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最新专利技术
  • 一种GGH烟气换热器低泄漏风机冗余控制方法、系统、设备及存储介质
    一种GGH烟气换热器低泄漏风机冗余控制方法、系统、设备及存储介质_华能国际电力江苏能源开发有限公司南通电厂_202511152666.3
    本发明涉及烟气脱硫控制技术领域，特别是一种GGH烟气换热器低泄漏风机冗余控制方法、系统、设备及存储介质。针对传统单台低泄漏风机配置存在的单点故障风险和缺乏自动切换机制的问题，本发明构建双风机冗余配置，通过监测风机运行参数建立性能与系统泄漏率...
    2025-11-29
  • 一种碎矿及输送智能自动化控制系统
    一种碎矿及输送智能自动化控制系统_江西铜业股份有限公司_202511131477.8
    本发明提供一种碎矿及输送智能自动化控制系统，所述系统包括碎矿输送模块、控制模块和监控模块，所述控制模块包括主站控制器和分站控制器，所述主站控制器用于与分站控制器数据进行通讯和逻辑保护功能设定，所述分站控制器用于对碎矿输送模块的信号采集和控制...
    2025-11-29
  • 一种具有升降功能的实验水池的安全控制系统
    一种具有升降功能的实验水池的安全控制系统_香港科技大学(广州)_202511525407.0
    本申请提供的一种具有升降功能的实验水池的安全控制系统，该系统包括安装在实验水池底部的升降台，以及布置在实验水池周边的造波机。其中，升降台可与升降台控制器保持实时通信连接，而造波机则同样与造波机控制器建立了稳定的通信链路，并且，这两个控制器之...
    2025-11-29
  • 一种应用于大面阵图像传感器系统的可配置性高精度时间数字转换器
    一种应用于大面阵图像传感器系统的可配置性高精度时间数字转换器_金凤实验室_202511152599.5
    本发明涉及一种应用于大面阵图像传感器系统的可配置性高精度时间数字转换器，属于时间数字转换器技术领域，以解决传统TDC分辨率受工艺延迟限制、死区时间过长及资源效率与测量性能难以平衡的问题。本发明技术方案包括：多周期多耦合方法构建非均匀延迟链提...
    2025-11-29
  • 一种手表镜片内嵌标识的双面加工方法
    一种手表镜片内嵌标识的双面加工方法_伯恩精密(惠州)有限公司_202511226924.8
    本发明公开了一种手表镜片内嵌标识的双面加工方法，属于钟表加工技术领域。该方法包括：在手表镜片的用户面进行激光镭雕，形成刻线或数字；在镜片背面印刷环形视窗区域，使镭雕图案的投影位于视窗内；在用户面丝印环状油墨层以填充镭雕区域；最后通过抛光去除...
    2025-11-29
  • 基于多全息图的光学重建方法、装置及系统
    基于多全息图的光学重建方法、装置及系统_深圳大学_202511509688.0
    本发明涉及光学重建技术领域，揭露了一种基于多全息图的光学重建方法、装置及系统，该方法包括：获取目标灰度图像集合，将灰度图像集合中的每个灰度图像转换为全息图像，得到全息图像集；对全息图像集中每个全息图像的光场进行附加相位嵌入，得到复合全息图；...
    2025-11-29
  • 一种基于H-Net的双通道同步菲涅耳非相干相关全息成像方法
    一种基于H-Net的双通道同步菲涅耳非相干相关全息成像方法_广东工业大学_202511159680.6
    本发明公开了一种基于H‑Net的双通道同步菲涅耳非相干相关全息成像方法，包括以下步骤：步骤1)通过双通道偏振光路系统，在单次曝光下同步采集物体反射或自发光的0相移全息图与π/2相移全息图；步骤2)将步骤1采集的两幅全息图输入预训练的H‑Ne...
    2025-11-29
  • 改变显影磁辊导电方法的导电结构、硒鼓粉盒及导电方法
    改变显影磁辊导电方法的导电结构、硒鼓粉盒及导电方法_维盟智能电器(珠海)有限公司_202511423649.9
    本发明公开了一种改变显影磁辊导电方法的导电结构、硒鼓粉盒及导电方法，导电结构应用于硒鼓粉盒，导电结构包括导电端边盖以及导电体；导电体设置于导电端边盖上，导电体具有第一接触部以及第二接触部，第一接触部能够套设于定位结构上，第二接触部设置于导电...
    2025-11-29
  • 图像形成装置
    图像形成装置_佳能株式会社_202511353156.2
    本发明公开了图像形成装置。图像形成装置在经过了在转印材料上形成图像的第一图像形成操作与在第一图像形成操作之后执行的第二图像形成操作之间的中止时间之后的使感光鼓旋转的旋转操作中，基于关于感光鼓的使用历史信息和中止时间来控制感光鼓的旋转次数。
    2025-11-29
  • 成像设备
    成像设备_佳能株式会社_202510622139.8
    成像设备包括图像承载构件、带、外辊、内辊、张紧辊、输送辊对、包括凸部的引导构件、构造成驱动带的带驱动马达、构造成检测带驱动马达的扭矩的扭矩传感器、以及控制单元，该控制单元构造成在片材已到达转印夹持部之后基于扭矩传感器的检测结果执行输送控制，...
