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最新专利技术
  • 适用于宽温度范围的轻量化金属挡光刃口遮光罩及其制备方法
    适用于宽温度范围的轻量化金属挡光刃口遮光罩及其制备方法_中国科学院西安光学精密机械研究所_202512052522.7
    本发明提供了一种适用于宽温度范围的轻量化金属挡光刃口遮光罩及其制备方法，用于解决碳纤维材质的挡光条和金属材质的挡光刃口在连接时若采用螺钉、铆钉以及粘胶连接存在的各种技术问题。本发明提供的适用于宽温度范围的轻量化金属挡光刃口遮光罩，碳纤维挡光...
    2026-03-27
  • 基于光学相机的偏振镜片切入切出和自转机构及驱动方法
    基于光学相机的偏振镜片切入切出和自转机构及驱动方法_中国科学院西安光学精密机械研究所_202411300947.4
    本发明涉及一种基于光学相机的偏振镜片切入切出和自转机构以及采用该机构对偏振镜片进行驱动的方法，其目的是解决光电吊舱内部光学相机在复杂环境下，杂光影响成像质量的问题，同时还要保证相机在一般环境下的进光量；本发明工作时，控制器控制切入切出电机工...
    2026-03-27
  • 一种投影仪的侧投方法、装置、投影仪及介质
    一种投影仪的侧投方法、装置、投影仪及介质_天津一数光电科技有限公司_202511992431.5
    本申请实施例提供了一种投影仪的侧投方法、装置、投影仪及介质，涉及投影仪技术领域，技术方案包括：在投影仪向投影屏幕投影的过程中确定目标侧投角，目标侧投角为投影仪的光轴与投影屏幕的法线之间的夹角。然后依据各侧投角与旋转角之间的预设匹配关系，确定...
    2026-03-27
  • 一种显示组件及其制备方法以及对应投影模组
    一种显示组件及其制备方法以及对应投影模组_宁波舜宇光电信息有限公司_202411211027.5
    本申请公开了一种显示组件及其制备方法以及对应投影模组，涉及AR头戴设备领域；包括显示芯片；线路板组件；显示芯片上的第一侧边区域沿垂直于第一侧边区域的长度延伸方向设置有至少两组芯片电连接位组，每个芯片电连接位组包括多个沿第一侧边的延伸方向依次...
    2026-03-27
  • 机载投影仪
    机载投影仪_苏州长风航空电子有限公司_202511965704.7
    本发明涉及投影仪领域，具体是机载投影仪，包括微电光光学引擎、机箱组件和电源模块；支撑组件设置有光路通道，光路通道与支撑组件的表面形成投影口部，照明光学组件与支撑组件之间、和投影镜头与投影口部之间分别设置有减振泡棉；机箱组件内设置有多个隔振器...
    2026-03-27
  • 一种投影系统及其显示控制方法
    一种投影系统及其显示控制方法_青岛海信激光显示股份有限公司_202411313117.5
    本发明公开了一种投影系统及其显示控制方法，通过在投影系统中设置相位光调制器，起到整形和匀化光线的效果，可以代替照明光路中的扩散元件以及透镜组等的作用，简化光路设计，优化光学引擎的体积。将相位光调制器根据入射的合光光斑的分布进行分区之后，可以...
    2026-03-27
  • 用于运输工具内部空间的投影装置
    用于运输工具内部空间的投影装置_宝适汽车部件(太仓)有限公司_202511334342.1
    本发明涉及一种用于运输工具内部空间的投影装置。已知这种投影装置，其具有投影卷帘系统，该投影卷帘系统包括柔性的投影幅材，该柔性的投影幅材可卷起且可展开地保持在承载结构中。根据本发明，在相对的侧上，投影幅材分别由遮蔽系统侧置，遮蔽系统分别包括遮...
    2026-03-27
  • 一种芯片设计版图重复图形提取方法、设备及产品
    一种芯片设计版图重复图形提取方法、设备及产品_东方晶源微电子科技(上海)有限公司_202511999620.5
    本申请公开了一种芯片设计版图重复图形提取方法、设备及产品，涉及半导体计算光刻技术领域。该方法包括：从每个版图区域中，提取重复度满足预设条件的目标重复图形组。由于重复度是目标重复图形组在所述版图区域中的重复次数及每个目标复用图形组中的图形数量...
    2026-03-27
  • 一种具有光束压缩功能的复合膜层、掩膜结构及光刻方法
    一种具有光束压缩功能的复合膜层、掩膜结构及光刻方法_致虹医疗科技(深圳)有限公司_202511970141.0
    本申请提供一种具有光束压缩功能的复合膜层、掩膜结构及光刻方法，本申请中光束压缩功能的复合膜层应用了多层介质薄膜的波前调制技术和光束聚焦技术，复合膜层用于设置在掩膜板和被刻物之间，被刻物上设置有光刻胶层；复合膜层具有靠近掩膜板设置的入光侧和靠...
    2026-03-27
  • 一种硫化物薄膜灰度掩模
    一种硫化物薄膜灰度掩模_益阳市徕腾雷博科技有限公司_202511504551.6
    本发明专利公开了一种硫化物薄膜灰度掩模，具体涉及半导体技术领域。包括基底，所述基底上设有硫化物薄膜，所述硫化物薄膜由低晶格对称性或高原子排列无序性的硫化物制成。制作方法如下：清洗：将所述基底依次采用酒精、丙酮、酒精进行超声波清洗10分钟，继...
