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  • 本发明涉及真空处理技术领域,公开了一种支撑机构及真空处理设备。支撑机构包括旋转支撑机构和/或顶升支撑机构;旋转支撑机构包括第一腔体座、动力组件、传动组件和旋转平台,第一腔体座设于真空腔室;动力组件设于第一腔体座,旋转平台的一端转动设于第一腔...
  • 本申请公开了一种金属件、镀膜方法及电子设备,所述金属件包括金属基材、打底层、过渡层以及干涉层,所述打底层覆盖于所述金属基材的表面,所述过渡层覆盖于所述打底层背离所述金属基材的表面;以及所述干涉层覆盖于所述过渡层背离所述打底层的表面,所述干涉...
  • 本发明涉及刀具表面处理技术领域,且公开了一种刀具用PVD涂层的制备工艺,该工艺包括刀具基体预处理、涂层沉积设备调试、基体等离子体清洗、过渡层沉积、纳米多层涂层沉积及后处理步骤。本发明制备的涂层与基体结合力强,纳米硬度可达35‑40GPa,摩...
  • 本申请涉及可见光‑短波红外镀膜技术领域,实施例具体公开了一种适用480‑1970nm波段超宽带减反膜及其制备方法,包括:从下至上依次设置的基底层和空气层,以及设置于所述基底层和空气层之间的膜层结构;所述基底层的材料为H‑QK3、H‑LaF1...
  • 本发明涉及金属化薄膜生产技术领域,具体为一种提高金属化薄膜加厚区居中性的生产方法,包括以下步骤:S1、屏蔽层的涂覆:向金属化薄膜表面喷涂液态临时屏蔽层,经冷却固化形成固态屏蔽层;S2、加厚区的对中:通过检测设备实时监测加厚区位置,并在固态屏...
  • 本发明公开了一种镁合金结构件及其加工方法,涉及镁合金表面处理技术领域,其中,镁合金结构件包括结构件基体、设置在结构件基体表面的石墨烯涂层,石墨烯涂层包括石墨烯、粘结剂和硅烷偶联剂,其中,石墨烯、粘结剂及硅烷偶联剂的质量比为(2‑25):(3...
  • 本发明公开了旋转阴极靶端头表面处理工艺,包括以下步骤:S1、设计加工:设计旋转阴极靶端头并进行相应的机械加工;S2、去毛刺:在S1中的机械加工完成的旋转阴极靶端头上去毛刺并进行倒角;S3、一次清洗:利用酒精对S2中完成去毛刺和倒角的旋转阴极...
  • 本发明涉及一种用于碳化硅单晶的耐高温增透膜及其制备方法。所述用于碳化硅单晶的耐高温增透膜的结构包括:碳化硅基底,所述碳化硅基底包括相背的第一表面和第二表面;沉积于所述第一表面的第一镀膜膜层;以及,沉积于所述第二表面的第二镀膜膜层。
  • 本申请公开了一种基于界面应力调控的PZT多层压电薄膜制备方法,属于薄膜制备技术领域。包括:S1提供衬底;S2对衬底进行预处理,得到处理好的衬底;S3将处理好的衬底固定在磁控溅射腔室内PZT靶材的上方,关闭腔室,将腔室内的气压抽至第一压力值,...
  • 本发明属于超级电容器电极材料技术领域,具体涉及一种Zn掺杂氮化钼薄膜及其制备方法和应用。本发明采用钼靶和锌钯作为靶材,氮气作为反应气体进行磁控溅射,在衬底表面得到初始Zn掺杂氮化钼薄膜,所述初始Zn掺杂氮化钼薄膜中Zn元素的掺杂量为0.5~...
  • 本公开涉及掩模组件和制造掩模组件的方法。方法包括:提供晶圆;在晶圆上形成第一无机层;在第一无机层上形成第二无机层;蚀刻晶圆以形成单元开口;在第一无机层的通过单元开口暴露的后表面上形成光敏层;蚀刻光敏层以形成多个光敏开口;各向同性蚀刻第一无机...
  • 本公开涉及用于沉积的掩模以及显示系统。用于沉积的掩模包括沉积区域和非沉积区域,该掩模包括:晶片衬底,包括彼此间隔开的多个第一开口;无机层,设置在晶片衬底上并且包括多个第二开口,该多个第二开口各自在平面图中与多个第一开口中的相应一个重叠;图案...
  • 本发明属于粉末渗锌技术领域,具体公开了一种提升电力金具粉末渗锌过程温度均匀性的装置,包括底座,底座的上壁设有下安装板,下安装板的上壁铰接设有上安装板,上安装板的上部贯穿设有旋转管,旋转管的端部固定设有外旋转壳体,旋转轴贯穿外旋转壳体和旋转管...
  • 本发明公开了一种低温渗碳的卡环与卡套式接头及其制备方法,属于低温渗碳方法的技术领域。所述制备方法包括:将奥氏体不锈钢卡环进行预处理,使其表面粗糙度Ra达到1.6‑3.5μm;将固含量为10‑15wt%的PTFE水分散液喷涂至所预处理卡环的表...
  • 本发明公开了一种渗碳防变形夹具,包括夹具本体,夹具本体为筒状结构,夹具本体内圆形状与工件外表面形状相配合,夹具本体外圆上成环形均布若干个夹具槽,夹具槽两侧均开有侧孔,夹具槽通过侧孔与夹具本体内圆连通;夹具本体外圆采用外圈固定。本发明从控制变...
  • 本发明涉及一种微基站组装中液态金属导热界面的原位自形成方法,属于微电子器件组装与热管理技术领域。该方法旨在解决液态金属在微基站基板上润湿性差导致导热界面不均匀、以及其易氧化影响导热性能与稳定性的技术问题。其技术方案要点包括:对基板进行等离子...
  • 本发明公开了一种用于丝/粉同步喷涂的改进型水冷式等离子喷枪系统,包括:等离子喷枪;以及绝缘垫板,其设置在所述等离子喷枪的一侧,且所述绝缘垫板可相对所述等离子喷枪横向移动;水冷支架,其设置在相对所述等离子喷枪的绝缘垫板的一侧,且所述水冷支架可...
  • 本发明公开了一种用于长时高效喷涂丝/粉的水冷式等离子喷枪系统,包括:等离子喷枪;以及绝缘板,其可拆卸的设置在所述等离子喷枪的一侧,且所述绝缘板可相对所述等离子喷枪转动;水冷支架,其可拆卸的设置在相对所述等离子喷枪的绝缘板另一侧,且所述水冷支...
  • 本发明提供一种用于靶材生产的等离子喷涂辅助装置,属于靶材生产技术领域,包含喷枪,喷枪的竖向两边各自安设着上固定件与下固定件,上固定件与下固定件的左右两边经由螺栓固连,喷枪的前侧设有喷嘴,喷嘴的上方安设着遮挡板,遮挡板的上方安设着送粉嘴,上固...
  • 本发明提供了一种离心泵过流部件表面防腐耐磨方法,包括:对离心泵过流部件表面净化处理;对离心泵过流部件表面粗化处理;对离心泵过流部件表面预热处理;采用等离子喷涂工艺和异型零件喷涂装置对过流部件进行喷涂处理,喷涂用的氧化陶瓷材料包括如下质量百分...
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