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最新专利技术
  • 真空挡板装置以及真空处理系统
    真空挡板装置以及真空处理系统_费勉仪器科技(上海)有限公司_202511456751.9
    本公开涉及真空设备技术领域，公开了一种真空挡板装置以及真空处理系统。真空挡板装置包括外套管、挡板组件、内磁套组件、外磁套组件、驱动装置以及传动组件。外套管用于形成真空腔。挡板组件包括挡板以及远端与挡板固定连接的驱动杆，驱动杆至少部分地设置在...
    2026-03-12
  • 一种光学镀膜设备智能控制方法及系统
    一种光学镀膜设备智能控制方法及系统_池州锐拂光学科技有限公司_202511979191.5
    本发明公开了一种光学镀膜设备智能控制方法及系统，涉及光学镀膜设备智能控制领域，用于提高复杂多层膜系镀膜的精度和稳定性，包括：获取记录数据；所述记录数据包括镀膜过程中光学膜厚监控系统输出的实时光信号强度值以及与当前层的沉积参数；根据所述记录数...
    2026-03-12
  • 一种线性蒸发源
    一种线性蒸发源_杭州众能光电科技有限公司_202610052471.X
    本发明涉及真空镀膜的技术领域，尤其涉及包括气化室、热源装置和均气装置。热源装置采用具有电流频率差的双感应线圈对坩埚进行复合加热，结合高频集肤效应与低频穿透效应，实现物料快速均匀蒸发。均气装置顶部设有线性出气口及可往复运动的修饰板，通过动态局...
    2026-03-12
  • 一种钛硅靶材及其制备方法与应用
    一种钛硅靶材及其制备方法与应用_苏州六九新材料科技有限公司_202511608513.5
    本申请涉及PVD镀膜的技术领域，具体公开了一种钛硅靶材及其制备方法与应用。本申请公开的钛硅靶材的制备方法，包括以下步骤：元素粉末混合均匀、SPS烧结、冷却至室温、机加工成成品；SPS烧结的工艺参数为：先在温度为700‑800℃条件下保温3‑...
    2026-03-12
  • 溅镀设备
    溅镀设备_AP系统股份有限公司_202511088764.5
    本公开涉及一种溅镀设备。根据本公开实施例的溅镀设备包括：腔室，被配置成提供处理空间；支撑件，设置在处理空间中以对衬底进行支撑；溅镀靶单元，被设置成面对所述支撑件；射频功率供应单元，被配置成向溅镀靶单元供应射频功率；以及第一电极单元，被配置成...
    2026-03-12
  • 一种卧式双面磁控溅射动态镀膜设备及其镀膜方法
    一种卧式双面磁控溅射动态镀膜设备及其镀膜方法_安徽极微半导体有限公司_202511632809.0
    本发明公开了一种卧式双面磁控溅射动态镀膜设备及其镀膜方法，包括依次横向设置的上下料台、进出口腔体、加热腔体、离子源腔体、Ti靶溅射腔体、隔离腔体、Cu靶溅射腔体和缓冲腔体，所述上下料台和进出口腔体之间设置有第一门阀，所述进出口腔体与加热腔体...
    2026-03-12
  • 一种高熵合金涂层及其原子级制造方法与在氢能领域中的应用
    一种高熵合金涂层及其原子级制造方法与在氢能领域中的应用_北京师范大学_202511691000.5
    本发明属于阻氢涂层技术领域，尤其涉及一种高熵合金涂层及其原子级制造方法与在氢能领域中的应用。与现有技术相比，本发明通过采用包含多种金属元素的高熵合金涂层引发晶格畸变效应，显著增加氢扩散阻力，其非晶/纳米晶结构可消除晶界缺陷，阻断氢渗透路径，...
    2026-03-12
  • 一种通过高功率脉冲磁控溅射和施加衬底偏压实现Nb3Sn薄膜低温制备的方法
    一种通过高功率脉冲磁控溅射和施加衬底偏压实现Nb3Sn薄膜低温制备的方法_哈尔滨工业大学_202511694650.5
    一种通过高功率脉冲磁控溅射和施加衬底偏压实现Nb33Sn薄膜低温制备的方法，它涉及一种实现Nb33Sn薄膜低温制备的方法。本发明要解决现有技术无法在低于800℃温度下，制备出具有优异超导性能的纯相Nb33Sn薄膜的问题。方法：一、衬底准备与...
    2026-03-12
  • 一种取片同步型八边溅射机
    一种取片同步型八边溅射机_苏州佑伦真空设备科技有限公司_202610038906.5
    本发明涉及溅射技术领域，具体为一种取片同步型八边溅射机，包括主腔体以及安装在其外侧的反应腔，且主腔体的中间内部连接有夹送运输机构，所述主腔体的正前方安装有加热腔，加热腔的上方固定有加热机构，且位于加热腔左侧的主腔体外侧安装有巡边定位腔，巡边...
