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  • 本申请提供了一种抗等离子腐蚀涂层缺陷修复方法。该方法包括:于基体表面形成所述抗等离子腐蚀涂层;采用光致发光光谱检测技术检测该涂层的缺陷,并对缺陷种类及缺陷大小进行分类标记;基于检测到的缺陷种类及缺陷大小,采用激光对各缺陷位置进行定点重熔,修...
  • 本发明涉及耐磨熔覆材料制备技术领域,尤其涉及一种特种修复用耐磨熔覆材料及其制备方法,该方法包括选取熔覆原料并预处理,获得陶瓷耐磨颗粒与金属结合基体,检测陶瓷耐磨颗粒表面粗糙度得到实际表面粗糙度,基于表面粗糙度阈值区间判定其是否合格;对合格陶...
  • 本申请提供了一种不锈钢制品及其制造方法。其中,所述不锈钢制品的制造方法包括降低不锈钢成型品的表层的铁含量,以得到处理后的不锈钢成型品;将所述处理后的不锈钢成型品置于具有氧气和蒸汽的混合气体中进行氧化处理,以在处理后的不锈钢成型品的表层形成具...
  • 本发明涉及一种提高触头局部渗碳淬火质量的工艺方法,通过采用先局部留量整体渗碳,再机械加工非渗碳部位、钻盲孔和切除工艺试料,最后零件局部超声频感应淬火+回火,实现零件的加工制造及渗碳淬火热处理,提高触头局部渗碳淬火质量,渗碳层深度、硬度性能及...
  • 本申请实施例公开了一种液压缸体内孔及配合件的表面强化方法、设备及介质,属于超声滚压技术领域,解决现有技术中单一表面强化技术无法满足苛刻工况需求的问题。包括,对液压缸体内孔及配合件进行氮化处理,并对氮化工艺参数及氮化层质量参数进行数据监测;对...
  • 本发明涉及一种高透射率线性渐变滤光片的制备方法,包括以下步骤S1,将清洗后的基片放置入磁控溅射仪中;S2,使用射频反应溅射法制备第一二氧化硅薄膜;S3,使用射频溅射法制备二氧化钛薄膜;S4,重复步骤S2和S3,直至完成n个周期的底层介质布拉...
  • 本发明公开了一种纳米陶瓷增强金属基涂层及其制备方法与应用,属于电磁轨道炮导轨材料技术领域,以第一NiCr合金为打底层,以第一TiN陶瓷相含量逐渐增加的第二NiCr合金为过渡层,以第二TiN陶瓷相均匀分布的第三NiCr合金为防护层,通过磁控喷...
  • 本申请提供了一种掩模板组件,包括:掩模板,具有相背设置的蒸镀面及非蒸镀面,所述蒸镀面用于面向待蒸镀基板,所述掩模板包括多个像素开口及非开口部;及支撑骨架,设于所述掩模板的非蒸镀面一侧,且被配置为用于在蒸镀过程中辅助所述掩模板与所述待蒸镀基板...
  • 本发明涉及表面工程防护技术领域,提出一种耐高电位腐蚀导电碳基涂层及其制备方法与应用,所述耐高电位腐蚀导电碳基涂层包括:通过等离子体辅助气相沉积技术在预设基体的表面形成类石墨非晶碳层;基于所述类石墨非晶碳层形成所述耐高电位腐蚀导电碳基涂层;所...
  • 本发明属于磁控溅射技术领域,涉及一种表面耐磨蚀活塞杆的制备方法和应用,涂层总厚度5.3μm左右,通过精确控制B、N元素含量以及沉积温度,成功在单层内诱导了以非晶BN为连续基体、以高熵氮化物纳米晶为弥散强化相的稳定复合结构。该方案通过形成“高...
  • 本发明提供了一种强韧一体低应力的超厚AlTiN基涂层及其制备方法与应用,属于表面工程与功能涂层技术领域。本发明的涂层通过高功率脉冲磁控溅射技术沉积得到,制备过程中采用辉光清洗与离子源清洗预处理增强膜基结合力;利用高功率脉冲磁控溅射技术的能量...
  • 一种常温ITO薄膜的制备方法,将待镀膜的电池中间体置于磁控溅射设备中,设定磁控溅射设备的溅射功率为100W~300W,腔室压强为0.1Pa~1Pa, 采用ITO陶瓷靶作为溅射源,向溅射腔室内通入溅射气体,溅射气体中含氧量为0.1%~1%,持...
  • 本发明涉及粒子加速器技术领域,特别是涉及一种用于在真空管道内壁制备复合涂层的方法及真空管道。制备方法包括:对真空管道的内壁进行粗糙化处理;将处理后的真空管道同轴安装于磁控溅射镀膜装置的螺线管内;采用磁控溅射镀膜工艺在真空管道的内壁镀Au膜;...
  • 本发明涉及粒子加速器技术领域,特别是涉及一种用于在真空管道内壁制备低阻抗复合吸气膜的方法。制备方法包括:对真空管道的内壁进行表面活化处理;采用磁控溅射镀膜工艺在真空管道的内壁沉积TiZrV吸气剂膜;采用磁控溅射镀膜工艺在TiZrV吸气剂膜背...
  • 本发明公开了一种耐腐蚀磨损的高熵合金涂层及其制备方法,高熵合金涂层设置在基体表面,基体表面依次设置Cr扩散层、TiVCr中熵合金中间层、TiVCrZrNb高熵合金扩散层、TiVCrZrNb高熵合金沉积层。制备方法包括以下步骤:在真空环境下,...
  • 本申请公开了一种可拆卸维护的离子源水冷机构,包括水冷接头、水冷导通板、绝缘通管结构、螺纹锁杆结构和绝缘管套结构。水冷接头供离子源底座处的水冷管插入接通,与水冷管间有密封结构;水冷导通板与水冷接头相对,有连接孔和水管接头;绝缘通管结构夹在两者...
  • 本申请涉及一种蒸镀挡板机构、蒸镀装置及蒸镀方法。蒸镀挡板机构包括:第一支架,用于装配于蒸镀腔中;以及角度限制板,可拆卸地设于第一支架上;角度限制板上设有间隔排布的多个蒸镀孔;蒸镀孔被配置为供蒸镀源蒸发出的物质呈圆锥形放射状穿过,而沉积在待成...
  • 本发明公开了一种低成本蒸镀工艺的碳纳米管传感器制备方法及利用该传感器检测Hg2+的方法,其中,低成本蒸镀工艺的碳纳米管传感器制备方法,包括以下步骤:S1、硅氧化片的清洗制备;S2、碳纳米管的生长制备;S3、铜网贴附及电极蒸镀;S4、纳米间隙...
  • 本发明公开了一种大尺寸真空蒸镀机的组装调试方法,通过靠近刀阀安装面的激光测距仪的度数确认各个工艺腔室或进料腔室的基准面高度,根据两个激光测距仪的读数差确定真空机械手与激光测距治具的偏差角度;通过真空机械手调节机构调整真空机械手并致使真空机械...
  • 本申请公开了一种蒸发镀膜设备的上下料装置,涉及光学器件加工的技术领域,包括座体和运输组件、升降组件、挡护组件和机械手;所述运输组件水平设置于所述壳体的一侧;所述挡护组件设置于所述运输组件的一侧,所述挡护组件与所述运输组件之间形成与导光板相适...
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