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最新专利技术
  • 图像形成装置
    图像形成装置_富士胶片商业创新有限公司_202411709645.2
    本发明公开了一种图像形成装置，具备：像保持体；显影装置，所述显影装置使显影剂附着在所述像保持体上；被安装部，所述被安装部用于安装收集有显影剂的筒状的显影剂收集容器；以及供给装置，所述供给装置将来自所述显影剂收集容器的显影剂供给至所述显影装置...
    2026-03-11
  • 图像形成装置
    图像形成装置_富士胶片商业创新有限公司_202411680273.5
    本发明公开了一种图像形成装置，具备：像保持体；显影装置，所述显影装置使显影剂附着在所述像保持体上；供给装置，所述供给装置向所述显影装置供给显影剂，并且具备供显影剂通过的显影剂用流路；以及气体用流路，所述气体用流路供从所述显影装置排出的气体通...
    2026-03-11
  • 图像形成装置
    图像形成装置_富士胶片商业创新有限公司_202411653500.5
    本发明公开了一种图像形成装置，具备：像保持体；显影装置，所述显影装置使显影剂附着在所述像保持体上；以及供给装置，所述供给装置具备供显影剂通过的显影剂用流路，向所述显影装置供给显影剂，且该供给装置在该显影剂用流路上设置有填充部分和下落部分，所...
    2026-03-11
  • 曝光头和包括曝光头的图像形成装置
    曝光头和包括曝光头的图像形成装置_佳能株式会社_202510677474.8
    本公开涉及曝光头和包括曝光头的图像形成装置。在基板上安装多个光发射芯片的情况下，存在从光发射芯片突出的粘合剂与相邻的光发射芯片接触并且影响相对于基板的光发射芯片的安装位置精度的风险。将基板和光发射芯片接合的粘合剂包括突出区域，如果从与基板的...
    2026-03-11
  • 发光模块、打印头及图像形成设备
    发光模块、打印头及图像形成设备_华为技术有限公司_202410710863.1
    本申请实施例提供一种发光模块、打印头及图像形成设备，涉及图像形成技术领域。该发光模块包括基板、驱动电路阵列和光源阵列。驱动电路阵列设置在光源阵列在第一方向上的侧方，驱动电路阵列与光源阵列在第一方向上的间隔大于0。光源阵列包括多个光源，驱动电...
    2026-03-11
  • 图像形成设备和盒组
    图像形成设备和盒组_佳能株式会社_202510714072.0
    一种图像形成设备的设备主体具有：用于安装第一调色剂盒的第一安装部分，第一安装部分具有电接触第一盒触点表面的第一端子；以及用于安装第二调色剂盒的第二安装部分，第二安装部分具有电接触第二盒触点表面的第二端子。当沿与安装方向平行的方向观察时，第一...
    2026-03-11
  • 图像形成系统及图像形成方法
    图像形成系统及图像形成方法_柯尼卡美能达株式会社_202510677449.X
    本发明的课题在于提供形成使图像不良减少的高画质的图像的图像形成系统及图像形成方法。本发明的图像形成系统是具备具有感光体的电子照相方式的图像形成装置、和静电荷图像显影用调色剂的图像形成系统，其特征在于，上述感光体具有感光层，上述感光层含有聚芳...
    2026-03-11
  • 图像形成装置
    图像形成装置_富士胶片商业创新有限公司_202411323960.1
    一种图像形成装置，其具备：复数个图像形成单元，分别具有复数个图像形成部和一次转印有由复数个所述图像形成部形成的色调剂像的中间转印体；传送带，能够传送二次转印有复数个所述图像形成单元各自的所述中间转印体的色调剂像的记录媒体，并且能够二次转印复...
    2026-03-11
  • 一种对准装置和掩膜版对准系统
    一种对准装置和掩膜版对准系统_上海新毅东半导体科技有限公司_202511584269.3
    本申请提供一种对准装置和掩膜版对准系统，涉及半导体技术领域，包括基板，基板上设置有反射镜组件、固定镜头组件、粗对准组件、精对准组件和相机组件，反射镜组件、固定镜头组件、粗对准组件和相机组件用于形成粗对准光路，反射镜组件、固定镜头组件、精对准...
    2026-03-11
  • 一种基于光刻机的自动化视觉对准方法、系统及存储介质
    一种基于光刻机的自动化视觉对准方法、系统及存储介质_辰瓴半导体(嘉兴)有限公司_202511487101.0
    本发明涉及一种基于光刻机的自动化视觉对准方法、系统及存储介质，涉及光学对准技术领域；自动化视觉对准方法，包括：根据预设的多光源视觉对焦机制对取像区域依次对焦，记录对应的全局对焦参数，并采集对应的原始单层图像；根据预设的图像清晰阈值筛选全部原...