    2026-03-12
  • 样品架、样品架驱动系统以及真空处理系统
    样品架、样品架驱动系统以及真空处理系统_费勉仪器科技(南京)有限公司_202511747239.X
    本公开涉及真空设备技术领域，公开了一种样品架、样品架驱动系统以及真空处理系统。样品架包括架体以及至少一层托爪。架体包括流体腔，用于流通冷却介质。至少一层托爪与架体连接并与架体热耦合，用于承载样品，并用于在样品和架体之间传导热量。
    2026-03-12
  • 一种真空镀膜设备及真空镀膜方法
    一种真空镀膜设备及真空镀膜方法_深圳市正和忠信股份有限公司_202511798738.1
    本发明涉及真空镀膜领域，其公开了一种真空镀膜设备，包括真空镀膜室，真空镀膜室内设置有底座，底座上设置有呈竖直布置且能够旋转的旋转盘，悬挂机构包括设置在旋转盘上表面且沿圆周方向阵列分布的多个悬挂构件，悬挂构件包括固定设置在旋转盘上表面的固定座...
    2026-03-12
  • 料框转架承载系统及镀膜设备
    料框转架承载系统及镀膜设备_光驰科技(上海)有限公司_202511828796.4
    本发明涉及真空处理技术领域，公开一种料框转架承载系统及镀膜设备，搬送模块与腔室对应设置，线性驱动组件用于搬送料框模块至相邻腔室，升降驱动组件控制线性驱动组件下降预设距离，转架与运输托盘上下分离，转架与底部旋转平台座接触使转架停止下降；升降驱...
    2026-03-12
  • 旋转装置及磁控溅射镀膜设备
    旋转装置及磁控溅射镀膜设备_深圳市捷佳芯创科技有限责任公司_202511957557.9
    本发明公开了一种旋转装置及磁控溅射镀膜设备，其中旋转装置包括磁流体组件、动力组件、传动组件以及绝缘环；磁流体组件包括磁流体座和磁流体轴，磁流体座安装于真空腔室的顶壁，磁流体轴沿竖直方向穿过磁流体座，磁流体轴与磁流体座之间设有轴承，磁流体轴的...
    2026-03-12
  • 一种一次成型3面布线PVD镀膜机及方法
    一种一次成型3面布线PVD镀膜机及方法_江苏智芯达科技有限公司_202511991023.8
    本发明公开了一种一次成型3面布线PVD镀膜机及方法，包括制程腔体模组、靶材模组、治具模组和机架模组。本发明中的一次成型3面布线PVD镀膜机采用滚筒式真空腔体设计的PVD溅射系统中，基材通过夹具固定并随腔体做圆周运动，可在单次工艺周期内实现基...
    2026-03-12
  • 一种薄膜沉积装置
    一种薄膜沉积装置_沈阳腾鳌真空技术有限公司_202610055416.6
    本发明提供了一种薄膜沉积装置，薄膜沉积技术领域；薄膜沉积装置包括：工作台、真空罐、真空盖、石英管、外罩筒、线圈组件、供气机构、抽气机构、样品台机构、敲击机构和升降机构；工作气体能够在电感耦合区域内被电离，以形成等离子体，进而实现使工作气体产...
    2026-03-12
  • 一种特种光学玻璃镀膜夹具
    一种特种光学玻璃镀膜夹具_湖北宣益科技有限公司_202511979150.6
    本发明公开了一种特种光学玻璃镀膜夹具，涉及特种光学玻璃镀膜加工技术领域，包括底板和玻璃本体，所述底板上端面左右对称固定有支撑板，所述支撑板上固定有气缸，所述气缸的输出端与固定板相互固定，所述固定板上固定有电机°。该特种光学玻璃镀膜夹具，通过...
    2026-03-12
  • 带有修正结构的真空镀膜机
    带有修正结构的真空镀膜机_成都四盛科技有限公司_202511605993.X
    本发明属于真空镀膜机技术领域，尤其为一种带有修正结构的真空镀膜机，包括真空仓，所述真空仓的侧壁上铰接有密封门，所述密封门的外壁上设置有用于观察加工状态的观察窗，所述真空仓的顶端固定连接有传动电机，且传动电机的主轴延伸至真空仓的内部并固定连接...
    2026-03-12
  • 一种基于原子层沉积与化镀工艺结合的硅通孔镀层成型方法
    一种基于原子层沉积与化镀工艺结合的硅通孔镀层成型方法_广西华芯振邦半导体有限公司_202511417798.4
    本发明公开了一种基于原子层沉积与化镀工艺结合的硅通孔镀层成型方法，涉及半导体制造领域，该基于原子层沉积与化镀工艺结合的硅通孔镀层成型方法，包括以下步骤：基材预处理、原子层沉积过渡层、过渡层活化、化学镀功能层以及后处理；本发明，原子层沉积过渡...
    2026-03-12
  • 一种用于MOCVD设备的冷却循环系统
    一种用于MOCVD设备的冷却循环系统_中国电子科技集团公司第四十八研究所_202511646753.4
    本发明公开了一种用于MOCVD设备的冷却循环系统，包括：水路阀组、感应电源冷却支路、换热器冷却支路和过滤器冷却支路；所述水路阀组和感应电源冷却支路均与厂务端冷却水路连接，所述水路阀组用于对MOCVD设备的反应室和辅助部件，所述感应电源冷却支...
    2026-03-12
  • 用于MOCVD设备的低热传导旋转导气座及MOCVD设备
    用于MOCVD设备的低热传导旋转导气座及MOCVD设备_一塔半导体(安徽)有限公司_202610052036.7
    本发明公开了一种用于MOCVD设备的低热传导旋转导气座及MOCVD设备，包括：基座接触座，其内部设有用于向基座输送气体的导气通道；导气管固定座，设置于所述基座接触座的下方；导气管，其上端与所述导气通道连通，且所述导气管的顶端抵接所述基座接触...
    2026-03-12
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