    2026-03-27
  • 检查装置
    检查装置_株式会社斯库林集团_202511057292.7
    本发明提供一种可对被检查物照射更均匀的光的检查装置。检查装置(1)包括：光源(11)、第一光导(12)、均化器(14)、傅立叶变换透镜部(13)、照明光学系统(17)、测定台、成像光学系统(21)、以及图像传感器(25)。光源(11)射出光...
    2026-03-27
  • 一种感光纳米晶体材料及其制备方法
    一种感光纳米晶体材料及其制备方法_合肥汉旸科技材料有限公司_202511926946.5
    本发明公开了一种感光纳米晶体材料及其制备方法，属于光刻胶生产工艺技术领域。为解决现有光刻胶材料光吸收效率低、分辨率不足和制备复杂的问题，本发明采用Hf/Zr混合金属醇盐前驱体，通过无水水解、两相反应、表面改性和光敏添加等步骤制备。具体包括：...
    2026-03-27
  • 一种高解析度高感光性高耐热性化学放大型正性紫外光刻胶及其制备与使用方法
    一种高解析度高感光性高耐热性化学放大型正性紫外光刻胶及其制备与使用方法_惠州城市职业学院(惠州商贸旅游高级职业技术学校)_202511974271.1
    本发明公开了一种高解析度、高感光性与高耐热性化学放大型正性紫外光刻胶及其制备与使用方法。该光刻胶组分包括：聚对羟基苯乙烯类聚合物树脂(15.0~25.0%)、酚醛树脂(10.0~20.0%)、光致产酸剂(PAG，0.5~1.5%)、有机碱(...
    2026-03-27
  • 制造固化膜的方法及其使用
    制造固化膜的方法及其使用_默克专利有限公司_202511541140.4
    本发明提供一种高膜密度、高膜硬度、高耐蚀刻性的固化膜的制造方法。一种制造固化膜的方法，包括(1)在基板的上方应用组合物(i)；(2)由组合物(i)形成含烃膜；以及(3)对含烃膜照射等离子体、电子束和/或离子，形成固化膜。该固化膜的使用。
    2026-03-27
  • 半导体基板用底涂剂及图案形成方法
    半导体基板用底涂剂及图案形成方法_日产化学株式会社_202512046304.2
    提供与抗蚀剂膜的密合性高，能够形成薄膜且形成良好的抗蚀剂图案的作为新的抗蚀剂图案用表面改性剂的半导体基板用底涂剂、在基板上依次叠层了表面改性剂和抗蚀剂图案的叠层基板、图案形成方法以及半导体装置的制造方法。一种抗蚀剂图案用表面改性剂，是在基板...
    2026-03-27
  • 光刻结构的制备方法及装置
    光刻结构的制备方法及装置_深圳光峰科技股份有限公司_202411288595.5
    本申请公开了一种光刻结构的制备方法及装置，包括：在光刻基底上涂覆光刻胶；针对光刻基底上划分的多个区域中的每个区域，以每个区域对应的烘烤参数对每个区域上的光刻胶进行前烘，得到具有设定对比度分布的光刻胶层；以每个区域对应的曝光剂量分布对每个区域...
    2026-03-27
  • 一种同步罩可调与分区排气剪切流变协同的旋涂成膜装置
    一种同步罩可调与分区排气剪切流变协同的旋涂成膜装置_大连理工大学_202511820383.1
    本发明公开了一种同步罩可调与分区排气剪切流变协同的旋涂成膜装置，包括旋涂主体、同步罩组件和边缘处理模块。本发明提出同步罩高度随主轴工况联动的高度调节机制，显著降低由外部扰动与边界层不稳引起的径向膜厚梯度，实现展液阶段快速铺展与稳态甩膜时的均...
    2026-03-27
  • 光刻胶涂覆工艺及晶圆
    光刻胶涂覆工艺及晶圆_颀中科技(苏州)有限公司_202610163196.9
    本发明揭示一种光刻胶涂覆工艺，包括步骤：向晶圆的第一表面喷涂光刻胶，第一表面具有边缘区域；停止喷涂光刻胶，控制晶圆保持第一高速，所述光刻胶铺展并覆盖第一表面；将晶圆的转速自第一高速提高至第一速度；对所述晶圆进行减速洗边处理，开启洗边液喷头，...
    2026-03-27
  • 一种等离子体光刻成像方法、装置及计算机可读介质
    一种等离子体光刻成像方法、装置及计算机可读介质_中国科学院微电子研究所_202411315589.4
    本申请提供一种等离子体光刻成像方法、装置及计算机可读介质，包括：获取等离子体光刻成像的成像结构的轴向方向，成像结构包括呈一维周期性变化的多个掩模图形，光线以和轴向方向呈预设的离轴角度的目标方向照射呈一维周期性变化的多个掩模图形，获得呈一维周...
    2026-03-27
  • 空间滤波器及其制备方法、激光直写系统、制造系统
    空间滤波器及其制备方法、激光直写系统、制造系统_张江国家实验室_202411319951.5
    本申请涉及集成电路技术领域，公开了一种空间滤波器及其制备方法、激光直写系统、制造系统，用于提高激光直写系统中空间滤波器与微反射镜阵列之间的精密对准。制备方法包括提供一基底，在基底的第一面沉积薄膜层，在薄膜层涂覆第一光刻胶层，利用微反射镜阵列...
    2026-03-27
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