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最新专利技术
  • 一种显示面板及装置
    一种显示面板及装置_天马新型显示技术研究院(厦门)有限公司_202511977885.5
    本申请实施例提供一种显示面板及装置。其中，显示面板包括：第一基板、显示层、反射层及纹理层。显示层位于所述第一基板的一侧，所述显示层包括多个像素单元。反射层位于所述显示层背离所述第一基板的一侧，所述反射层包括第一反射部。纹理层位于所述反射层背...
    2026-03-18
  • 一种太赫兹液晶可调分束器及其制备方法
    一种太赫兹液晶可调分束器及其制备方法_哈尔滨工业大学_202511700478.X
    一种太赫兹液晶可调分束器及其制备方法，属于太赫兹调制器件技术领域。为解决太赫兹领域对通用性集成器件应用的问题。本发明第一石英基底、线栅透明电极层、第一聚酰亚胺取向层、电控液晶层、第二聚酰亚胺取向层、金属超构表面层、第二石英基底从上到下依次连...
    2026-03-18
  • 一种聚合物氮化硅异质集成的M-Z光波导声光开关
    一种聚合物氮化硅异质集成的M-Z光波导声光开关_深圳技术大学_202511706160.2
    本发明提供一种聚合物氮化硅异质集成的M‑Z光波导声光开关，包括：基底芯片，其包括无机衬底层、无机波导下包层以及波导芯层；波导芯层上形成有M‑Z光波导结构层；M‑Z光波导结构层上设有聚合物包层，其聚合物包层为穹顶结构，其上设有驱动层；其中，波...
    2026-03-18
  • 使连续体的光学特性适应不同波长的光的方法
    使连续体的光学特性适应不同波长的光的方法_马克斯-普朗克科学促进学会_202511123858.1
    为了使布置在谐振腔(2)中且包含非线性光学材料(7)的连续体(6)的光学特性适应沿光轴(3)穿过该连续体(6)的两种不同波长的光(8、9)，该连续体(6)沿光轴(3)具有总长度(30)，调节连续体(6)的第一区域(11)中的空间恒定温度(2...
    2026-03-18
  • 一种多波长纠缠光子对产生器及其产生方法
    一种多波长纠缠光子对产生器及其产生方法_北京大学_202511629184.2
    本发明提供一种多波长纠缠光子对产生器及其产生方法，第一谐振器与传输波导的耦合为过耦合状态，用于耦合吸收部分泵浦光能量；相位调制器用于对传输波导中剩余的泵浦光进行相位调制；第二谐振器与传输波导耦合，用于耦合吸收并谐振增强经相位调制器相位调制后...
    2026-03-18
  • 透镜驱动装置及包括该透镜驱动装置的相机模块和光学装置
    透镜驱动装置及包括该透镜驱动装置的相机模块和光学装置_LG伊诺特有限公司_202511548443.9
    实施例包括：壳体；布置在壳体中的线筒；布置在线筒的第一侧部上的第一线圈；布置在线筒的位于与第一侧部相对侧上的第二侧部上的第二线圈；面对第一线圈并布置在壳体中的第一磁体；面对第二线圈并布置在壳体中的第二磁体；耦接到线筒的第一弹性构件；包括耦接...
    2026-03-18
  • 一种基于凸轮曲线的变焦镜头光圈自动调节机构
    一种基于凸轮曲线的变焦镜头光圈自动调节机构_福建优恩立光电科技有限公司_202610058760.0
    本发明涉及光学镜头技术领域，提供了一种基于凸轮曲线的变焦镜头光圈自动调节机构，包括底座和光圈调节模块，光圈调节模块包括驱动件、传动环和叶片，所述驱动件用于控制传动环旋转，所述传动环表面设置有直线导轨，所述叶片滑动贴合于底座和传动环之间，所述...
    2026-03-18
  • 用于机动车的图像显示系统和具有图像显示系统的机动车
    用于机动车的图像显示系统和具有图像显示系统的机动车_韦巴斯托股份公司_202511123855.8
    本发明涉及一种用于机动车的图像显示系统，所述图像显示系统包括投影仪(18)和窗板组件(16)，所述窗板组件包括用于反射所述投影仪(18)的光射束的反射层(24)和用于吸收所述投影仪(18)的光射束的吸收层(26)，其特征在于，所述吸收层(2...
    2026-03-18
  • 镜片传动组件、投影显示装置及交通工具
    镜片传动组件、投影显示装置及交通工具_宁波翼程科技有限公司_202511743850.5
    本申请公开了一种镜片传动组件、投影显示装置及交通工具，包括壳体、蜗杆座、蜗杆、镜片、蜗杆弹片以及抵推件。蜗杆设置于蜗杆座。镜片设置于壳体。镜片包括蜗轮结构，蜗轮结构与蜗杆啮合。蜗杆弹片设置于蜗杆座，蜗杆弹片与蜗杆抵接。抵推件设置于壳体，抵推...
    2026-03-18
  • 一种光处理装置
    一种光处理装置_深圳市遇品科技有限公司_202311555171.6
    本申请实施例涉及灯光技术领域，公开了一种光处理装置，包括壳体、第一光源组件、光路处理组件和驱动装置。光路处理组件包括相互连接的第一透光件和第二透光件，第一透光件具有第一波纹结构，第二透光件具有第二波纹结构。第一光源组件发出的光线依次穿过第一...
