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多方向输入装置
本发明提供一种能够提高检测精度并且实现装置的小型化的多方向输入装置。本发明的一方式为一种多方向输入装置, 具备:框体, 具有收纳空间;摆动体, 被支承为能够在收纳空间内摆动;第一连动部件, 被支承为能够以X方向为旋转中心转动;第二连动部件,...
通过旋转力传递来致动电动开关装置的电动远程驱动器、远程驱动装置和远程驱动单元
本发明涉及一种电动远程驱动器(2), 用于通过经由换档轴(5)的旋转力传递来致动电动开关装置(4), 电动远程驱动器(2)具有两个致动器(6), 两个致动器(6)彼此独立地被致动并作为相对的电磁体作用于可移位地安装的滑块(10)上。滑块(1...
汽车音频控制开关
本发明提供了汽车音频控制开关, 包括盒体, 盒体内部顶端设有动力移动块B, 动力移动块B内侧上方设有动力移动块A, 动力移动块A外侧上方套设有拨环, 拨环内侧上方设有电源按钮, 电源按钮顶端外侧设有电源旋钮, 通过采用微动按键, 符合设计手...
一种气体绝缘断路器及其断路机构
本发明公开了一种气体绝缘断路器及其断路机构, 涉及到气体绝缘断路器技术领域, 包括芯柱, 所述芯柱的外部固定连接有伞套, 所述芯柱的上下两端均转动连接有卡座, 芯柱的顶部转动连接有第一横板, 第一横板固定连接在上端卡座的底部, 第一横板远离...
低功率继电器驱动装置和方法以及低功率继电器装置
提供一种低功率继电器驱动装置, 该低功率继电器驱动装置包括:信号生成模块, 被配置成针对包括线圈和开关元件的继电器生成驱动信号;第一开关元件, 连接到信号生成模块和继电器;第二开关元件, 连接在第一开关元件与继电器之间, 并与电阻器并联连接...
继电器
本申请涉及一种继电器。该继电器包括移动件与动接触组件;移动件能够活动并具有安装孔;动接触组件通过锁紧件安装于移动件上, 锁紧件包括压盖及多个弹性臂, 压盖位于移动件的外部并抵靠移动件, 弹性臂穿设于安装孔并能够依靠自身的回弹力抱紧移动件而进...
用于电气系统的开关设备
本公开的实施例涉及用于电气系统的开关设备。一种用于低压或中压电气系统的开关设备, 其中开关设备包括一个或多个开关极, 其中, 对于每个开关极, 开关设备包括:第一极端子和第二极端子, 与电线的对应导体可联接;固定触头组件, 包括电连接到第一...
一种执行机构及断路器
本申请提供一种执行机构及断路器, 涉及低压电器技术领域, 本申请的执行机构, 包括壳体以及设置于壳体内的齿轮组和手柄传动件, 手柄传动件与齿轮组啮合, 齿轮组包括多个相互啮合的齿轮, 壳体的外壁还连接设置有释放卡死件, 释放卡死件包括顶杆和...
灭弧结构和断路器
灭弧结构, 包括导磁装置、静触头、动触头和灭弧室, 灭弧室、静触头的沿第一方向设置的竖直段、动触头沿第二方向依次排布, 导磁装置包括导磁环和两个导磁脚, 导磁环绕静触头设置, 并在面向动触头的一侧留有缺口, 两个导磁脚沿第三方向间隔设置在导...
电气装置、电熔断器系统和触发电熔断器系统的过程
本发明涉及电气装置(1)、电熔断器系统和触发电熔断器系统的过程, 该电气装置(1)包括电气元件(3、5)、电导体(7), 该电导体(7)通过保持元件(2)保持在距电气元件(3、5)恒定的距离上, 并且该电导体(7)通过连结元件(6、10)电...