    2025-11-29
  • 结合物理模型的深度学习光刻热点检测方法及系统
    结合物理模型的深度学习光刻热点检测方法及系统_北京宽温微电子科技有限公司_202511525549.7
    本发明提供一种结合物理模型的深度学习光刻热点检测方法及系统，涉及光刻工艺技术领域，包括获取设计版图与掩膜版图数据，利用双物理场模型计算光强梯度与表面应力分布，形成物理敏感特征图；将特征图输入物理约束神经网络进行重构和映射；基于补偿状态序列构...
    2025-11-29
  • 版叉结构、掩模版传输装置及半导体设备
    版叉结构、掩模版传输装置及半导体设备_深圳市新凯来工业机器有限公司_202511513996.0
    本申请实施例提供一种版叉结构、掩模版传输装置及半导体设备。该版叉结构包括：版叉主体，版叉主体形成容纳掩模版的空间；两个夹爪组，两个夹爪组均与版叉主体转动连接；位置调节机构，位置调节机构设置于版叉主体，用于驱动两个夹爪组相对于版叉主体旋转预设...
    2025-11-29
  • 一种二维阵列型套刻误差光学测量标记设计方法及系统
    一种二维阵列型套刻误差光学测量标记设计方法及系统_南京航空航天大学_202511508917.7
    本发明公开一种二维阵列型套刻误差光学测量标记设计方法及系统，涉及集成电路工艺量测技术领域。所述方法包括：设计二维阵列型套刻误差光学测量标记，并构建套刻误差的表征方法；基于所述表征方法构建多目标优化模型；利用多目标多元宇宙优化算法对所述多目标...
    2025-11-29
  • 一种提升晶圆的关键尺寸均匀性的处理系统及处理方法
    一种提升晶圆的关键尺寸均匀性的处理系统及处理方法_合肥晶合集成电路股份有限公司_202511508899.2
    本发明提供了一种提升晶圆的关键尺寸均匀性的处理系统及处理方法，处理系统包括曝光模块，用以将监控图形曝光至掩模版的有效图形区域中；检测模块，用以获取监控图形的尺寸偏差数据，并对尺寸偏差数据进行检测，以确保尺寸偏差数据在预设范围之内；以及光刻模...
    2025-11-29
  • 一种显示面板的制造加工光刻方法及系统
    一种显示面板的制造加工光刻方法及系统_信联电子材料科技股份有限公司_202511499910.3
    本发明提供了一种显示面板的制造加工光刻方法及系统，涉及光刻加工技术领域。本发明通过对显示面板基板进行清洗、底涂及分区划分，形成覆盖全部曝光分区的可成像微标记，并依次成膜下层支撑胶与上层成像胶后量测厚度与均匀性；以微标记为成像对象进行在位采集...
    2025-11-29
  • 用于光刻的掩模数据处理方法及设备
    用于光刻的掩模数据处理方法及设备_光科芯图(北京)科技有限公司_202511365211.X
    本发明提供一种用于光刻的掩模数据处理方法及设备。应用于集成电路制造领域。该方法包括：S1，获取连续掩膜数据；S2，根据连续掩膜数据中各个孔位对应的透射率值确定离散阶梯值集合；S3，以离散阶梯值集合中的阶梯值为扩散目标，对连续掩膜数据进行误差...
    2025-11-29
  • 一种激光曝光设备及电路板生产工艺
    一种激光曝光设备及电路板生产工艺_杭州临安荣力电子有限公司_202511357032.1
    本申请公开了一种激光曝光设备及电路板生产工艺，包括：固定机架，所述固定机架的上表面处固定设置有激光曝光组件，所述固定机架处还设置有清洁模块，所述铜板承载组件由移动底座和承载板构成，为了解决现有技术中，普通的曝光设备在针对覆铜板进行照射曝光加...
    2025-11-29
  • 一种优化双显影晶圆加工工艺
    一种优化双显影晶圆加工工艺_博康(嘉兴)半导体科技有限公司_202511319059.1
    本发明提出一种优化双显影晶圆加工工艺，具体涉及于半导体加工技术领域, 所述优化双显影晶圆加工工艺包括以下步骤：S1.对晶圆表面进行清洗，清洗完毕后进行HMDS涂覆；S2.根据最佳转速与膜厚度的curve曲线确定膜厚度，并确定最佳软烤温度和最...
    2025-11-29
  • 一种多光束激光全息制造复周期光子晶体的系统及方法
    一种多光束激光全息制造复周期光子晶体的系统及方法_长春理工大学_202511299238.3
    本发明涉及光子晶体制造领域，具体涉及一种多光束激光全息制造复周期光子晶体系统及方法，次设有激光器、多光束生成元件、光束准直元件、位移台、空间光调制器、聚焦透镜、光刻胶板、多轴位移台、上位机；所述上位机用于控制位移台、空间光调制器、多轴位移台...
    2025-11-29
  • 光学邻近效应修正方法、装置、设备及存储介质
    光学邻近效应修正方法、装置、设备及存储介质_杭州富芯半导体有限公司_202511254725.8
    本申请涉及光学邻近效应修正方法、装置、设备及存储介质。该光学邻近效应修正方法包括：基于目标图案包括的多个图形，获得目标图案的第一修正依据；根据第一修正依据，从第一工艺补值表中确定第一修正依据对应的第一预设补值；以及根据第一预设补值，将对应目...
    2025-11-29
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