    2026-03-11
  • 一种用于曝光机的曝光灯智能控制方法
    一种用于曝光机的曝光灯智能控制方法_苏州汇影光学技术有限公司_202511587255.7
    本发明涉及照片表面的定位技术领域，具体涉及一种用于曝光机的曝光灯智能控制方法，包括：获取真实标记模板在标记记号图像中的理论位置区域，以及标记记号图像中的若干个候选区域，根据每个候选区域与理论位置区域的差异，从所有候选区域中筛选出若干个备选标...
    2026-03-11
  • 全自动光刻机的高精度硅片承载结构
    全自动光刻机的高精度硅片承载结构_辰瓴半导体(嘉兴)有限公司_202511443042.7
    本发明涉及光刻机技术领域，具体公开了全自动光刻机的高精度硅片承载结构，包括安装台和一对第一直线电机；一对述第一直线电机平行设置在安装台顶面上，每个第一直线电机上均设置有至少两个承载台；安装台顶面安装有位于安装台顶部的光刻装置；光刻装置两侧对...
    2026-03-11
  • 基于微缩刻蚀-全息光刻融合的微缩图文加工方法及系统
    基于微缩刻蚀-全息光刻融合的微缩图文加工方法及系统_武汉瑞仕腾防伪科技有限公司_202511125551.5
    本发明属于光刻技术领域，公开了一种基于微缩刻蚀‑全息光刻融合的微缩图文加工方法，本发明提供了一种裸眼可见的光学全息效果和需要显微镜或其他特殊方法检测的微缩图文结合的技术方法，可以在具有全息微结构的镍板上植入微缩图文，将显性防伪和隐性防伪技术...
    2026-03-11
  • 温度控制装置
    温度控制装置_智慧星空(上海)工程技术有限公司_202510407797.5
    本申请公开了一种温度控制装置，涉及光刻设备相关技术领域，用于解决温度控制装置的中心区域对晶圆温度控制的效率低，而导致的晶圆的中心区域与边缘区域的温度均匀性较差的问题。本申请提供的温度控制装置包括安装座，具有承载面；预对准单元安装于承载面上；...
    2026-03-11
  • 调节装置及调节方法
    调节装置及调节方法_智慧星空(上海)工程技术有限公司_202411984863.7
    本申请提出一种调节装置及调节方法。该调节装置包括：固定框架，包括沿第一方向相对而设的第一侧部和第二侧部，以及沿第二方向相对而设的第三侧部和第四侧部；第一支撑件，连接在第三侧部和第四侧部之间，并具有沿第一方向相对而设的第一侧和第二侧，第一支撑...
    2026-03-11
  • 气浴发生器、防污染装置及光刻设备
    气浴发生器、防污染装置及光刻设备_智慧星空(上海)工程技术有限公司_202411984741.8
    本申请公开了一种气浴发生器、防污染装置及光刻设备，涉及光刻设备相关技术领域，用于解决现有的气浴发生器的出气气流均匀性差的问题。本申请提供的气浴发生器包括环状本体，环状本体内形成有导入流道和导出流道，环状本体的径向外侧开设有进气口，环状本体的...
    2026-03-11
  • 光罩感测总成的控制界面
    光罩感测总成的控制界面_微程式资讯股份有限公司_202410697756.X
    本发明提供了一种光罩感测总成的控制界面，包含有：一光罩形感测模块与一盒体。该光罩形感测模块具有一传感器与一储存器。该传感器用以感测该主体在模拟微影制程过程中的环境信息，并据以产生一侦测讯号，并储存于该储存器中；该盒体系供该光罩形感测模块放置...
    2026-03-11
  • 量测线的生成方法、装置、设备及存储介质
    量测线的生成方法、装置、设备及存储介质_中芯国际集成电路制造(上海)有限公司_202410677406.7
    本申请公开了一种量测线的生成方法、装置、设备及存储介质，该方法包括：获取掩模版图和掩模版图的曝光显影图，掩模版图包括主图形和设置在主图形附近的至少一个第一辅助图形；基于曝光显影图和掩模版图，识别第一辅助图形在曝光显影图中是否存在额外显影图形...
    2026-03-11
  • 光刻方法及光刻装置
    光刻方法及光刻装置_本源量子计算科技(合肥)股份有限公司_202410634410.5
    本发明公开了一种光刻方法及光刻装置，属于量子芯片制备技术领域。该光刻方法中，获得凹槽深度和基片厚度之差为目标芯片衬底厚度的基片，在凹槽的涂敷厚度小于凹槽深度的光刻胶层，并将掩膜版的掩膜图形和凹槽对准，对凹槽槽底进行光刻，得到目标芯片。上述方...
    2026-03-11
  • 光刻方法及光刻装置
    光刻方法及光刻装置_本源量子计算科技(合肥)股份有限公司_202410634408.8
    本发明公开了一种光刻方法及光刻装置，属于量子芯片制备技术领域。该光刻方法中，将晶圆放置于工件的凹槽槽底面，晶圆远离槽底面的表面形成有光刻胶层，并将掩膜版的掩膜图形与晶圆对准后，放置掩膜版于工件具有凹槽的第一表面，对晶圆进行光刻。上述光刻方法...
    2026-03-11
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