一种适应空心阴极侵蚀过程的六硼化镧发射体
本发明提供了一种适应空心阴极侵蚀过程的六硼化镧发射体, 该发射体以六硼化镧为材料, 整体呈轴向对称的星型柱体结构, 其横截面为含n个均匀分布星角与n个星槽的规则星型, 相邻星角侧边形成星边夹角θ, 且发射体肉厚e。H点(即直线C‑D段消失的...
一种小型化周期永磁聚焦的超构材料返波振荡器
本发明公开了一种小型化周期永磁聚焦的超构材料返波振荡器, 包括超构材料慢波结构、耦合腔、周期永磁聚焦系统和同轴输出接口;超构材料慢波结构包括波导外壳、周期谐振结构和第一真空间隙;耦合腔包括耦合腔外壳、耦合腔内导体和第二真空间隙, 耦合腔内导...
准直装置及半导体工艺腔室
本发明提供一种准直装置及半导体工艺腔室, 准直装置包括准直主体、遮蔽主体和电势过渡件, 准直主体用于对粒子进行准直, 遮蔽主体呈环状, 并环绕准直主体设置, 且遮蔽主体的顶部相对于准直主体向上延伸, 电势过渡件呈环状, 并设置在遮蔽主体的上...
一种冷热两用透射电镜原位样品杆
本发明提供了一种冷热两用透射电镜原位样品杆, 包括手柄、杆身、杆头。所述手柄部分, 设有外部电源接口与冷源导管接口, 可外接加热电源、冷源等实现电流、冷却介质等流入样品杆杆头部分以实现加热或制冷功能。所述杆头部分设置有:载物台、冷却介质导管...
一种电感耦合等离子体刻蚀设备及其使用方法
本申请实施例涉及一种电感耦合等离子体刻蚀设备及其使用方法, 该设备包括:刻蚀腔;供气系统:供气系统与刻蚀腔连接, 供气系统用于向刻蚀腔内输送刻蚀气体;真空系统:真空系统与刻蚀腔连接, 真空系统用于从刻蚀腔内排出气体;阻抗调节装置:阻抗调节装...
下电极组件、半导体工艺设备及工艺方法
本发明提供一种下电极组件、半导体工艺设备及工艺方法, 下电极组件包括:承载部, 用于承载晶圆;调节电极, 设置在所述承载部内, 所述调节电极包括:设置在同一平面内的多个子电极;阻抗调节装置, 包括:多个阻抗调节单元, 所有所述阻抗调节单元与...
上电极组件及等离子体处理装置
本发明公开了一种上电极组件和等离子体处理装置, 其中上电极组件中的加热部件包括发热元件、通电元件以及设置在发热元件和通电元件之间的介质层, 通电元件与发热元件在竖直方向的投影存在重叠区域, 并且介质层至少部分设置于所述重叠区域中;所述通电元...
气体注入系统及包括其的半导体处理系统
公开了气体注入系统和包括这种气体注入系统的半导体处理系统。所公开的气体注入系统包括注入器壳体, 其具有第一系列注入端口和分开的第二系列注入端口, 这些注入端口被构造和布置成减少反应室的内表面上的寄生沉积。还公开了用于在反应室内形成含硅层的方...
一种过滤装置和半导体的工艺设备
本发明公开了一种过滤装置和半导体的工艺设备。该过滤装置设置于反应腔体中, 包括金属过滤板, 用于过滤所述反应腔体内的等离子体中的带电离子, 该过滤装置还包括:非金属过滤板, 至少位于所述金属过滤板的一侧, 作为所述过滤装置与所述等离子体的直...
具有非均匀曲率半径的电喷雾发射器
本公开涉及具有非均匀曲率半径的电喷雾发射器。多个液滴束流由设置在流动构件的远侧端部处的成形孔产生。该液滴束流与剪切气体流相互作用并被剪切气体流去溶剂化。通过选择合适的提取电场, 可以在固定位置产生可变数量的液滴束流。
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