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  • 本发明涉及石墨模具抛光技术领域,公开了一种精密石墨模具加工用CMP抛光机,包括底座,底座上端转动连接有放置盘,放置盘上开设有圆槽,放置盘上方滑动连接有抛光板,放置盘下端内壁上连接有内齿,内齿之间设置有旋转轨,旋转轨下端连接有旋转杆,旋转杆转...
  • 本发明公开了一种超声能场辅助研磨与抛光加工微球的装置及方法,所述装置包括上磨盘组件和下磨盘组件,待加工球体设置在所述上磨盘组件的上磨盘与所述下磨盘组件的下磨盘之间;所述上磨盘组件包括依次相连的传动组件、轴承组件、连接组件二、弹簧组件、上磨盘...
  • 本发明公开了一种用于控制钌阻挡层铜布线CMP碟形坑、蚀坑及界面腐蚀的方法,适用于14纳米及以下集成电路制造工艺。该方法通过将特定合成的TTAK缓蚀剂引入抛光液体系,利用其分子结构的定向吸附特性,选择性抑制铜的腐蚀反应,同时维持钌阻挡层与TE...
  • 本发明公开了一种双面研磨玻璃基板的研磨装置及其工作方法,涉及玻璃基板技术领域,包括六组面研磨设备机组,每组面研磨设备机组按照工序依次包括粗磨设备、细磨设备和抛光设备;六组面研磨设备机组依次编号为1‑6号面研磨设备机组,且每组面研磨设备机组相...
  • 本发明涉及自动化研磨设备技术领域,尤其涉及化学机械研磨装置。该化学机械研磨装置包括装夹座、研磨组件、研磨液喷射组件以及驱动模组,装夹座具有沿竖直方向延伸的装夹端面,装夹端面能够与产品的待固定端面可拆卸固定,研磨组件的研磨端与产品的待研磨端面...
  • 本申请涉及高精度工件研磨领域,提供一种用于航空航天零部件的研磨装置,包括行星轮、下研磨组件和上研磨组件;下研磨组件包括研磨座、下磨盘、太阳齿轮、内齿圈、第一转轴和第一驱动单元;第一转轴顶部设有卡槽;太阳齿轮设于第一转轴上;行星轮放置于下磨盘...
  • 本申请提供了一种用于电涡流传感器的大量程标定方法、测量方法及设备,其中,标定方法包括:获取电涡流传感器检测样本晶圆得到的基值量测信号和晶圆量测信号,计算晶圆量测信号和基值量测信号的差,得到用于表征样本晶圆上金属层产生的电涡流的涡流信号;将涡...
  • 本发明公开了一种超精密YIG单晶的研磨抛光加工方法,适用于液相外延法、熔盐法、浮动区熔法制备的平面钇铁石榴石单晶晶体(圆),该方法包括:对YIG单晶晶体进行研磨加工,控制晶体的厚度和总厚度偏差(TTV);再对YIG单晶晶体进行粗抛光,消除晶...
  • 本发明涉及先进光学制造技术领域,具体涉及一种去除量可调节的非牛顿流体抛光工具,包括:调节螺杆、中心开孔的刚性基板、非牛顿流体、橡胶膜片、中心开孔的刚性密封圈以及抛光垫;调节螺杆一端位于刚性基板的中心开孔内;调节螺杆和刚性基板连接;橡胶膜片的...
  • 本发明涉及抛光技术领域,且公开了一种表面厚度半连续制备的CMP抛光垫生产工艺,解决了现有技术存在表层和泡孔均匀性不足的问题。通过制备改性热塑性聚氨酯弹性体,其含聚醚型热塑性聚氨酯、乙烯‑醋酸乙烯共聚物、硅烷化纳米SiO2等,经原料预处理、硅...
  • 本发明属于磨床辅助设备技术领域,且公开了一种平面磨床工件装卸辅助平台,包括上料框,所述上料框的底部设有挡料组件,所述挡料组件的下方设有支撑架,所述支撑架顶部的两侧分别设有引导机构和移动机构。本发明通过利用移动机构、引导机构以及载料框,在进行...
  • 本发明公开了一种磨床砂轮动平衡在线调节装置,属于磨床砂轮动平衡调节技术领域,包括砂轮主体,所述砂轮主体的一侧设置有安装组件,所述安装组件远离砂轮主体的一侧设置有平衡组件,所述平衡组件远离安装组件的一侧设置有减振组件,所述安装组件包括第一安装...
  • 本发明涉及变电站开关刀闸触头维护技术领域,具体为一种变电站开关刀闸触头带电打磨装置,包括连接座、绝缘杆组和带电打磨机构,连接座底部呈法兰结构设计有四个螺孔,绝缘杆组螺纹内嵌设置在连接座上,带电打磨机构螺纹内嵌连接在绝缘杆组上,带电打磨机构包...
  • 本发明公开了一种平面柔性磨抛工具及其对工件的去除控制方法,该柔性磨抛工具,磨抛层结构分为两层,刚性层用以与工件接触的接触层,柔性层以充当中间层。将整个磨抛层粘接至连接板后,在刚性层表面利用激光切除出规则纹理以散发超精密加工过程中散发的热量。...
  • 本发明涉及一种用于将工具夹持在工具主轴上的方法,硬质精加工机床包括工具主轴和工具,工具主轴连接到驱动电机、具有圆柱形收纳支座和螺纹,收纳支座由用于工具的轴向邻接的邻接凸缘限制在工具主轴的一个轴向位置处,并且夹持螺母可旋拧到螺纹上并且轴向邻接...
  • 本发明属于轧辊磨床的轧辊驱动辅助结构技术领域,尤其涉及一种数控轧辊磨床轧辊驱动机构及其工作方法,轧辊驱动机构包括:定位座,连接座,压盖以及锁紧件;所述定位座上设置有定位槽,所述定位槽为与轧辊的轴头外轮廓相适配的弧型结构;所述连接座设置在所述...
  • 本发明提供了一种抛磨装置、样品抛磨方法及应用,所述的抛磨装置包括抛磨盘、机架、样品夹具与主推杆,所述机架位于所述抛磨盘的上方,所述样品夹具靠近抛磨盘设置,所述主推杆活动连接所述机架,并贯穿所述机架活动连接所述样品夹具,所述主推杆的外周壁还设...
  • 本发明涉及零件打磨控制的技术领域,且公开了基于AI的复杂曲面零部件自适应打磨控制系统及方法,所述系统包括曲面零部件打磨信息采集模块、曲面零部件打磨贴合状态控制模块、曲面零部件打磨状态控制模块;依据曲面零部件表面打磨点云位置物理特征信息、曲面...
  • 本发明公开了一种修整盘装置、化学机械研磨设备及修整盘装置的清理方法,所述修整盘装置包括:修整盘,其设置在研磨垫上,所述修整盘用于修整所述研磨垫;驱动机构,其设置在所述修整盘上,所述驱动机构包括:固定盘,所述固定盘用于与所述修整盘连接;导气单...
  • 本发明公开了一种带有压力检测的修整装置,包括:修整器驱动单元;修整器执行单元,通过输出轴与修整器驱动单元连接,在修整器驱动单元的驱动下可绕着自身轴线周向旋转,且该修整器执行单元在修整器底座的带动下可产生轴向下压力;传感器;动态力传导单元,设...
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