。MEMS器件包括配电基板和位于其上方的致动器定子。致动器定子具有底板和从底板向上延伸的外框架。MEMS器件包括设置在外部框架上并且在配电基板上方的定子焊盘。MEMS器件还包括悬置在底板上方、在外框...
    2026-01-20
  • 基于MOF的金属硒化物-碳材料的合成
    基于MOF的金属硒化物-碳材料的合成_伊诺努大学校长办公室_202480039620.8
    本发明涉及以高收率合成ZIF‑11、ZIF‑12或非晶ZIF结构的纯金属或多金属衍生物，随后在惰性条件下煅烧，以在复合纳米结构中产生一种或多种金属硒化物，其分散在碳基体表面或嵌入该基体中，以及将这些复合材料用作锂离子电池、钠离子电池、钾离子...
    2026-01-20
  • 制备碱金属或碱土金属双(氟磺酰)亚胺的碳酸酯溶液的方法
    制备碱金属或碱土金属双(氟磺酰)亚胺的碳酸酯溶液的方法_EPCHEMTECH股份有限公司_202380099119.6
    本发明涉及一种制备碱金属或碱土金属双(氟磺酰)亚胺的碳酸酯溶液的方法，涉及通过在碳酸酯和除碳酸酯以外的溶剂中制备碱金属或碱土金属双(氟磺酰)亚胺，然后去除除碳酸酯以外的溶剂来得到碱金属或碱土金属双(氟磺酰)亚胺的碳酸酯溶液的方法。
    2026-01-20
  • 磷酸铁锂的制备方法、正极活性材料、正极极片、电池和用电装置
    磷酸铁锂的制备方法、正极活性材料、正极极片、电池和用电装置_宁德时代新能源科技股份有限公司_202480027345.8
    提供了一种磷酸铁锂的制备方法、正极活性材料、正极极片、电池和用电装置。该磷酸铁锂的制备方法包括：将第一铁源、第二铁源、锂源、磷源溶解在溶剂中，得到混合浆料；将混合浆料经过烧结处理，得到磷酸铁锂；其中，所述第一铁源包括氧化铁或第一磷酸铁中的至...
    2026-01-20
  • 官能化碳纳米结构
    官能化碳纳米结构_卡纳图芬兰有限公司_202480039396.2
    本发明公开一种用于生产官能化碳纳米结构膜的方法。所述方法包括：‑提供包括附着至支撑物的碳纳米结构膜的电极，‑在含有水及至少一种重氮化合物的浴中对电极进行电接枝工艺，‑使用电位脉冲进行电接枝工艺，其中，每个电位脉冲由导通时间及关断时间组成，导...
    2026-01-20
  • 含硅沥青基复合粉末及其生产和使用方法
    含硅沥青基复合粉末及其生产和使用方法_埃克森美孚技术与工程公司_202480039809.7
    复合粉末可以通过在碾磨条件下将硅颗粒与石油沥青共混来形成。所述复合粉末可以包含至多约50重量%的硅颗粒，基于所述复合粉末的总质量，和约15重量%至约95重量%的石油沥青，基于所述复合粉末的总质量，和任选地，至多80重量%的石墨颗粒。所述硅颗...
    2026-01-20
  • 一氧化碳或合成气的生产方法以及化工产品、甲烷或丙烷的生产方法
    一氧化碳或合成气的生产方法以及化工产品、甲烷或丙烷的生产方法_株式会社伊原工业_202480037970.0
    本发明提供了一种水生成顾虑较少的一氧化碳或合成气的新方法。通过应用该方法，在碳氢化合物氧化反应后生成的CO22循环利用过程中，基本上无需外部供应氢气。在实质上无水的条件下，在同一反应器内依次进行式(1)(→C＋)和式(2)所示的反应，这些反...
    2026-01-20
  • 气凝胶及其制造方法
    气凝胶及其制造方法_天穆法可特利股份有限公司_202480040215.8
    本发明提供一种气凝胶及其制造方法，特别是通过实现优化可见光照射时的全光线透射率的参数，即使是比较大的面积(具体而言，包括300mm见方的正方形表面区域的大小)，也能够以高成品率提供具有不存在裂纹等缺陷的完好状态的气凝胶。一种气凝胶，其含有S...