    2026-03-18
  • 光源装置及光学系统
    光源装置及光学系统_深圳光峰科技股份有限公司_202411081271.4
    本申请公开了一种光源装置及光学系统，光源装置包括用于产生第一激光和第二激光的第一激光光源、合光件、荧光模组和光引导模组，合光件用于将第一激光和第二激光引导至荧光模组。荧光模组包括依次设置在第一激光和第二激光所在的光路上的收集透镜组件和色轮，...
    2026-03-18
  • 一种银幕及其制备方法和应用
    一种银幕及其制备方法和应用_深圳市光科全息技术有限公司_202511400047.1
    本发明属于投影显示设备技术领域，尤其涉及一种银幕及其制备方法和应用。一种银幕的制备方法，包括以下步骤：步骤(1)，配制金属浆料；步骤(2)，采用卷对卷涂布工艺，将所述金属浆料连续且均匀地涂布于柔性薄膜基材上，形成浆料涂层；步骤(3)，对涂布...
    2026-03-18
  • 投影幕布总成及车辆
    投影幕布总成及车辆_福耀玻璃工业集团股份有限公司_202511807342.9
    本申请提供一种投影幕布总成及车辆，投影幕布总成包括：幕布和导轨，第一驱动机构幕布沿其展开方向展开或沿着收卷方向收卷，其中，展开方向和收卷方向相反；导轨用于连接于第三方构件上，幕布展开或者收卷的过程中，导轨的延伸方向与幕布的展开方向和收卷方向...
    2026-03-18
  • EUV掩模基版及其制造方法、EUV掩模板及其制造方法
    EUV掩模基版及其制造方法、EUV掩模板及其制造方法_上海传芯半导体有限公司_202511946877.4
    一种EUV掩模基版及其制造方法，及EUV掩模板及其制造方法，该EUV掩模基版包括：透明基板、反射膜、保护层，以及，硅层和/或金属层，透明基板的一侧表面设置有反射膜，反射膜具有多层钼硅交替层，保护层设置在反射膜上，硅层和/或金属层设置在保护层...
    2026-03-18
  • 反射型EUV掩模板及其制造方法
    反射型EUV掩模板及其制造方法_上海传芯半导体有限公司_202511946921.1
    一种反射型EUV掩模板及其制造方法，该反射型EUV掩模板包括：透明基板、反射膜、保护层和图案化的吸收层，透明基板的一侧表面设置有反射膜，反射膜具有多层钼硅交替层，保护层设置在反射膜上，图案化的吸收层设置在保护层上，图案化的吸收层具有倾斜侧壁...
    2026-03-18
  • 光罩版图校正方法及其系统、设备、存储介质、程序产品
    光罩版图校正方法及其系统、设备、存储介质、程序产品_北京超弦存储器研究院_202411109831.2
    本公开涉及一种光罩版图校正方法及其系统、设备、存储介质、程序产品。该光罩版图校正方法包括：获取曲线型的光罩光学校正版图；对光罩光学校正版图进行曼哈顿化处理，得到曼哈顿化校正版图；对曼哈顿化校正版图进行电子束邻近效应校正，得到电子束校正版图；...
    2026-03-18
  • 一种孔的设计版图层的光学邻近修正方法
    一种孔的设计版图层的光学邻近修正方法_芯恩(青岛)集成电路有限公司_202411110428.1
    本发明提供一种孔的设计版图层的光学邻近修正方法，包括：确定孔的设计版图层的目标图形层；将孔的光罩层的每条边切割为至少两段，且每段均满足光罩规则检测的规则；根据目标图形层得到圆滑目标图形层，将圆滑目标图形层作为模拟轮廓层的目标图形层，在圆滑目...
    2026-03-18
  • 一种版图修正方法
    一种版图修正方法_上海华虹宏力半导体制造有限公司_202511687369.9
    本发明提供了一种版图修正方法，包括获取版图信息，包括原始版图信息和待修正版图信息，所述版图包括原始版图和对所述原始版图修改后的待修正版图，所述原始版图和所述待修正版图上包括不同图案，所述原始版图信息和所述待修正版图信息包括不同层级结构的节点...
    2026-03-18
  • 用于离子注入工艺的掩膜组板及使用方法
    用于离子注入工艺的掩膜组板及使用方法_上海先进半导体制造有限公司_202511613182.4
    本发明提供了一种用于离子注入工艺的掩膜组板及使用方法，包括零层掩模版和至少一当前掩模版；所述零层掩模版上设置有至少一个第一套刻标记，所述第一套刻标记为具有第一对称中心的第一旋转对称结构；所述当前掩模版上与所述至少一个第一套刻标记的对应位置设...
    2026-03-18
  • OMOG光掩模制造方法
    OMOG光掩模制造方法_上海传芯半导体有限公司_202511946847.3
    一种OMOG光掩模制造方法，包括以下步骤：提供透明基板；在透明基板上沉积具有预设厚度的硅层或钼层；对硅层进行图案化的钼聚焦离子束扫描，使Mo离子移动到被扫描的区域内的硅层中，形成图案化的钼硅化物层；或，对钼层进行图案化的硅聚焦离子束扫描，使...
    2026-03-18
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