    2026-01-20
  • 表面处理中空二氧化硅和表面处理中空二氧化硅的制造方法
    表面处理中空二氧化硅和表面处理中空二氧化硅的制造方法_AGC株式会社_202480039356.8
    本发明涉及一种表面处理中空二氧化硅，其色谱中的胺的峰面积为理论值的70%以上，对称系数S为8以下。另外，本发明还涉及该表面处理中空二氧化硅的制造方法，其包括对未处理的中空二氧化硅进行表面处理，其中，将该表面处理中使用的硅烷偶联剂的分子量除以...
    2026-01-20
  • 纳米颗粒的纯化方法、纳米颗粒组合物和纳米颗粒组合物的制造方法
    纳米颗粒的纯化方法、纳米颗粒组合物和纳米颗粒组合物的制造方法_佳能株式会社_202480033439.6
    提供一种纳米颗粒的纯化方法，该方法包括：制备纳米颗粒的步骤，该纳米颗粒包含钙钛矿型晶体结构作为同素异形体并且表现出多个晶体结构；制备配体溶液的步骤，该配体溶液包含相对介电常数为规定值以下的溶剂和缔合性配体，该缔合性配体具有包含多个碳的主链和...
    2026-01-20
  • 纯水制造装置
    纯水制造装置_奥加诺株式会社_202480040590.2
    本发明提供一种纯水制造装置，其能够在各去离子水制造装置中实现足够快的流速，并且能够抑制施加过高的压力而使去离子水制造装置损伤。纯水制造装置具有：升压泵(3)，其配置于去离子水制造装置(1、2)彼此之间；以及压力计(4b)，其配置于升压泵3与...
    2026-01-20
  • 羟基及卤化物浓度降低的二氧化钛-二氧化硅玻璃及其制造方法
    羟基及卤化物浓度降低的二氧化钛-二氧化硅玻璃及其制造方法_康宁公司_202480040345.1
    本公开提供一种玻璃体，其包括二氧化钛和二氧化硅，其中所述玻璃体的多个区段的平均羟基浓度为约0 ppm至约100 ppm，且所述多个区段的羟基浓度峰谷值为约60 ppm或更低，所述羟基浓度是使用透射傅里叶变换红外光谱法进行测量，且所述多个区段...
    2026-01-20
  • 半导体元件被覆用玻璃以及半导体元件被覆用烧结体
    半导体元件被覆用玻璃以及半导体元件被覆用烧结体_日本电气硝子株式会社_202480037730.0
    本发明提供一种环境负荷小、在熔融工序中不易失透的半导体元件被覆用玻璃。本发明的半导体元件被覆用玻璃的特征在于，作为玻璃组成，以摩尔％计含有：(SiO22+ZnO) 40%~75%、B22O33 0~20%、Al22O33 5%~15%、(M...
    2026-01-20
  • 将温度调节中空结构结合到基板中、特别是结合到用于EUV投射曝光设备的光学元件的基板中的方法及其加工系统、制造光学元件的方法和基板、光学元件和半导体技术设备以及结构化电子部件
    将温度调节中空结构结合到基板中、特别是结合到用于EUV投射曝光设备的光学元件的基板中的方法及其加工系统、制造光学元件的方法和基板、光学元件和半导体技术设备以及结构化电子部件_卡尔蔡司SMT有限责任公司_202480039993.5
    本发明涉及一种将温度调节中空结构(22)结合到EUV投射曝光设备的反射镜(10)的基板(12)中的方法，包括以下步骤：(A)提供由基板材料12a构成的基板(12)；(B)将处理光束(46)逐渐聚焦到将要产生温度调节中空结构(22)的加工位置...
    2026-01-20
  • 制造光学元件的反射镜基板的方法、光学元件和投射曝光设备
    制造光学元件的反射镜基板的方法、光学元件和投射曝光设备_卡尔蔡司SMT有限责任公司_202480039294.0
    本发明涉及一种制造投射曝光设备、尤其是EUV投射曝光设备(100)的光学元件的反射镜基板(201、301、401、501)的方法，该反射镜基板包含第一部件(202、402、502)和至少一个第二部件(204、304、404、504)，其中该...
    2026-01-20
  • 使用氨对活化黏土的颜色优化
    使用氨对活化黏土的颜色优化_蒂森克虏伯伯利休斯有限公司_202480040781.9
    本发明涉及一种用于活化黏土的装置，所述装置包括用于热活化的活化装置和位于所述活化装置下游的颜色优化装置30，其特征在于，所述颜色优化装置30具有用于氨或含NH33化合物的进料口31。
    2026-01-20
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